2-(2-thienyl)tetrahydrothiophene | 4653-09-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 杂芳族化合物
• 英文名称: 2-(2-thienyl)tetrahydrothiophene
• 英文别名: 2-(Thiolan-2-yl)thiophene
• CAS: 4653-09-2
• 化学式: C₈H₁₀S₂
• 分子量: 170.299
• InChiKey: TWNKZDICIBWALM-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  53.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  噻吩 、 2-chlorosulfolane 在 四氯化钛 作用下， 以 四氯化碳 为溶剂， 反应 96.0h， 以1.35 g的产率得到2,5-bis-(tetrahydro-2-thienyl)thiophene
  参考文献：
  名称：

  Delaney, Paul A.; Johnstone, Robert A. W.; Boehm, Peter, Journal of the Chemical Society. Perkin transactions I, 1986, p. 1861 - 1864

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Selective GABA antagonists, especially isoquinoline derivatives, and their use for treating CNS disorders
  申请人：JOHN WYETH & BROTHER LIMITED

  公开号：EP0419247A2

  公开（公告）日：1991-03-27

  The invention concerns a new method for treating pain and/or CNS disorders using a compound which acts selectively as an antagonist f gamma aminobutyric acid (GABA) at GABA autoreceptors relative to GABAA receptors.

  本发明涉及一种使用一种化合物治疗疼痛和/或中枢神经系统疾病的新方法，该化合物相对于 GABAA 受体，在 GABA 自身受体上选择性地作为拮抗剂 f γ 氨基丁酸（GABA）。
• Thiophene-containing photo acid generators for photolithography
  申请人：INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION

  公开号：US20030008230A1

  公开（公告）日：2003-01-09

  Thiophene-containing photo acid generators having either of the following general formulas: 1 wherein at least one of R 1 , R 2 or R 3 is thiophene or thiophene that is substituted with alkyl, alkoxy or cycloalkyl, and the remaining R 1 , R 2 or R 3 , not containing a thiophene moiety, are independently selected from the group consisting of alkyl, cycloalkyl and aryl, or at least one of R 1 , R 2 or R 3 are joined together to form a cyclic moiety having from about 4 to about 8 ring carbon atoms; and Y is a counter ion, are disclosed as well as the use thereof as a component of a chemically amplified resist composition. In addition to the thiophene-containing photo acid generator, the inventive composition includes a chemically amplified base polymer, a solvent, an optional photosensitizer, an optional base, an optional dissolution modifying agent and an optional surfactant.

  具有以下任一通式的含噻吩的光酸发生器： 1 其中 R 1 , R 2 或 R 3 是噻吩或被烷基、烷氧基或环烷基取代的噻吩，其余 R 1 , R 2 或 R 3 不含噻吩分子，且独立地选自烷基、环烷基和芳基组成的组，或至少一个 R 1 , R 2 或 R 3 本发明公开了含噻吩的光酸发生器，以及其作为化学放大抗蚀剂组合物成分的用途。除了含噻吩的光酸发生器外，本发明组合物还包括化学放大基聚合物、溶剂、任选光敏剂、任选碱、任选溶解改性剂和任选表面活性剂。
• DELANEY P. A.; JOHNSTONE R. A. W.; BOEHM P. ENTWISTLE I. D., J. CHEM. SOC. PERKIN TRANS.,(1986) N 11, 1861-1864
  作者：DELANEY P. A.、 JOHNSTONE R. A. W.、 BOEHM P. ENTWISTLE I. D.

  DOI：——

  日期：——
• US5118690A
  申请人：——

  公开号：US5118690A

  公开（公告）日：1992-06-02
• US5210088A
  申请人：——

  公开号：US5210088A

  公开（公告）日：1993-05-11