Penta(methoxymethyl)melamine | 3169-30-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: Penta(methoxymethyl)melamine
• 英文别名: 2-N,2-N,4-N,4-N,6-N-pentakis(methoxymethyl)-1,3,5-triazine-2,4,6-triamine
• CAS: 3169-30-0
• 化学式: C₁₃H₂₆N₆O₅
• 分子量: 346.38
• InChiKey: LEVZZYOVVQKGOM-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1
• 重原子数：
  24
• 可旋转键数：
  13
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.77
• 拓扑面积：
  103
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  11

文献信息

• Coating composition
  申请人：ASAHI GLASS COMPANY LTD.

  公开号：EP0038640A2

  公开（公告）日：1981-10-28

  A coating composition comprises (A) an alkyl ether methylomelamine in which a part or whole of methylol groups of methylolmelamine are converted into alkyl ether methylol groups; (B) a polyhydric alcohol having 2 or more hydroxyl groups; and (C) a dispersion of colloidal silica, which can be condensed each other for the two or three components; and (D) a solvent.

  涂层组合物包括 (A) 烷基醚甲基甲醇胺，其中甲基甲醇胺的部分或全部甲醇基转化为烷基醚甲醇基； (B) 具有 2 个或 2 个以上羟基的多元醇；和 (C) 胶体二氧化硅分散体，这两种或三种成分可相互凝结；以及 (D) 溶剂。
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND ELECTRONIC COMPONENT
  申请人：Zeon Corporation

  公开号：EP3121651A1

  公开（公告）日：2017-01-25

  A radiation-sensitive resin composition comprising a binder resin (A), a radiation-sensitive compound (B), a tetrafunctional or lower functional epoxy-based cross-linking agent (C) having an epoxy equivalent of 450 or less and a softening point of 30°C or less, and an aralkyl phenol resin (D) is provided. According to the present invention, it is possible to provide a radiation-sensitive resin composition able to give a resin film high in adhesion to a metal layer and excellent in developability and low hygroscopicity.

  本发明提供了一种辐射敏感树脂组合物，该组合物由粘结剂树脂（A）、辐射敏感化合物（B）、环氧当量为 450 或以下且软化点为 30°C 或以下的四官能度或更低官能度环氧基交联剂（C）和芳基苯酚树脂（D）组成。根据本发明，可以提供一种辐射敏感性树脂组合物，该树脂组合物能够生成与金属层粘附性高、显影性好和吸湿性低的树脂膜。
• RESIN COMPOSITION
  申请人：Zeon Corporation

  公开号：EP3345970A1

  公开（公告）日：2018-07-11

  A resin composition comprising a binder resin (A), a phenoxy resin having a hydroxyl equivalent of 300 or more, and a cross-linking agent (C). The resin composition of the present invention preferably further comprises a photoacid generator (D). The photoacid generator (D) is more preferably a quinone diazide compound.

  一种树脂组合物，包括粘合剂树脂 (A)、羟基当量大于等于 300 的苯氧树脂和交联剂 (C)。本发明的树脂组合物最好还包括光酸发生器（D）。光酸发生剂（D）最好是重氮化醌化合物。
• RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND ELECTRONIC COMPONENT
  申请人：Zeon Corporation

  公开号：EP3438746A1

  公开（公告）日：2019-02-06

  A radiation-sensitive resin composition comprising a cyclic olefin polymer (A) having a protonic polar group, a bifunctional epoxy compound (B) represented by the following general formula (1), and a radiation-sensitive compound (C): wherein, in the above general formula (1), R1 is a linear chain or branched alkylene group having 1 to 15 carbon atoms, and "k" is an integer of 1 to 20, is provided.

  一种辐射敏感树脂组合物，由具有质子极性基团的环烯烃聚合物 (A)、由以下通式 (1) 表示的双官能环氧化合物 (B) 和辐射敏感化合物 (C) 组成： 其中，在上述通式（1）中，R1 是具有 1 至 15 个碳原子的直链或支链烯基，"k "是 1 至 20 的整数。
• Radiation-sensitive resin composition and electronic device
  申请人：ZEON CORPORATION

  公开号：US10025182B2

  公开（公告）日：2018-07-17

  A radiation-sensitive resin composition comprising a binder resin (A), a radiation-sensitive compound (B), a tetrafunctional or lower functional epoxy-based cross-linking agent (C) having an epoxy equivalent of 450 or less and a softening point of 30° C. or less, and an aralkyl phenol resin (D) is provided. According to the present invention, it is possible to provide a radiation-sensitive resin composition able to give a resin film high in adhesion to a metal layer and excellent in developability and low hygroscopicity.

  本发明提供了一种辐射敏感树脂组合物，该组合物由粘合剂树脂（A）、辐射敏感化合物（B）、环氧当量为 450 或以下且软化点为 30 摄氏度或以下的四官能度或更低官能度环氧基交联剂（C）和芳基苯酚树脂（D）组成。根据本发明，可以提供一种辐射敏感性树脂组合物，该树脂组合物能够生成与金属层粘附性高、显影性好和吸湿性低的树脂膜。