((1R,2S,5R)-2-isopropyl-5-methylcyclohexyloxy)-methyl 4-hydroxybenzoate | 941576-28-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: ((1R,2S,5R)-2-isopropyl-5-methylcyclohexyloxy)-methyl 4-hydroxybenzoate
• 英文别名: [(1R,2S,5R)-5-methyl-2-propan-2-ylcyclohexyl]oxymethyl 4-hydroxybenzoate
• CAS: 941576-28-9
• 化学式: C₁₈H₂₆O₄
• 分子量: 306.402
• InChiKey: YXDINQPDHRSJCL-XOKHGSTOSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.8
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.61
• 拓扑面积：
  55.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  (+)-chloromethyl menthyl ether 、 对羟基苯甲酸 在 三乙胺 作用下， 以 氘代丙酮 、 水 、 乙酸乙酯 为溶剂， 生成 ((1R,2S,5R)-2-isopropyl-5-methylcyclohexyloxy)-methyl 4-hydroxybenzoate
  参考文献：
  名称：

  Photosensitive composition, pattern-forming method using the photosensitve composition and compound in the photosensitive composition

  摘要：

  一种光敏组合物，其中包含具有规范中所述特定结构的化合物，使用该光敏组合物和使用在光敏组合物中的具有特定结构的化合物的图案形成方法。

  公开号：

  US08426101B2

文献信息

• US8426101B2
  申请人：——

  公开号：US8426101B2

  公开（公告）日：2013-04-23
• Photosensitive composition, pattern-forming method using the photosensitve composition and compound in the photosensitive composition
  申请人：Wada Kenji

  公开号：US08426101B2

  公开（公告）日：2013-04-23

  A photosensitive composition containing a compound having a specific structure as described in the specification, a pattern-forming method using the photosensitive composition and the compound having a specific structure used in the photosensitive composition.

  一种光敏组合物，其中包含具有规范中所述特定结构的化合物，使用该光敏组合物和使用在光敏组合物中的具有特定结构的化合物的图案形成方法。