3-Methylsulfonyl-4-methyl-benzolsulfonamid | 1671-53-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 3-Methylsulfonyl-4-methyl-benzolsulfonamid
• 英文别名: 4-Methyl-3-methylsulfonylbenzenesulfonamide
• CAS: 1671-53-0
• 化学式: C₈H₁₁NO₄S₂
• 分子量: 249.312
• InChiKey: SWPOOEHLAWCGIE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.1
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.25
• 拓扑面积：
  111
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  邻甲苯磺酰氯 反应 3.0h， 生成 3-Methylsulfonyl-4-methyl-benzolsulfonamid
  参考文献：
  名称：

  Kugita,H. et al., Chemical and pharmaceutical bulletin, 1962, vol. 10, p. 1001 - 1008

  摘要：

  DOI：

文献信息

• MODIFIED AMINO RESINS
  申请人：Allnex IP S.à.r.l.

  公开号：EP2828324A1

  公开（公告）日：2015-01-28
• US5648434A
  申请人：——

  公开号：US5648434A

  公开（公告）日：1997-07-15
• US9139954B2
  申请人：——

  公开号：US9139954B2

  公开（公告）日：2015-09-22
• [EN] BAKEABLE LITHOGRAPHIC PRINTING PLATES WITH A HIGH RESISTANCE TO CHEMICALS<br/>[FR] PLAQUES D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE SUSCEPTIBLES DE CUISSON À FORTE RÉSISTANCE AUX PRODUITS CHIMIQUES
  申请人：EASTMAN KODAK CO

  公开号：WO2007121871A1

  公开（公告）日：2007-11-01

  [EN] A singe- or multilayer lithographic printing plate precursor comprises on a substrate a radiation-sensitive coating that comprises a copolymer soluble or dispersible in aqueous alkaline solution and comprising (meth)acryl recurring units, imide recurring units, and amide recurring units derived from corresponding ethylenically unsaturated polymerizable monomers; the copolymer provides increased chemical resistance for the lithographic printing plate precursors which can be negatively or positively working.
  [FR] Le précurseur pour plaque d'impression lithographique monocouche ou multicouche selon l'invention comprend, sur un substrat, un revêtement sensible au rayonnement qui comprend un copolymère soluble ou dispersible dans une solution alcaline aqueuse et comprenant des unités (méth)acryliques récurrentes, des unités imide récurrentes, et des unités amide récurrentes dérivées de monomères polymérisables éthyléniquement insaturés correspondants ; le copolymère conférant une résistance chimique accrue aux précurseurs pour plaques d'impression lithographique qui peuvent fonctionner négativement ou positivement.
• [EN] MODIFIED AMINO RESINS<br/>[FR] RÉSINES AMINO MODIFIÉES
  申请人：CYTEC TECH CORP

  公开号：WO2013142787A1

  公开（公告）日：2013-09-26

  This invention relates to products H made by reaction of a cyclic alkyleneurca U, at least one multifunctional aldehyde A2, and at least one of (a) an aminoplast former M that is not the same as the cyclic alkyleneurea U, and (b) a monofunctional aldehyde Al, which product H is optionally etherified by reaction of at least a part of the hydroxyl groups formed by addition reaction of N-H groups and aldehyde groups, with an alcohol having from one to ten carbon atoms, and wherein glyoxal is present in the at least one multifunctional aldehyde A2, to processes for their preparation, and to a method of use thereof in coating compositions.