Sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
申请人:Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
公开号:US07928262B2
公开(公告)日:2011-04-19
Sulfonate salts have the formula: HOCH2CH2CF2CF2SO3−M+ wherein M+ is a Li, Na, K, ammonium or tetramethylammonium ion. Onium salts, oxime sulfonates and sulfonyloxyimides derived from these salts are effective photoacid generators in chemically amplified resist compositions.
磺酸盐的
化学式为:HOCH2CH2
CF2CF2SO3−M+,其中M+代表
锂离子、
钠离子、
钾离子、
铵离子或
四甲基铵离子。由这些盐衍生的Onium盐、
肟磺酸盐和磺酰氧
肟盐在
化学增感抗蚀剂组合物中是有效的光酸发生剂。