triphenylsulfonium 1,1-difluoro-2-tosyloxyethanesulfonate | 935441-94-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: triphenylsulfonium 1,1-difluoro-2-tosyloxyethanesulfonate
• 英文别名: Triphenylsulfonium 1,1-difluoro-2-tosyloxyethanesulfonate；1,1-difluoro-2-(4-methylphenyl)sulfonyloxyethanesulfonate;triphenylsulfanium
• CAS: 935441-94-4
• 化学式: C₉H₉F₂O₆S₂*C₁₈H₁₅S
• 分子量: 578.679
• InChiKey: CUUNVRFRKVLEGE-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.62
• 重原子数：
  38
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.11
• 拓扑面积：
  118
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  氯化三苯基硫 、 sodium 1,1-difluoro-2-tosyloxyethanesulfonate 在 水 、 异丙醚 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 生成 triphenylsulfonium 1,1-difluoro-2-tosyloxyethanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  Novel sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions, and patterning process

  摘要：

  磺酸盐的化学式为：R1SO3—CH(Rf)-CF2SO3−M+，其中R1是烷基或芳基，Rf是氢或三氟甲基，M+是锂、钠、钾、铵或四甲基铵离子。从这些磺酸盐衍生出来的离子盐、肟磺酸盐和磺酰氧基亚胺等化合物在化学增感胶组成物中是有效的光酸发生剂。

  公开号：

  US20070099112A1

文献信息

• Sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US07531290B2

  公开（公告）日：2009-05-12

  Sulfonate salts have the formula: R1SO3—CH(Rf)—CF2SO3−M+ wherein R1 is alkyl or aryl, Rf is H or trifluoromethyl, and M+ is a Li, Na, K, ammonium or tetramethylammonium ion. Onium salts, oximesulfonates and sulfonyloxyimides and other compounds derived from these sulfonate salts are effective photoacid generators in chemically amplified resist compositions.

  磺酸盐的化学式为：R1SO3—CH(Rf)—CF2SO3−M+，其中R1代表烷基或芳香族基，Rf代表氢或三氟甲基，M+代表锂、钠、钾、铵或四甲基铵离子。从这些磺酸盐衍生出来的离子盐、氧化磺酰肟和磺酰氧基亚胺等化合物是化学放大型光刻胶组成中有效的光酸发生剂。
• Novel fluorosulfonyloxyalkyl sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP1780198B1

  公开（公告）日：2011-10-05
• US7531290B2
  申请人：——

  公开号：US7531290B2

  公开（公告）日：2009-05-12
• Novel sulfonate salts and derivatives, photoacid generators, resist compositions, and patterning process
  申请人：Kobayashi Katsuhiro

  公开号：US20070099112A1

  公开（公告）日：2007-05-03

  Sulfonate salts have the formula: R 1 SO 3 —CH(Rf)-CF 2 SO 3 − M + wherein R 1 is alkyl or aryl, Rf is H or trifluoromethyl, and M + is a Li, Na, K, ammonium or tetramethylammonium ion. Onium salts, oximesulfonates and sulfonyloxyimides and other compounds derived from these sulfonate salts are effective photoacid generators in chemically amplified resist compositions.

  磺酸盐的化学式为：R1SO3—CH(Rf)-CF2SO3−M+，其中R1是烷基或芳基，Rf是氢或三氟甲基，M+是锂、钠、钾、铵或四甲基铵离子。从这些磺酸盐衍生出来的离子盐、肟磺酸盐和磺酰氧基亚胺等化合物在化学增感胶组成物中是有效的光酸发生剂。