(2,6-Dihydroxyphenyl)-(3,5-dihydroxyphenyl)methanone

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: (2,6-Dihydroxyphenyl)-(3,5-dihydroxyphenyl)methanone
• 化学式: C₁₃H₁₀O₅
• 分子量: 246.21
• InChiKey: GZEGXIHIBGTJNO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.4
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  98
• 氢给体数：
  4
• 氢受体数：
  5

文献信息

• Positive resist film laminate and pattern forming process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US10719015B2

  公开（公告）日：2020-07-21

  A laminate comprising a thermoplastic film and a positive resist film is provided, the positive resist film comprising (A) a novolak resin-naphthoquinone diazide (NQD) base resin composition, (B) a polyester, and (C) 3-30 wt % of an organic solvent. The resist film may be transferred to a stepped support without forming voids.

  提供了一种由热塑性薄膜和正极抗蚀膜组成的层压板，正极抗蚀膜包括 (A) 酚醛树脂-重氮化萘醌（NQD）基树脂组合物、(B) 聚酯和 (C) 3-30 wt % 的有机溶剂。抗蚀剂薄膜可转移到阶梯状支撑物上而不会形成空隙。
• POSITIVE RESIST FILM LAMINATE AND PATTERN FORMING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP3392708B1

  公开（公告）日：2020-03-18
• US5686557A
  申请人：——

  公开号：US5686557A

  公开（公告）日：1997-11-11