2-(phenylamino)butane nitrile | 85599-84-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: 2-(phenylamino)butane nitrile
• 英文别名: 2-(phenylamino)butyronitrile；2-anilino-butyronitrile；(α-Cyan-propyl)-anilin；α-Anilino-buttersaeure-nitril；2-Anilinobutanenitrile
• CAS: 85599-84-4
• 化学式: C₁₀H₁₂N₂
• 分子量: 160.219
• InChiKey: OBRXLYKHTVYVEE-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  143 °C(Press: 11 Torr)
• 密度：
  1.052±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.3
• 拓扑面积：
  35.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-(phenylamino)butane nitrile 在 硫酸 作用下， 生成 2-anilino-butanamide
  参考文献：
  名称：

  v. Miller; Ploechl; Sender, Chemische Berichte, 1892, vol. 25, p. 2035

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  1,1-dicyanopropene 、 苯胺 在 叔丁基过氧化氢 作用下， 以 1,4-二氧六环 、 癸烷 为溶剂， 反应 12.0h， 以76%的产率得到2-(phenylamino)butane nitrile
  参考文献：
  名称：

  通过Aza Michael加成/癸基甲酰化/加成序列对芳基/亚烷基丙二腈进行自由基重排：获得α-氨基腈和α-氨基酰胺

  摘要：

  已经开发出一种高效，安全，环保的叔丁基过氧化氢（TBHP）介导的芳基/亚烷基丙二腈与苯胺的重排反应，并原位生成HCN作为氰化物来源，用于合成取代的α-氨基腈和α-氨基酰胺。有效地合成了多种多样的α-氨基腈和α-氨基酰胺，收率很高。该方法具有广泛的底物范围和良好的官能团耐受性，并且原位生成的HCN无需使用外部氰化物源。

  DOI：

  10.1021/acs.joc.0c01358

文献信息

• Lewis base-catalyzed three-component Strecker reaction on water. An efficient manifold for the direct α-cyanoamination of ketones and aldehydes
  作者：Fabio Cruz-Acosta、Alicia Santos-Expósito、Pedro de Armas、Fernando García-Tellado

  DOI：10.1039/b914151k

  日期：——

  The first three-component organocatalyzed Strecker reaction operating on water has been developed. The manifold utilizes ketones (aldehydes) as the starting carbonyl component, aniline as the primary amine, acetyl cyanide as the cyanide source and N,N-dimethylcyclohexylamine as the catalyst.

  已经开发了第一个在水上进行操作的三组分有机催化Strecker反应。歧管利用酮（醛）作为起始羰基组分，苯胺作为伯胺，乙酰氰作为氰化物源，N，N-二甲基环己胺为催化剂。
• A Novel Approach to the Synthesis of α-Aminonitriles Using Triphenyl- phosphine Dibromide under Solvent-Free Conditions
  作者：Devdutt Chaturvedi、Amit Chaturvedi、Parmesh Dwivedi、Nisha Mishra

  DOI：10.1055/s-0032-1317690

  日期：——

  A quick and highly efficient, one-pot, three-component, solvent-free method for the synthesis of α-aminonitriles starting from the corresponding carbonyl compounds, amines, and trimethyl­isocyanide using triphenylphosphine dibromide, has been developed. Diverse α-aminonitriles have been synthesized in good to excellent yields (80–99%) using a range of aldehydes, ketones and amines.

  已经开发出一种快速高效、单锅、三组分、无溶剂的方法，用于使用二溴化三苯基膦从相应的羰基化合物、胺和三甲基异氰化物开始合成 α-氨基腈。使用一系列醛类、酮类和胺类以良好到极好的收率（80-99%）合成了多种 α-氨基腈。
• One-pot three-component synthesis of α-aminonitriles using potassium hexacyanoferrate(II) as an eco-friendly cyanide source
  作者：Zheng Li、Yuanhong Ma、Jun Xu、Jinghong Shi、Hongfang Cai

  DOI：10.1016/j.tetlet.2010.05.088

  日期：2010.7

  been developed for the synthesis of α-aminonitriles via one-pot three-component condensation of carbonyl compounds, amines, and potassium hexacyanoferrate(II) in the presence of benzoyl chloride as a promoter. This protocol has the features of use of eco-friendly cyanide source, high yield, and simple work-up procedure.

  在苯甲酰氯作为促进剂存在下，通过羰基化合物，胺和六氰合铁酸钾（II）的一锅式三组分缩合反应，已开发出一种有效且环保的方法来合成α-氨基腈。该协议具有使用环保型氰化物源，高收率和后处理程序简单的特点。
• CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND WAFER CLEANING COMPOSITION COMPRISING AMIDOXIME COMPOUNDS AND ASSOCIATED METHOD FOR USE
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20090130849A1

  公开（公告）日：2009-05-21

  A composition and associated method for chemical mechanical planarization (or other polishing) is described. The composition contains an amidoxime compound and water. The composition may also contain an abrasive and a compound with oxidation and reduction potential. The composition is useful for attaining improved removal rates for metal, including copper, barrier material, and dielectric layer materials in metal CMP. The composition is particularly useful in conjunction with the associated method for metal CMP applications.

  本文描述了一种化学机械平整化（或其他抛光）的组合物及其相关方法。该组合物含有一种酰胺肟化合物和水。该组合物还可以含有磨料和具有氧化还原潜力的化合物。该组合物可用于在金属CMP中获得改进的金属去除速率，包括铜、屏障材料和金属CMP中的介电层材料。该组合物在金属CMP应用的相关方法中特别有用。
• METHODS OF CLEANING SEMICONDUCTOR DEVICES AT THE BACK END OF LINE USING AMIDOXIME COMOSITIONS
  申请人：Lee Wai Mun

  公开号：US20100043823A1

  公开（公告）日：2010-02-25

  The present invention relates to aqueous compositions comprising amidoxime compounds and methods for cleaning plasma etch residue from semiconductor substrates including such dilute aqueous solutions. The compositions of the invention may optionally contain one or more other acid compounds, one or more basic compounds, and a fluoride-containing compound and additional components such as organic solvents, chelating agents, amines, and surfactants. The invention also relates to a method of removing residue from a substrate during integrated circuit fabrication.

  本发明涉及含有酰胺肟化合物的水性组合物及其清洗半导体衬底上等离子体刻蚀残留物的方法，包括这种稀释的水性溶液。本发明的组合物可以选择性地含有一种或多种其他酸性化合物、一种或多种碱性化合物、含氟化合物和其他成分，如有机溶剂、螯合剂、胺和表面活性剂。本发明还涉及一种在集成电路制造过程中从衬底上去除残留物的方法。