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1,4-苯二羧酸,二(7-氧杂二环[4.1.0]庚-3-基甲基)酯 | 110663-79-1

中文名称
1,4-苯二羧酸,二(7-氧杂二环[4.1.0]庚-3-基甲基)酯
中文别名
——
英文名称
terephthalic acid bis-(3,4-epoxy-cyclohexylmethyl ester)
英文别名
Terephthalsaeure-bis-(3,4-epoxy-cyclohexylmethylester);Bis(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-3-ylmethyl) benzene-1,4-dicarboxylate
1,4-苯二羧酸,二(7-氧杂二环[4.1.0]庚-3-基甲基)酯化学式
CAS
110663-79-1
化学式
C22H26O6
mdl
——
分子量
386.445
InChiKey
WRUOQYMMDKPTCY-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
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  • 制备方法与用途
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  • 反应信息
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  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 熔点:
    131.5-133.0 °C(Solv: ethyl acetate (141-78-6))
  • 沸点:
    530.2±20.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.247±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.3
  • 重原子数:
    28
  • 可旋转键数:
    8
  • 环数:
    5.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.64
  • 拓扑面积:
    77.7
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    6

SDS

SDS:5ee0f767371153fea1f95dba22dc76eb
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上下游信息

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    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

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文献信息

  • POLYMERIZABLE ACTINIC RADIATION CURABLE COMPOSITION, POLYMERIZATION METHOD, ACTINIC RADIATION CURABLE INK AND IMAGE FORMATION METHOD, AND INK JET RECORDING APPARATUS AND EPOXY COMPOUND
    申请人:Konica Minolta Medical & Graphic, Inc.
    公开号:EP1840148A1
    公开(公告)日:2007-10-03
    A polymerizable actinic radiation curable composition comprising a photo-acid generating compound and an epoxy compound represented by Formula (1): wherein X represents a divalent group selected form the group consisting of -O-, -S-, -SO-, SO2- -CBr2-, -C(CBr3)2-, and -C(CF3)2-; R1 to R18 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group having 1-8 carbon atoms, provided that the hydrocarbon group may contain an oxygen atom or a halogen atom, or a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1-8 carbon atoms.
    一种可聚合的光辐射固化组合物,包含一种光酸生成化合物和一种由式 (1) 表示的环氧化合物: 其中 X 代表二价基团,选自由-O-、-S-、-SO-、SO2-、-CBr2-、-C(CBr3)2-和-C(CF3)2-组成的组;R1 至 R18 各自独立地代表氢原子、卤素原子、具有 1-8 个碳原子的烃基,条件是烃基可能含有氧原子或卤素原子,或具有 1-8 个碳原子的取代或未取代的烷氧基。
  • Liquid photoreactive composition and method of fabricating structures
    申请人:3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY
    公开号:US10133174B2
    公开(公告)日:2018-11-20
    A method of fabricating a structure includes disposing a liquid photoreactive composition on a substrate, exposing a portion of the liquid photoreactive composition to laser light of sufficient intensity and wavelength to cause polymerization via two-photon excitation of the two-photon sensitizer and polymerization of a portion of the liquid photoreactive composition thereby providing an exposed composition; and developing the exposed composition to provide the structure. The liquid composition includes: at least one cationically polymerizable polyepoxide; at least one compound comprising free-radically polymerizable groups; an effective amount of a two-photon photoinitiator system, wherein the weight ratio of component (a) to component (b) is from 25:75 to 75:25, inclusive. The two-photon photoinitiator system includes a two-photon sensitizer and an aromatic onium salt. The liquid photoreactive composition may contain less than about one percent by weight of organic solvent.
    一种制造结构的方法包括:将液态光活性组合物置于基底上,将液态光活性组合物的一部分暴露于足够强度和波长的激光,以通过双光子敏化剂的双光子激发和液态光活性组合物一部分的聚合引起聚合,从而提供暴露的组合物;以及显影暴露的组合物以提供结构。液体组合物包括:至少一种可阳离子聚合的聚环氧化物;至少一种包含可自由基聚合基团的化合物;有效量的双光子光引发剂体系,其中组分(a)与组分(b)的重量比为 25:75 至 75:25(含)。双光子光引发剂体系包括双光子敏化剂和芳香族鎓盐。液态光活性组合物中有机溶剂的含量可少于约百分之一(按重量计)。
  • Chemisch härtbare Harze aus 1-Oxa-3-aza-tetralin-gruppen enthaltenden Verbindungen und cycloaliphatischen Epoxid-harzen, Verfahren zu deren Herstellung und Härtung sowie die Verwendung solcher Harze
    申请人:Gurit-Essex AG
    公开号:EP0178414B1
    公开(公告)日:1988-01-13
  • LIQUID PHOTOREACTIVE COMPOSITION AND METHOD OF FABRICATING STRUCTURES
    申请人:3M Innovative Properties Company
    公开号:EP3077421A2
    公开(公告)日:2016-10-12
  • ACTIVE RAY CURABLE COMPOSITION, POLYMERIZATION METHOD, ACTIVE RAY CURABLE INK, IMAGE FORMING METHOD, AND INK-JET RECORDING APPARATUS
    申请人:Ookubo Kimihiko
    公开号:US20090041945A1
    公开(公告)日:2009-02-12
    An active ray curable composition comprising a compound represented by Formula (X):
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