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2-[5-(naphthalen-2-yl)-2-nitrophenyl]propan-1-ol | 702642-98-6

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
2-[5-(naphthalen-2-yl)-2-nitrophenyl]propan-1-ol
英文别名
2-(5-Naphthalen-2-yl-2-nitrophenyl)propan-1-ol
2-[5-(naphthalen-2-yl)-2-nitrophenyl]propan-1-ol化学式
CAS
702642-98-6
化学式
C19H17NO3
mdl
——
分子量
307.349
InChiKey
PRSVMEQUDDQHEM-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4.5
  • 重原子数:
    23
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    3.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.16
  • 拓扑面积:
    66
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    3

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    2-[5-(naphthalen-2-yl)-2-nitrophenyl]propan-1-ol吡啶三乙胺 作用下, 以 四氢呋喃二氯甲烷 为溶剂, 反应 6.0h, 生成 thymidine 3'-{2-[5-(naphthalen-2-yl)-2-nitrophenyl]propyl carbonate}
    参考文献:
    名称:
    基于[2-(2-硝基苯基)丙氧基]羰基(NPPOC)部分的新型高效光不稳定保护基
    摘要:
    基于光不稳定的[2-(2-硝基苯基)丙氧基]羰基(NPPOC),大量修饰的2-(2-硝基苯基)丙醇衍生物在苯环上被取代(参见23 – 34和57 – 76),以及在侧链上(见85 – 92和95 – 98)被合成以改善这种新型的光不稳定实体的光反应性。苯基部分也被萘基(请参阅102、103、105、108、110、113和114),噻吩基取代基(请参阅115、117、118和120)和苯并噻吩基取代基(请参见115、117、118和113)进行交换。121)。的2-(2- nitroaryl-和杂芳基)丙醇转化用双光气成相应carbonochloridates,其与胸苷随后反应胸苷5' - (被保护的碳酸酯)123 - 178作为主要的反应产物。在某些情况下,相应的3'-碳酸酯和3',5'-二碳酸酯179 – 212也被分离出来并进行了表征。在标准条件下的光解研究(见表)表明,光裂解的速率
    DOI:
    10.1002/hlca.200490060
  • 作为产物:
    参考文献:
    名称:
    基于[2-(2-硝基苯基)丙氧基]羰基(NPPOC)部分的新型高效光不稳定保护基
    摘要:
    基于光不稳定的[2-(2-硝基苯基)丙氧基]羰基(NPPOC),大量修饰的2-(2-硝基苯基)丙醇衍生物在苯环上被取代(参见23 – 34和57 – 76),以及在侧链上(见85 – 92和95 – 98)被合成以改善这种新型的光不稳定实体的光反应性。苯基部分也被萘基(请参阅102、103、105、108、110、113和114),噻吩基取代基(请参阅115、117、118和120)和苯并噻吩基取代基(请参见115、117、118和113)进行交换。121)。的2-(2- nitroaryl-和杂芳基)丙醇转化用双光气成相应carbonochloridates,其与胸苷随后反应胸苷5' - (被保护的碳酸酯)123 - 178作为主要的反应产物。在某些情况下,相应的3'-碳酸酯和3',5'-二碳酸酯179 – 212也被分离出来并进行了表征。在标准条件下的光解研究(见表)表明,光裂解的速率
    DOI:
    10.1002/hlca.200490060
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文献信息

  • Novel photolabile protective groups for improved processes to prepare oligonucleotide arrays
    申请人:NIGU Chemie GmbH
    公开号:US20040175741A1
    公开(公告)日:2004-09-09
    The present invention discloses novel and improved nucleosidic and nucleotidic compounds that are useful in the light-directed synthesis of oligonucleotides, as well as, methods and reagents for their preparation. These compounds are characterized by novel photolabile protective groups that are attached to either the 5′- or the 3′-hydroxyl group of a nucleoside moiety. The photolabile protective group is comprised of a 2-(2-nitrophenyl)-ethyoxycarbonyl skeleton with at least one substituent on the aromatic ring that is either an aryl, an aroyl, a heteroaryl or an alkoxycarbonyl group. The present invention includes the use of the aforementioned compounds in light-directed oligonucleotide synthesis, the respective assembly of nucleic acid microarrays and their application.
    本发明揭示了新型和改良的核苷酸和核苷酸化合物,可用于寡核苷酸的光导向合成,以及它们的制备方法和试剂。这些化合物的特点是具有新型光敏保护基,该保护基连接到核苷酸基团的5'-或3'-羟基上。光敏保护基由2-(2-硝基苯基)-乙氧羰基骨架组成,芳环上至少有一个取代基,可以是芳基、芳酰基、杂环芳基或烷氧羰基基团。本发明包括上述化合物在光导向寡核苷酸合成、核酸微阵列的组装及其应用中的使用。
  • NOVEL PHOTOLABILE PROTECTIVE GROUPS FOR IMPROVED PROCESSES TO PREPARE OLIGONUCLEOTIDE ARRAYS
    申请人:BÜHLER Sigrid
    公开号:US20100292458A1
    公开(公告)日:2010-11-18
    The present invention discloses novel and improved nucleosidic and nucleotidic compounds that are useful in the light-directed synthesis of oligonucleotides, as well as, methods and reagents for their preparation. These compounds are characterized by novel photolabile protective groups that are attached to either the 5′- or the 3′-hydroxyl group of a nucleoside moiety. The photolabile protective group is comprised of a 2-(2-nitrophenyl)-ethyoxycarbonyl skeleton with at least one substituent on the aromatic ring that is either an aryl, an aroyl, a heteroaryl or an alkoxycarbonyl group. The present invention includes the use of the aforementioned compounds in light-directed oligonucleotide synthesis, the respective assembly of nucleic acid microarrays and their application.
    本发明揭示了新型和改进的核苷酸和核苷酸化合物,其在寡核苷酸的光导向合成中有用,以及其制备的方法和试剂。这些化合物的特点是具有新型光敏保护基,该保护基连接到核苷酸基团的5'-或3'-羟基。光敏保护基由2-(2-硝基苯基)-乙氧羰基骨架组成,其芳环上至少有一个取代基,可以是芳基、芳酰基、杂环芳基或烷氧羰基基团。本发明包括上述化合物在光导向寡核苷酸合成中的使用,核酸微阵列的相应组装及其应用。
  • US7759513B2
    申请人:——
    公开号:US7759513B2
    公开(公告)日:2010-07-20
  • US8445734B2
    申请人:——
    公开号:US8445734B2
    公开(公告)日:2013-05-21
  • [EN] NOVEL PHOTOLABILE PROTECTIVE GROUPS FOR IMPROVED PROCESSES TO PREPARE OLIGONUCLEOTIDE ARRAYS<br/>[FR] NOUVEAUX GROUPES DE PROTECTION PHOTOLABILES POUR DES PROCEDES AMELIORES DE PREPARATION DE RESEAUX OLIGONUCLEOTIDIQUES
    申请人:NIGU CHEMIE GMBH
    公开号:WO2004074300A2
    公开(公告)日:2004-09-02
    The present invention discloses novel and improved nucleosidic and nucleotidic compounds that are useful in the light-directed synthesis of oligonucleotides, as well as, methods and reagents for their preparation. These compounds are characterized by novel photolabile protective groups that are attached to either the 5'- or the 3'- hydroxyl group of a nucleoside moiety. The photolabile protective group is comprised of a 2-(2-nitrophenyl) ethyoxycarbonyl skeleton with at least one substituent on the aromatic ring that is either an aryl, an aroyl, a heteroaryl or an alkoxycarbonyl group. The present invention includes the use of the aforementioned compounds in light-directed oligonucleotide synthesis, the respective assembly of nucleic acid microarrays and their application.
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