tert.-Butyl-2-benzoyl-perbenzoat | 24546-34-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: tert.-Butyl-2-benzoyl-perbenzoat
• 英文别名: tert-Butyl 2-benzoylbenzene-1-carboperoxoate；tert-butyl 2-benzoylbenzenecarboperoxoate
• CAS: 24546-34-7
• 化学式: C₁₈H₁₈O₄
• 分子量: 298.339
• InChiKey: MVQLEZWPIWKLBY-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.7
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.22
• 拓扑面积：
  52.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

文献信息

• Photosensitive resin composition capable of being developed with aqueous developer and photosensitive dry film resist, and use thereof
  申请人：Okada Koji

  公开号：US20060199920A1

  公开（公告）日：2006-09-07

  A photosensitive resin composition according to the present invention includes at least a base resin component (A) and a (meth)acryls compound (B), wherein the base resin component (A) is any one of: a polyimide resin (A-1) having at least either a hydroxyl group or a carboxyl group in its structure; a polyamide resin (A-2) having at least either a hydroxyl group or a carboxyl group in its structure; and photosensitive imide(meth)acrylsiloxaneoligomer (A-3). On this account, it is possible to realize characteristics such as (1) realization and improvement of water system developing property, (2) improvement of utility as an imidized film, (3) improvement of post-curing property, and (4) simplification of manufacture of a print wiring substrate. Thus, the photosensitive resin composition can be favorably used particularly in a photosensitive dry film resin, a laminate using the same, a print wiring substrate using the same, and the like.

  本发明提供的一种光敏树脂组合物包括至少一种基础树脂组分(A)和一种（甲基）丙烯酸化合物(B)，其中基础树脂组分(A)是以下任何一种：具有至少一个羟基或羧基的聚酰亚胺树脂(A-1)；具有至少一个羟基或羧基的聚酰胺树脂(A-2)；和光敏亚胺（甲基）丙烯酰基硅氧烷低聚物(A-3)。因此，可以实现特性，例如(1)实现和改善水系开发性能，(2)改善作为亚胺化膜的实用性，(3)改善后固化性能，以及(4)简化印刷线路基板的制造。因此，该光敏树脂组合物可以特别有利地用于光敏干膜树脂、使用相同的层压板、使用相同的印刷线路基板等。
• [EN] COLORED RESIN COMPOSITION<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE COLORÉE<br/>[JA] 着色樹脂組成物
  申请人：SUMITOMO CHEMICAL CO

  公开号：WO2022054612A1

  公开（公告）日：2022-03-17

  本発明は、異物の発生がない着色塗膜（好ましくは異物の発生がなく、密着性が良好な着色塗膜）を形成しうるアルミニウムフタロシアニン色素を含む着色樹脂組成物の提供を課題とする。本発明に係る着色樹脂組成物は、着色剤、式（ＤＡ）で表される化合物、樹脂及び溶剤を含有し、前記着色剤が、アルミニウムフタロシアニン色素を含む。 ［式（ＤＡ）中、Ｒd1は、置換基を有していてもよい炭素数１～１２の炭化水素基を表す。該炭化水素基の炭素数が２～１２であり且つ該炭化水素基が－ＣＨ2－を有する場合、該－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。Ｒd2およびＲd3は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１～１２の炭化水素基を表すか、あるいはＲd2とＲd3が結合し、－ＣＯ－ＮＲd1－ＣＯ－とともに環を形成することを表す。］

  本发明的目的是提供一种含有铝酞菁颜料的着色树脂组成物，该组成物能够形成无异物产生的着色涂层（最好是无异物产生且具有良好附着性的着色涂层）。 本发明涉及的着色树脂组成物包含着色剂、化合物表达式（DA）、树脂和溶剂，其中着色剂包含铝酞菁颜料。 [在式（DA）中，Rd1表示具有取代基的1-12个碳原子的烃基。如果该烃基的碳原子数为2-12且该烃基具有-CH2-，则该-CH2-可以被替换为-O-、-S-或-CO-。Rd2和Rd3分别独立地表示氢原子或具有取代基的1-12个碳原子的烃基，或者Rd2和Rd3结合形成环，同时与-CO-NRd1-CO一起形成环。]
• Verfahren zur Verhinderung von Ausblüherscheinungen auf mineralischen Substraten
  申请人：BASF Aktiengesellschaft

  公开号：EP0355028A1

  公开（公告）日：1990-02-21

  Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Verhinderung von Ausblüh­erscheinungen auf mineralischen Substraten durch Beschichten der Oberfläche der mineralischen Substrate mit wäßrigen Polyacrylat­dispersionen und Trocknen der Beschichtung, gegebenenfalls bei erhöhter Temperatur, bei dem man für die Beschichtung ein Gemisch aus A) einer Dispersion eines Copolymerisats aus a) (Meth)acrylestern von 3 bis 20 C-Atome enthaltenden, eine tertiäre CH-Gruppe aufweisenden Alkanolen, b) Styrol, α-Methylstyrol, Methacrylsäuremethylester, (meth)acrylsäure-tert. butylester und/oder (meth)acrylnitril und c) 3 bis 5 C-Atome aufweisenden Mono- und/oder Dicarbonsäuren und/oder deren gegebenenfalls am N-Atom durch eine Alkylgruppe substitiuierten Amiden und B) eines aromatischen Ketons verwendet und die Beschichtung mit ultraviolettem Licht bestrahlt.

  本发明涉及一种防止矿物基材上产生风化现象的工艺，其方法是在矿物基材表面涂上水性聚丙烯酸酯分散体，然后干燥涂层（可选择在较高温度下干燥），在该涂层中，下列物质的混合物会产生风化现象 A) 以下物质的共聚物分散体 a) 含 3 至 20 个碳原子且具有一个叔 CH 基团的烷醇的 (甲基)丙烯酸酯、 苯乙烯、α-甲基苯乙烯、甲基丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯和/或(甲基)丙烯腈，以及 c) 含 3 至 5 个碳原子的单羧酸和/或二羧酸和/或其酰胺，可选择在 N 原子上被烷基取代，以及 B) 芳香族酮 并用紫外线照射涂层。
• Strahlungsempfindliche Gemische und deren Verwendung
  申请人：BASF Aktiengesellschaft

  公开号：EP0362644A1

  公开（公告）日：1990-04-11

  Die Erfindung betrifft zur Herstellung von Polyimiden, Polyisoindolochin­azolindionen, Polyoxazindionen, Polychinazolindionen oder Polychinazolonen geeignete strahlungsempfindliche Gemische aus bestimmten Vorstufen und aromatische Reste enthaltenden Carbonylverbindungen, die im durch UV-Strahlung angeregten Zustand zur Wasserstoffabstraktion befähigt sind, die durch Bestrahlung mit aktinischem Licht eine Löslichkeitsdifferenzierung erfahren. Sie eignen sich zur Herstellung isolierender Schichten und gedruckter Schaltungen.

  本发明涉及适用于生产聚酰亚胺、聚异吲哚喹唑啉二酮、聚噁嗪二酮、聚喹唑啉二酮或聚喹唑酮的辐射敏感混合物，该混合物由某些前体和含有芳香族自由基的羰基化合物制成，这些芳香族自由基在紫外辐射激发下能够进行氢抽取，并在光照射下发生溶解度分化。 它们适用于生产绝缘层和印刷电路。
• Visible radiation sensitive composition
  申请人：KANSAI PAINT CO., LTD.

  公开号：EP0435262A2

  公开（公告）日：1991-07-03

  A visible radiation sensitive composition comprising: (A) a photosetting resin containing a photosensitive group capable of crosslinking or polymerizing by photoirradiation, (B) a sensitizer represented by the formula (i): wherein R₁ and R₂ are the same or different lower alkyl, and R₃ is a hydrogen atom, lower alkyl group, alkoxyalkyl group, hydroxyalkoxyalkyl group or alkoxycarbonylalkyl group, and (C) a polymerization initiator.

  一种对可见辐射敏感的组合物，包括 (A) 一种光固化树脂，含有能在光照射下交联或聚合的光敏基团、 (B) 由式(i)表示的敏化剂： 其中 R₁ 和 R₂ 是相同或不同的低级烷基，R₃ 是氢原子、低级烷基、烷氧基烷基、羟基烷氧基烷基或烷氧基羰基烷基，以及 (C) 聚合引发剂。