3,3'-Methylenebis(2-aminobenzoic acid) | 57252-07-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 3,3'-Methylenebis(2-aminobenzoic acid)
• 英文别名: 2-amino-3-[(2-amino-3-carboxyphenyl)methyl]benzoic acid
• CAS: 57252-07-0
• 化学式: C₁₅H₁₄N₂O₄
• 分子量: 286.28
• InChiKey: QVJIKZIXEWAOEF-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.07
• 拓扑面积：
  127
• 氢给体数：
  4
• 氢受体数：
  6

文献信息

• Process for producing unsaturated dicarboxylic acid imide compound
  申请人：MATSUSHITA ELECTRIC WORKS, LTD.

  公开号：EP0387381A1

  公开（公告）日：1990-09-19

  A process for producing an unsaturated di­carboxylic acid imide compound of formula (I): wherein D represents a divalent organic group having at least one carbon/carbon double bond; R¹ represents an n-­valent organic group having at least one carbon atom; and n is an integer of 1 or above, which comprises reacting an unsaturated amide acid compound of formula (II): wherein D, R¹, and n are as defined above, with an orthoester of formula (III): R²-C⁅OR³]₃      (III) wherein R² and R³, which may be the same or different, each represents a monovalent organic group having at least one carbon atom, to form an unsaturated dicarboxylic acid amide acid ester compound of formula (IV): wherein D, R¹, R³, and n are as defined above, and then imidating the compound of formula (IV).

  一种制备式（I）的不饱和二羧酸酰亚胺化合物的方法：其中D表示至少具有一个碳/碳双键的二价有机基团；R¹表示至少具有一个碳原子的n价有机基团；n为1或以上的整数；包括将式（II）的不饱和酰胺酸化合物与式（III）的正酯发生反应：R²-C⁅OR³]₃      （III），其中R²和R³，可以相同也可以不同，每个都表示至少具有一个碳原子的一价有机基团，形成式（IV）的不饱和二羧酸酰胺酸酯化合物：其中D，R¹，R³和n如上定义，然后对式（IV）的化合物进行亚胺化。
• Durch Einwirkung von Strahlung vernetzendes Gemisch und dessen Verwendung zur Herstellung hochtemperaturbeständiger Reliefstrukturen
  申请人：BASF Lacke + Farben Aktiengesellschaft

  公开号：EP0571899A1

  公开（公告）日：1993-12-01

  Die Erfindung betrifft durch Einwirkung von Strahlung vernetzende Gemische, im wesentlichen bestehend aus (I) mindestens einer in polaren organischen Lösungsmitteln löslichen carboxylgruppenhaltigen polymeren Vorstufe hochtemperaturbeständiger heterocyclischer Polymerer, (II) einem copolymerisierbaren ethylenisch ungesättigten ternären Sulfoniumsalz, (III) einem Photoinitiator oder Photoinitiatorsystem und (IV) mindetens einem polaren aprotischen organischen Lösungsmittel. Diese Gemische eignen sich zur Herstellung hochtemperaturbeständiger Reliefstrukturen.

  本发明涉及在辐射作用下交联的混合物，主要包括 (I) 至少一种可溶于极性有机溶剂的耐高温杂环聚合物的含羧基聚合物前体、 (II) 可共聚的乙烯不饱和三元锍盐 (III) 一种光引发剂或光引发剂体系，以及 (IV) 至少一种极性烷基有机溶剂。 这些混合物适用于生产耐高温浮雕结构。
• Polyurethanes prepared with tetrahydrofuran-alkylene oxide polymerizates having low oligomeric cyclic ether content, processes for preparing the same, and articles and fibers of the polyurethanes
  申请人：E.I. DU PONT DE NEMOURS AND COMPANY

  公开号：EP0004356B1

  公开（公告）日：1982-12-15
• Strahlungsempfindliche Gemische und deren Verwendung
  申请人：BASF Aktiengesellschaft

  公开号：EP0362649B1

  公开（公告）日：1994-03-02
• NEW METHYLENEBISPHENYL COMPOUNDS USEFUL IN THE TREATMENT OF INFLAMMATION
  申请人：Biolipox AB

  公开号：EP2132169A1

  公开（公告）日：2009-12-16