fluorene-9-sulphonyl chloride | 20449-15-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 芴
• 英文名称: fluorene-9-sulphonyl chloride
• 英文别名: 9-fluorenylsulfonyl chloride；9-Fluorensulfonylchlorid；Fluorene-9-sulfonyl chloride；9H-fluorene-9-sulfonyl chloride
• CAS: 20449-15-4
• 化学式: C₁₃H₉ClO₂S
• mdl: MFCD09866377
• 分子量: 264.732
• InChiKey: USFBRRNXUMSLSM-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.3
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.076
• 拓扑面积：
  42.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 海关编码：
  2904909090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  fluorene-9-sulphonyl chloride 在 三乙胺 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 以40%的产率得到9,9-联亚茀
  参考文献：
  名称：

  芳基甲磺酰基和苯乙烯基甲磺酰氯与三乙胺的反应

  摘要：

  在THF中用三乙胺处理了一系列芳基甲磺酰氯，以优异的收率得到了斯蒂苯。在低于10°C的温度下对混合物进行后处理可分离出二苯乙烯lb砜，该砜在升温时会分解，从而立体定向生成相应的斯蒂芬苯砜。将该反应应用于9-芴基磺酰氯，得到联芴基，而反式-苯乙烯基甲磺酰氯得到4，5-二氢-4，5-二苯基噻吩基1，1-二氧化物和1，6-二苯基己三烯。

  DOI：

  10.1016/s0040-4039(01)81491-x
• 作为产物：
  描述：

  芴 在 正丁基锂 、 磺酰氯 作用下， 生成 fluorene-9-sulphonyl chloride
  参考文献：
  名称：

  β-磺内酯的研究，第 6 版：原位生成的亚砜与邻位三羰基化合物的反应

  摘要：

  由磺酰氯和叔原位。亚砜生成的胺与邻位三羰基化合物如茚满三酮、1-甲基-2,3,4(1H)-喹啉-三酮、四氧六环和甲草酸二乙酯反应。主要形成吡啶鎓[二氯(2-氯-1,3-二氧-2-茚基)甲磺酸盐](1c)类型的产物。在某些情况下，观察到不同的反应产物。

  DOI：

  10.1002/ardp.19883210209

文献信息

• Spirofluoreneisothiazolidinone dioxides as aldose reductase inhibitors
  申请人：——

  公开号：US04968809A1

  公开（公告）日：1990-11-06

  New spirofluoreneisothiazolidinone dioxides and methods for their preparation are disclosed.

  揭示了新的螺合芴异噻唑啉二氧化物及其制备方法。
• SULFONIC-ESTER-CONTAINING COMPOSITION FOR FORMATION OF ANTIREFLECTION FILM FOR LITHOGRAPHY
  申请人：Nissan Chemical Industries, Ltd.

  公开号：EP1813987A1

  公开（公告）日：2007-08-01

  There is provided an anti-reflective coating forming composition for lithography comprising a polymer compound, a crosslinking compound, a crosslinking catalyst, a sulfonate compound and a solvent. The anti-reflective coating obtained from the composition has a high preventive effect for reflected light, causes no intermixing with photoresists, has a higher dry etching rate compared with photoresists, can form a photoresist pattern having no footing at the lower part, and can use in lithography process by use of a light such as ArF excimer laser beam and F2 excimer laser beam, etc.

  本发明提供了一种用于光刻的抗反射涂层形成组合物，该组合物由聚合物化合物、交联化合物、交联催化剂、磺酸盐化合物和溶剂组成。由该组合物制得的抗反射涂层对反射光有很好的防止效果，不会与光刻胶混合，与光刻胶相比具有更高的干蚀刻率，可以形成下部无基底的光刻胶图案，并可在光刻工艺中使用 ArF 准分子激光束和 F2 准分子激光束等光源。
• Bonini, Bianca F.; Maccagnani, Gaetano; Mazzanti, Germana, Journal of the Chemical Society. Perkin transactions I, 1983, p. 2097 - 2101
  作者：Bonini, Bianca F.、Maccagnani, Gaetano、Mazzanti, Germana、Pedrini, Paola、Lammerink, Ben H. M.、Zwanenburg, Binne

  DOI：——

  日期：——
• DUPRIEST, MARK T.
  作者：DUPRIEST, MARK T.

  DOI：——

  日期：——
• BONINI, B. F.;MACCAGNANI, G.;MAZZANTI, G.;PEDRINI, P.;LAMMERINK, B. H. M.+, J. CHEM. SOC. PERKIN TRANS., 1983, N 9, 2097-2101
  作者：BONINI, B. F.、MACCAGNANI, G.、MAZZANTI, G.、PEDRINI, P.、LAMMERINK, B. H. M.+

  DOI：——

  日期：——