cyclopentadienylethylmethylamine | 857023-53-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: cyclopentadienylethylmethylamine
• 英文别名: 2-(Cyclopenta-2,4-dien-1-yl)-N-methylethanamine；2-cyclopenta-2,4-dien-1-yl-N-methylethanamine
• CAS: 857023-53-1
• 化学式: C₈H₁₃N
• mdl: MFCD19220584
• 分子量: 123.198
• InChiKey: TXKGXBLVMXQSFO-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  171.0±9.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.891±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.6
• 重原子数：
  9
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  12
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  四(二甲氨基)锆 、 cyclopentadienylethylmethylamine 以 甲苯 为溶剂， 反应 1.5h， 以92%的产率得到cyclopentadienylethylmethylamidozirconium(IV) di(dimethylamide)
  参考文献：
  名称：

  지르코늄 금속을 함유하는 신규한 유기금속 화합물 및 그 제조 방법, 그리고 이를 이용한 박막의 제조 방법

  摘要：

  本发明涉及一种新的有机锆金属化合物，其化学式表示为1，并详细描述了适用于化学气相沉积法（CVD）或原子层沉积法（ALD）的热化学稳定的有机锆金属化合物及其制备方法，以及利用该化合物制备薄膜的方法。根据本发明合成的有机锆金属化合物具有高挥发性且在热学上稳定，可有利地用于制备锆金属氧化物薄膜。在上述化学式1中，R代表C-C的烷基基团；R和R独立地代表C-C的烷基基团。

  公开号：

  KR20160105714A
• 作为产物：
  描述：

  N-methyl-1,3-cyclopentadiene-1-ethanamine oxalate 在 sodium hydroxide 作用下， 以 水 、 正己烷 为溶剂， 生成 cyclopentadienylethylmethylamine
  参考文献：
  名称：

  싸이클로펜타디엔일 유도체 중간체 및 상기 싸이클로펜타디엔일 유도체 제조방법

  摘要：

  本发明涉及用于原子层沉积（ALD：Atomic Layer Deposition）或化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition）工艺中使用的自限制反应（Self-limiting reaction）的金属前体（Metal Precursor）的构成，其中金属前体是化学式3的环戊二烯甲基胺（以下简称CpEMA）或化学式4的环戊二烯甲基丙胺（以下简称CpPMA）的配体化合物。本发明涉及一种用于制备CpEMA或CpPMA的新中间体的方法，该中间体是化学式1的环戊二烯甲基胺乙酸盐或化学式2的环戊二烯甲基丙胺乙酸盐，并且将化学式1或化学式2的化合物作为中间体，以制备化学式3和化学式4的化合物。本发明提供了一种利用新型中间体简便易行地制备高纯度的环戊二烯甲基衍生物，以构成用于原子层沉积（ALD：Atomic Layer Deposition）或化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition）工艺中使用的前体（Precursor）中的自限制反应（Self-limiting reaction）的前体。

  公开号：

  KR20180054180A

文献信息

• Radical Cage Effects in the Photochemical Degradation of Polymers:  Effect of Radical Size and Mass on the Cage Recombination Efficiency of Radical Cage Pairs Generated Photochemically from the (CpCH₂CH₂N(CH₃)C(O)(CH₂)<i>_n</i>CH₃)₂Mo₂(CO)₆ (<i>n</i> = 3, 8, 18) Complexes
  作者：Erick Schutte、T. J. R. Weakley、David R. Tyler

  DOI：10.1021/ja035030r

  日期：2003.8.1

  as the length of the chain on a radical center increases. This finding likely provides at least one of the reasons why the quantum yields for photolytic polymer degradation (and long-chain molecules, in general) decrease as the polymer chains get longer. In quantitative terms, plots of k(dP)/k(cP) were linearly proportional to mass(1/2)/radius(2), in agreement with the prediction of Noyes' cage effect

  本研究探讨了自由基大小、链长和质量对光化学产生的自由基笼对的笼复合效率的影响。包含 [(CpCH(2)CH(2)N(CH(3))C(O)(CH(2))(n)CH(3))(CO)( 3)Mo*, *Mo(CO)(3)(CpCH(2)CH(2)(CH(3))NC(O)(CH(2))(n)CH(3))] 产生于通过光解 (λ = 546 nm) 的 (CpCH(2)CH(2)N(CH(3))C(O)(CH(2))(n)CH( 3))(2)Mo(2)(CO)(6) (n = 3, 8, 18)。笼复合效率（表示为 F(cP)，其中 F(cP) = k(cP)/(k(cP) + k(dP))，k(dP) 是扩散速率常数，和 k(cP) 是自由基笼对的自由基复合速率常数）是通过从量子产率测量中提取它们获得的，这些测量与 CCl(4)（金属-自由基陷阱）作为溶剂系统粘度的函数。结果表明，F(cP)随着自
• 화합물 및 이를 포함하는 박막 형성용 조성물
  申请人：Soulbrain Co., Ltd. 솔브레인 주식회사(120200555471) Corp. No ▼ 131111-0597525BRN ▼524-86-01789

  公开号：KR20210099949A

  公开（公告）日：2021-08-13

  본 발명은 화학식으로 표시되는 화합물 및 이를 이용하는 금속 박막의 제조방법을 제공한다.

  这项发明提供了一种表示为化学式的化合物以及利用它制造金属薄膜的方法。
• 유기금속화합물 및 이를 이용한 박막
  申请人：MECARO CO.,LTD. 주식회사 메카로(120000534125) Corp. No ▼ 120111-0233338BRN ▼131-81-59560

  公开号：KR102015283B1

  公开（公告）日：2019-08-28

  본 발명의 유기금속화합물 및 이를 이용한 박막은 높은 휘발성, 우수한 화학적・열적 안정성을 만족함과 동시에 낮은 온도에서도 현저히 향상된 박막 증착 속도를 가진다. 또한, 부산물에 의한 특성 저하가 개선되고, 단차 피복성이 우수하며, 고 유전율을 가져 전기적으로는 등가 산화막 두께(EOT)를 가지면서 물리적으로는 터널링이 일어나지 않는 두께의 박막을 구현할 수 있다.

  本发明的有机金属化合物及其用于薄膜的，具有高挥发性、优异的化学和热稳定性，同时在低温下也具有明显提高的薄膜沉积速度。此外，通过副产物的特性改善，具有优秀的平整覆盖性，并具有高介电常数，电学上等效氧化膜厚度（EOT），同时可以实现物理上不会发生隧道现象的薄膜厚度。
• ORGANOMETALLIC COMPOUNDS AND THIN FILM USING SAME
  申请人：Mecaro Co., Ltd.

  公开号：US20200407380A1

  公开（公告）日：2020-12-31

  According to the organometallic compound of the present invention and the thin film manufactured using the same, requirements of high volatility and excellent chemical/thermal stability are satisfied, and significantly improved thin-film deposition rates are exhibited even at low temperatures. In addition, property degradation due to by-products can be improved, excellent step coverage can be realized, and a thin film which, due to having a high dielectric constant, electrically satisfies the equivalent oxide thickness (EOT) requirement while having a thickness at which tunneling does not physically occur can be implemented.

  根据本发明的有机金属化合物和使用该化合物制造的薄膜，可以满足高挥发性和优异的化学/热稳定性要求，即使在低温下也表现出显著提高的薄膜沉积速率。此外，由副产物引起的性能退化可以得到改善，可以实现优异的阶梯覆盖，并且可以实现具有高介电常数的薄膜，电学上满足等效氧化物厚度（EOT）要求，同时具有不会发生隧穿的厚度。
• 이트륨 화합물, 이를 포함하는 박막의 형성 방법 및 이로부터 제조된 반도체 기판
  申请人：Soulbrain Co., Ltd. 솔브레인 주식회사(120200555471) Corp. No ▼ 131111-0597525BRN ▼524-86-01789

  公开号：KR20210089015A

  公开（公告）日：2021-07-15

  본 발명은 이트륨 화합물, 이를 포함하는 박막의 형성 방법 및 이로부터 제조된 반도체 기판에 관한 것으로, 보다 상세하게는 하기 화학식 1로 표시되는 것을 특징으로 하는 이트륨 화합물로서, 고유전체 박막의 제조 시 고유전체 박막 형성용 전구체 화합물과 함께 증착시킴으로써 박막의 결정성을 높이고 열 안정성을 향상시켜 증착 공정의 효율을 개선할 수 있고 고온 공정에 적용할 수 있으며 제조되는 박막의 누설 전류를 방지할 수 있는 이트륨 화합물, 이를 포함하는 박막의 형성 방법 및 이로부터 제조된 반도체 기판에 관한 것이다. [화학식 1] (상기 화학식 1에서 R, R 및 R는 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 6의 알킬기이고, R는 탄소수 3 내지 6의 할로겐 치환기를 갖는 리간드, 탄소수 3 내지 6의 알킬 아민 또는 이의 유도체, 탄소수 3 내지 6의 알콕사이드 또는 이의 유도체, 탄소수 3 내지 6의 아미딘 또는 이의 유도체, 구아니딘 또는 이의 유도체, 탄소수 4 내지 6의 시클릭 아민 또는 이의 유도체, 및 탄소수 1 내지 4의 알킬 아민이 치환된 시클로펜다티에닐 리간드로 이루어진 군에서 선택된 1종이고, n은 0 내지 4의 정수이다.)

  本发明涉及一种钇化合物、包含其的薄膜的形成方法以及由此制造的半导体基板。更具体地说，本发明涉及一种以以下化学式1为特征的钇化合物，该化合物在制备固有晶体薄膜时与固有晶体薄膜形成前体化合物一起沉积，从而提高薄膜的结晶性和热稳定性，改善沉积工艺的效率，适用于高温工艺，并且可以防止薄膜的漏电流。本发明还涉及包含该钇化合物的薄膜的形成方法以及由此制造的半导体基板。 （化学式1中，R，R'和R''分别独立地表示取代或未取代的1至6个碳原子的烷基基团，R表示具有3至6个碳原子的卤素取代基的配体，3至6个碳原子的烷基胺或其衍生物，3至6个碳原子的烷氧基或其衍生物，3至6个碳原子的酰胺或其衍生物，瓜二胺或其衍生物，4至6个碳原子的环状胺或其衍生物，以及取代有1至4个碳原子的烷基胺的环戊二烯基二酮配体，其中n是0至4的整数。）