benzyltriethylammonium p-toluenesulfonate | 77785-48-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: benzyltriethylammonium p-toluenesulfonate
• 英文别名: triethylbenzylammonium p-toluenesulfonate；Benzyl(triethyl)azanium;4-methylbenzenesulfonate
• CAS: 77785-48-9
• 化学式: C₇H₇O₃S*C₁₃H₂₂N
• 分子量: 363.521
• InChiKey: OVCUITWRCADMRY-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.96
• 重原子数：
  25
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  65.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  苄基三乙基氯化铵 在 对甲苯磺酸甲酯 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 以77%的产率得到benzyltriethylammonium p-toluenesulfonate
  参考文献：
  名称：

  Kukhar', V. P.; Pasternak, V. I.; Shevchenko, I. V., Journal of Organic Chemistry USSR (English Translation), 1981, p. 161 - 166

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Polymerizable composition for polythiourethane optical material, polythiourethane optical material obtained from the polymerizable composition, and polymerization catalyst for polythiourethane optical material
  申请人：Mitsui Chemicals, Inc.

  公开号：EP2407498A2

  公开（公告）日：2012-01-18

  The polymerizable composition for a polythiourethane optical material of the present invention includes (A) a polymerization catalyst for a polythiourethane optical material, (B) at least one compound selected from an isocyanate compound and an isothiocyanate compound, and (C) a compound containing one or more mercapto groups, wherein said polymerization catalyst for a polythiourethane optical material (A) includes (a1) a zinc compound, and (a4)a compound represented by the following general formula (4).

  本发明的聚硫乙烷光学材料可聚合组合物包括 (A) 聚硫乙烷光学材料聚合催化剂，(B) 至少一种选自异氰酸酯化合物和异硫氰酸酯化合物的化合物，以及 (C) 含有一个或多个巯基的化合物，其中所述聚硫乙烷光学材料聚合催化剂 (A) 包括 (a1) 一种锌化合物，以及 (a4) 一种由下式通式 (4) 表示的化合物。
• Silicone coating composition
  申请人：AZ Electronic Materials USA Corp.

  公开号：EP2450412A1

  公开（公告）日：2012-05-09

  The present invention relates to a composition comprising: (a) a polymer having at least one repeating unit of formula where R1 is a non-hydrolysable group and n is an integer ranging from 1 to 3; and (b) a crosslinking catalyst. The composition is useful in forming low k dielectric constant materials and as well as hard mask and underlayer materials with anti-reflective properties for the photolithography industry.

  本发明涉及一种组合物，该组合物包括 (a) 具有至少一个式子重复单元的聚合物； (b) 具有至少一个式子重复单元的聚合物； (c) 具有至少一个式子重复单元的聚合物。 其中 R1 为不可水解基团，n 为 1 至 3 的整数；以及 (b) 一种交联催化剂。该组合物可用于形成低 k 介电常数材料，以及用于光刻行业的具有抗反射特性的硬掩膜和底层材料。
• Silicon-containing EUV resist underlayer film-forming composition containing onium sulfonate
  申请人：NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

  公开号：US10613440B2

  公开（公告）日：2020-04-07

  A resist underlayer film-forming composition for EUV lithography showing good resist shape; including: a hydrolyzable organosilane, a hydrolyzed product thereof, or a hydrolyzed condensate thereof, as a silane; and a salt of a sulfonic acid ion containing a hydrocarbon group with an onium ion. The hydrolyzable organosilane includes at least one organic silicon compound selected from the group consisting of compounds of Formula (1): R1aSi(R2)4-a  Formula (1) and compounds of Formula (2): R3cSi(R4)3-c2Yb  Formula (2) a hydrolyzed product thereof, or a hydrolyzed condensate thereof. A method for manufacturing a semiconductor device, including: forming an organic underlayer film on a semiconductor substrate; a resist underlayer film by applying the resist underlayer film-forming composition onto the organic underlayer film, then baking applied resist underlayer film-forming composition; forming a resist film by applying composition for EUV resists onto resist underlayer film; EUV-exposing the resist film; and obtaining a resist pattern by developing exposed resist film.

  一种用于 EUV 光刻的抗蚀剂底层成膜组合物，显示出良好的抗蚀剂形状；包括：作为硅烷的可水解有机硅烷、其水解产物或其水解缩合物；以及含有烃基的磺酸离子与鎓离子的盐。可水解有机硅烷包括至少一种选自式（1）化合物组成的组的有机硅化合物： R1aSi(R2)4-a 式(1) 和式 (2) 的化合物： R3cSi(R4)3-c2Yb 式 (2) 其水解产物，或其水解缩合物。一种制造半导体器件的方法，包括：在半导体衬底上形成有机底层膜；通过在有机底层膜上涂敷抗蚀剂底层膜成膜组合物，然后烘烤涂敷的抗蚀剂底层膜成膜组合物，形成抗蚀剂底层膜；通过在抗蚀剂底层膜上涂敷超紫外抗蚀剂组合物，形成抗蚀剂膜；对抗蚀剂膜进行超紫外曝光；以及通过显影曝光的抗蚀剂膜，获得抗蚀剂图案。
• Thermoplastic resin composition
  申请人：——

  公开号：US20010034419A1

  公开（公告）日：2001-10-25

  A thermoplastic resin composition comprising: a transparent aromatic thermoplastic resin (a) and a copolyester resin (b) comprising at least two kinds of dicarboxylic acid moieties and one kind of diol moiety, 1 to 50 mol % of the dicarboxylic acid moieties being a naphthalenedicarboxylic acid moiety, the ratio of (a) to the combined amount of (a) and (b) being 55 to 99.99% by weight, and the ratio of (b) being 0.01 to 45% by weight.

  一种热塑性树脂组合物，包括 透明芳香族热塑性树脂（a）和 由至少两种二羧酸分子和一种二元醇分子组成的共聚酯树脂（b），其中 1 至 50 摩尔%的二羧酸分子为萘二甲酸分子、 按重量计，(a)与(a)和(b)的总和之比为 55%至 99.99%，(b)之比为 0.01%至 45%。
• KUXAR V. P.; PASTERNAK V. I.; SHEVCHENKO I. V.; SHEVCHENKO M. V.; MARCHEN+, ZH. ORGAN. XIMII, 1981, 17, HO 1, 180-186
  作者：KUXAR V. P.、 PASTERNAK V. I.、 SHEVCHENKO I. V.、 SHEVCHENKO M. V.、 MARCHEN+

  DOI：——

  日期：——