4-疏基吡啶-2-羧酸 | 18103-74-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 吡啶及其衍生物
• 中文名称: 4-疏基吡啶-2-羧酸
• 中文别名: 4-巯基吡啶-2-羧酸
• 英文名称: 4-thio-2-pyridinecarboxylic acid
• 英文别名: mercapto-4 pyridinecarboxylique-2；4-thio-2pyridine carboxylic acid；2-carboxy-4-mercaptopyridine；4-Mercaptopicolinsaeure；4-Mercaptopyridine-2-carboxylic acid；4-sulfanylidene-1H-pyridine-2-carboxylic acid
• CAS: 18103-74-7
• 化学式: C₆H₅NO₂S
• 分子量: 155.177
• InChiKey: AUUIRFYPVRFOFN-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  188-190℃
• 沸点：
  365℃
• 密度：
  1.439
• 闪点：
  175℃

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.5
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  81.4
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  4

安全信息

• 海关编码：
  2933399090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  methyl 3-((3-(2-(7-chloro-2-quinolinyl)ethenyl)phenyl)chloromethyl)benzoate 、 Cs2 CO3 、 2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚 、 4-疏基吡啶-2-羧酸 生成 methyl 3-(1-(3-(2-(7-chloro-2-quinolinyl)ethenyl)phenyl)-1-((2-carboxy-4-pyridinyl)thio)methyl)benzoate
  参考文献：
  名称：

  摘要：

  DOI：

文献信息

• CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE DRY FILM, METHOD OF MANUFACTURING PHOTOSENSITIVE DRY FILM, METHOD OF MANUFACTURING PATTERNED RESIST FILM, METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE WITH TEMPLATE, METHOD OF MANUFACTURING PLATED ARTICLE, AND MERCAPTO COMPOUND
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20190121233A1

  公开（公告）日：2019-04-25

  A chemically amplified positive-type photosensitive resin composition capable of suppressing the occurrence of “footing” in which the width of the bottom (the side proximal to the surface of a support) becomes narrower than that of the top (the side proximal to the surface of a resist layer) in the nonresist portion; and the generation of development residue when a resist pattern serving as a template for a plated article is formed on a metal surface of a substrate using the photosensitive resin composition. A mercapto compound having a specific structure is included in the photosensitive resin composition, and includes an acid generator which generates acid upon exposure to an irradiated active ray or radiation, and a resin whose solubility in alkali increases under the action of acid.

  一种化学增感型正型光敏树脂组合物，能够抑制“足部”现象的发生，即底部（靠近支撑表面的一侧）的宽度变窄，小于顶部（靠近抗蚀层表面的一侧）的宽度，同时在使用该光敏树脂组合物在基板的金属表面上形成用作电镀物品模板的抗蚀图案时，能够减少残留物的产生。该光敏树脂组合物中包含一种具有特定结构的巯基化合物，其中包括一个酸发生剂，该酸发生剂在暴露于辐射活性光线或辐射时产生酸，以及一种树脂，在酸的作用下其在碱性溶液中的溶解度增加。
• AMINOPYRAZOLE KINASE INHIBITORS
  申请人：Dodier Marco

  公开号：US20100022503A1

  公开（公告）日：2010-01-28

  The present invention provides compounds of formula (I) and pharmaceutically acceptable salts thereof. The formula (I) compounds inhibit tyrosine kinase activity thereby making them useful as anticancer agents.

  本发明提供了公式(I)的化合物及其药学上可接受的盐。公式(I)的化合物抑制酪氨酸激酶活性，因此可用作抗癌剂。
• METHODS AND INTERMEDIATES FOR CHEMICAL SYNTHESIS OF POLYPEPTIDES AND PROTEINS
  申请人：Dong Zheng Xin

  公开号：US20100204449A1

  公开（公告）日：2010-08-12

  The present invention relates to methods and intermediates for chemical synthesis of polypeptides and proteins, and more particularly to methods and intermediates for chemically ligating a peptide fragment containing N-terminal β-methyl-cysteine (SEQ ID NO: 1) with another peptide fragment having C-terminal thioester to generate a β-amino-thioester intermediate that spontaneously rearranges to form an amide bond. The invention also relates to methods of synthesizing β-methyl-cysteine (SEQ ID NO: 1) and its protected forms. Furthermore, the invention relates to converting a β-methyl-thiazolidine residue to a β-methyl-cysteine (SEQ ID NO: 1) residue of polypeptides and proteins.

  本发明涉及用于化学合成多肽和蛋白质的方法和中间体，更具体地涉及用于化学连接含有N-末端β-甲基半胱氨酸（SEQ ID NO: 1）的肽片段与具有C-末端硫酯酯的另一个肽片段以生成β-氨基硫酯中间体的方法和中间体，该中间体自发重排形成酰胺键。本发明还涉及合成β-甲基半胱氨酸（SEQ ID NO: 1）及其保护形式的方法。此外，本发明还涉及将β-甲基噻唑啉残基转化为多肽和蛋白质中的β-甲基半胱氨酸（SEQ ID NO: 1）残基的方法。
• Copolymerisat, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung als Sorptionsmittel
  申请人：CASSELLA Aktiengesellschaft

  公开号：EP0131179A1

  公开（公告）日：1985-01-16

  Das vernetzte Copolymerisat mit 75 bis 99,9 Gew.% wiederkehrender Einheiten einer eine polymerisierbare olefinische Gruppe enthaltenden Pyridyl-, Chinolyl-, Isochinolyl- oder Pyrazinyl-Verbindung, 0,1 bis 25 Gew.% Einheiten eines Vernetzers und 0 bis 25 Gew.% Einheiten einer polymerisierbaren silizium- und/oder bor-organischen Verbindung und, bezogen auf 100 Gew% der Summe der vorgenannten Einheiten, 5 bis 350 Gew.% Einheiten eines N-Vinyl-amids wird durch Perlpolymerisation hergestellt und als Sorptionsmittel für saure Substanzen aus ihren wäßrigen Lösungen verwendet.

  交联共聚物包括 75-99.9%（按重量计）含有可聚合烯烃基的吡啶基、喹啉基、异喹啉基 或吡嗪基化合物的重复单元，0.1-25%（按重量计）的交联剂单元，0-25%（按重量计）的 可聚合有机硅和/或有机硼化合物单元，以及 5-350%（按重量计）的 N-乙烯基酰胺单元。通过珠状聚合法，制备出 % 的可聚合有机硅和/或有机硼化合物单元和 5 至 350 % 的 N-乙烯基酰胺单元（按上述单元重量总和的 100%计算），用作酸性物质水溶液的吸附剂。
• Diarylquinoline diacids and their use as medicaments
  申请人：MERCK FROSST CANADA INC.

  公开号：EP0318093A2

  公开（公告）日：1989-05-31

  Compounds having the formula: are leukotriene antagonists and nhibtors of leukotriene biosynthesis. These compounds are useful as anti-asthmatic anti-allergic, anti-inflammatory and cytoprotective agents.

  具有以下式子的化合物 是白三烯拮抗剂和白三烯生物合成抑制剂。这些化合物可用作抗哮喘、抗过敏、抗炎和细胞保护剂。