名称:
RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, NOVEL COMPOUND, AND ACID GENERATOR
摘要:
一种抗蚀组合物,包括在酸和酸发生剂组分(B)的作用下,在碱性显影溶液中表现出改变溶解性的基础组分(A),所述酸发生剂组分(B)包括由(b1-1)表示的化合物,由(b1-1')表示的化合物和/或由(b1-1'')表示的化合物(R1''-R3''表示芳基或烷基,但至少其中一个R1''-R3''表示被(b1-1-0)表示的基团取代的取代芳基,且其中两个R1''-R3''可以相互键合以形成与硫原子形成环的环;X表示C3-C30烃基;Q1表示含有羰基的二价连接基团;X10表示C1-C30烃基;Q3表示单键或二价连接基团;Y10表示—C(═O)—或—SO2—;Y11表示C1-C10烷基或氟代烷基;Q2表示单键或烷基基团;W表示C2-C10烷基基团。