在过量的
吡啶配体L存在下,四氧化将叔
硅烷(Et(3)SiH,(i)Pr(3)SiH,Ph(3)SiH或PhMe(2)SiH)氧化为相应的
硅烷醇。当L =
4-叔丁基吡啶((t)Bupy)时,OsO(4)((t)Bupy)氧化Et(3)SiH和PhMe(2)SiH,生成100 +/- 2%的
硅烷醇,结构表征的((VI)mu-oxo二聚体[OsO(2)((t)Bupy)(2)](2)(mu-O)(2)(1a)。当L =
吡啶(py)时,仅获得40%至60%的R(3)SiOH收率,这显然是由于((VIII)与[Os(O)(2)py(2)](2)( mu-O)(2)(1b)。在这些反应中过量的
硅烷会导致OsVI产物的进一步还原,并且在PhSiH(3),Bu(3)SnH和
硼烷中观察到类似的““过度还原”。OsO(4)(L)+ R(3)SiH的途径涉及一个中间体,该中间体在200 K时迅速形成,而衰