Strahlungsempfindliches Gemisch und Verfahren zur Herstellung von Reliefstrukturen mit verbessertem Kontrast
申请人:BASF Aktiengesellschaft
公开号:EP0616258A1
公开(公告)日:1994-09-21
Die Erfindung betrifft positiv arbeitende strahlungsempfindliche Gemische, im wesentlichen bestehend aus
(a1) einem säurelabile Gruppierungen enthaltenden, in Wasser unlöslichen organischen Bindemittel, das durch Einwirkung von Säure in wäßrig-alkalischen Lösungen löslich wird, oder
(a2.1) einem in Wasser unlöslichen, in wäßrig-alkalischen Lösungen löslichen polymeren Bindemittel und
(a2.2) einer organischen Verbindung, deren Löslichkeit in einem wäßrig-alkalischen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird, und
(b) einer organischen Verbindung, welche unter Einwirkung von aktinischer Strahlung eine Säure erzeugt,
die zusätzlich
(c) eine stark basische organische Verbindung mit Hydroxy-, Alkoxy- oder Phenoxy-Anionen enthalten.
Dieses Gemisch eignet sich zur Herstellung von Reliefstrukturen mit verbessertem Kontrast.
本发明涉及正工作辐射敏感混合物,其主要成分包括
(a1) 一种有机粘合剂,它含有耐酸基团,不溶于水,在酸的作用下可溶于碱性水溶液,或
(a2.1) 不溶于水但可溶于碱性水溶液的聚合物粘合剂,和
(a2.2) 在水-碱性显影剂中的溶解度因酸的作用而增加的有机化合物,及 (a3.3) 在水-碱性溶液中的溶解度因酸的作用而增加的有机化合物。
(b) 在光辐射作用下产生酸的有机化合物、
该有机化合物
(c) 含羟基、烷氧基或苯氧基阴离子的强碱性有机化合物。
这种混合物适用于生产对比度更好的浮雕结构。