2-cyclohexyl-1-naphthol | 64598-35-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2-cyclohexyl-1-naphthol
• 英文别名: 1-Hydroxy-2-cyclohexyl-naphthalin；2-Cyclohexyl-[1]naphthol；2-Cyclohexylnaphthalen-1-ol
• CAS: 64598-35-2
• 化学式: C₁₆H₁₈O
• 分子量: 226.318
• InChiKey: PTROOKTVPZZUNX-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  340.5±11.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.113±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.4
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.38
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-cyclohexyl-1-naphthol 在 盐酸 、 双氧水 作用下， 以 水 为溶剂， 以68%的产率得到2-环己基-1,4-萘醌
  参考文献：
  名称：

  Simple and effective route for synthesis of parvaquone, an antiprotozoal drug

  摘要：

  帕瓦醌，一种抗原虫药物，通过四个步骤从1-萘酚和环己醇制得，总产率为33.8%：首先进行新颖的酸催化环己基化反应得到86%的2-环己基-1-萘酚，然后进行氧化、环氧化和异构化。

  DOI：

  10.1039/c4ra09934f
• 作为产物：
  描述：

  萘酚 、 环己烯 以60%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  AXMEDOVA, R. A.;FARADZHEVA, EH. Z.;SARDAROVA, T. A.;MUTAFAEVA, P. R., SINTEZY I ISSLED. FUNKTS.-ZAMESHCHEN. SOED., BAKU,(1988) S. 35-37

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Method of alkylating phenols
  申请人：DOW CHEMICAL CO

  公开号：US02125310A1

  公开（公告）日：1938-08-02
• Kral, Andreas; Laatsch, Hartmut, Zeitschrift fur Naturforschung, B: Chemical Sciences, 1993, vol. 48, # 10, p. 1401 - 1407
  作者：Kral, Andreas、Laatsch, Hartmut

  DOI：——

  日期：——
• Alberti, Justus Liebigs Annalen der Chemie, 1926, vol. 450, p. 316
  作者：Alberti

  DOI：——

  日期：——
• Kraftübertragungsfluide
  申请人：BAYER AG

  公开号：EP0047448B1

  公开（公告）日：1983-09-21
• COMPOSITION FOR FORMING BASE FILM FOR LITHOGRAPHY AND METHOD FOR FORMING MULTILAYER RESIST PATTERN
  申请人：Oguro Dai

  公开号：US20100316950A1

  公开（公告）日：2010-12-16

  A composition for forming an underlayer film for lithography for imparting excellent optical characteristics and etching resistance to an underlayer film for lithography, an underlayer film being formed of the composition and having a high refractive index (n) and a low extinction coefficient (k), being transparent, having high etching resistance, containing a significantly small amount of a sublimable component, and a method for forming a pattern using the underlayer film are provided. The composition for forming an underlayer film contains a naphthalene formaldehyde polymer having a specific unit obtained by reacting naphthalene and/or alkylnaphthalene with formaldehyde, and an organic solvent.