有机物的带隙是评估有机剂在
金属表面上的界面粘附力的重要指标。但是,对
硫族元素调节π共轭材料在影响带隙方面的作用的认识仍然不足。在这里,通过自下而上的策略创新地合成了包含不同
硫族元素的基于二酮
吡咯并
吡咯(
DPP)的季
铵盐家族,并在保形
铜电沉积中用作新的整平剂。测试了这些化合物的光物理和电
化学性质,包括循环伏安法(CV),电势极化曲线和恒电流测量值(GMs)。与其他同类产品相比,
SEDPP-QAS具有最窄的带隙,在保形
铜电沉积中显示出巨大的潜力。通孔电镀测试和涂层的扫描电子显微镜(
SEM)图像表明,带隙调谐是一种有效的方法来调节和调节电沉积性能。此外,通过理论计算和X射线光电子能谱(XPS)检测有机物与
铜表面之间的吸附机理。这项工作拓宽了对
铜电沉积中有机物的带隙工程学的理解,并为有机材料在吸附其他
金属基材料方面的未来设计提供了指导。通过理论计算和X射线光电子能谱(XPS)检测有机剂与
铜表面的吸