Ethyl 3,5-dihydroxy-4-methoxybenzoate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: Ethyl 3,5-dihydroxy-4-methoxybenzoate
• 化学式: C₁₀H₁₂O₅
• 分子量: 212.2
• InChiKey: GOZNKYAWCJCQEV-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.6
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.3
• 拓扑面积：
  76
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  5

文献信息

• Radiation-sensitive positive resist composition
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED

  公开号：EP0358871A2

  公开（公告）日：1990-03-21

  A positive resist composition which comprises a 1,2-quinone diazide compound and an alkali-soluble resin containing a polyphenol compound (I) of the general formula: X-α-H      (I) wherein X is a group of the formula: and α is a divalent group which comprises a repeating unit of the formula: in which n is a number of not less than 1; a, b, c, d, e and f are the same or different and a number of 0-3, provided that d + f is not less than 1; R₁, R₂ and R₃ are the same or different and a C₁-C₁₈ alkyl group, a C₁-₁₈ alkoxy group, a carboxyl group or a halogen atom; R₄ is a hydrogen atom, a C₁-C₁₈ alkyl group or an aryl group, which which resist composition is sensitive to radiation and has good balance of sensitivity, resolving power and heat resistance.

  一种阳离子抗蚀剂组合物，它由 1，2-醌二叠氮化合物和含有通式为 X-α-H (I) 其中 X 是式中的一个基团： 和 α 是二价基团，包括式中的重复单元： 其中 n 为不小于 1 的数字；a、b、c、d、e 和 f 为相同或不同且为 0-3 的数字，条件是 d + f 不小于 1；R₁、R₂ 和 R₃ 是相同或不同的 C₁-C₁₈ 烷基、C₁-₁₈ 烷氧基、羧基或卤原子；R₄ 是氢原子、C₁-C₁₈ 烷基或芳基，这种抗蚀剂组合物对辐射敏感，并在敏感性、分辨力和耐热性之间具有良好的平衡。