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1,4-dioxane-2-yl-methacrylate | 1184819-88-2

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
1,4-dioxane-2-yl-methacrylate
英文别名
1,4-Dioxan-2-yl 2-methylprop-2-enoate
1,4-dioxane-2-yl-methacrylate化学式
CAS
1184819-88-2
化学式
C8H12O4
mdl
——
分子量
172.181
InChiKey
PDFKBUGQMMUOQB-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    0.7
  • 重原子数:
    12
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.62
  • 拓扑面积:
    44.8
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    4

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    1,4-dioxane-2-yl-methacrylate甲烷磺酸 作用下, 以 tetrachloroethane, 1,1,2,2-d2 为溶剂, 生成 甲基丙烯酸
    参考文献:
    名称:
    ACRYLATE ESTER DERIVATIVES AND POLYMER COMPOUNDS
    摘要:
    一种化学式为(II-1)的环状醇:其中:R2、R3和R4分别独立地是氢原子、由1至6个碳原子组成的直链烷基基团、由3至6个碳原子组成的支链烷基基团或由3至6个碳原子组成的环状烷基基团;或者R2和R3或R3和R4结合形成由3至6个碳原子组成的亚烯基基团;m为1或2;R5、R6、R7、R8、R9和R10分别独立地是氢原子、由1至6个碳原子组成的直链烷基基团、由3至6个碳原子组成的支链烷基基团或由3至6个碳原子组成的环状烷基基团;A为氧原子;B为氧原子或硫原子。此外,一种制备化学式(II-1)的环状醇的方法。
    公开号:
    US20120316349A1
  • 作为产物:
    描述:
    1,4-dioxan-2-ol甲基丙烯酰氯4-二甲氨基吡啶吩噻嗪三乙胺 作用下, 以 四氢呋喃 为溶剂, 反应 4.0h, 生成 1,4-dioxane-2-yl-methacrylate
    参考文献:
    名称:
    ACRYLATE ESTER DERIVATIVES AND POLYMER COMPOUNDS
    摘要:
    一种化学式为(II-1)的环状醇:其中:R2、R3和R4分别独立地是氢原子、由1至6个碳原子组成的直链烷基基团、由3至6个碳原子组成的支链烷基基团或由3至6个碳原子组成的环状烷基基团;或者R2和R3或R3和R4结合形成由3至6个碳原子组成的亚烯基基团;m为1或2;R5、R6、R7、R8、R9和R10分别独立地是氢原子、由1至6个碳原子组成的直链烷基基团、由3至6个碳原子组成的支链烷基基团或由3至6个碳原子组成的环状烷基基团;A为氧原子;B为氧原子或硫原子。此外,一种制备化学式(II-1)的环状醇的方法。
    公开号:
    US20120316349A1
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文献信息

  • Resin, resist composition and method for producing resist pattern
    申请人:SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
    公开号:US11353790B2
    公开(公告)日:2022-06-07
    Disclosed is a resin including a structural unit represented by formula (a1-5) and a structural unit represented by formula (I), and a resist composition: wherein Ra8 represents an alkyl group which may have a halogen atom, a hydrogen atom or a halogen atom; Za1 represents a single bond or *—(CH2)h3—CO-L54-; h3 represents an integer of 1 to 4; L51, L52, L53 and L54 each independently represent —O— or —S—; s1 represents an integer of 1 to 3; s1′ represents an integer of 0 to 3; R1 represents a hydrogen atom or a methyl group; A1 represents a single bond or *—CO—O—; R2 represents a halogen atom, a hydroxy group, a haloalkyl group or an alkyl group; mi represents an integer of 1 to 3; and ni represents an integer of 0 to 4, in which mi+ni≤5.
    本发明公开了一种树脂(包括由式(a1-5)表示的结构单元和由式(I)表示的结构单元)和一种抗蚀剂组合物: 其中 Ra8 代表烷基,该烷基可具有卤原子、氢原子或卤原子; Za1 代表单键或 *-(CH2)h3-CO-L54-; h3 代表 1 至 4 的整数; L51、L52、L53 和 L54 各自独立地代表 -O- 或 -S-; s1 代表 1 至 3 的整数;s1′ 代表 0 至 3 的整数; R1 代表氢原子或甲基; A1 代表单键或 *-CO-O-; R2 代表卤原子、羟基、卤代烷基或烷基; mi 代表 1 至 3 的整数; ni 代表 0 至 4 的整数,其中 mi+ni≤5.
  • RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
    申请人:SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
    公开号:US20200233300A1
    公开(公告)日:2020-07-23
    Disclosed is a resin including a structural unit represented by formula (I) and a structural unit represented by formula (a2-A), and a resist composition: wherein R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group; L 1 and L 2 each represent —O— or —S—; s1 represents an integer of 1 to 3; s2 represents an integer of 0 to 3; R a50 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group which may have a halogen atom; R a51 represents a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group, an alkoxy group, an alkylcarbonyl group or the like; A a50 represents a single bond or *—X a51 -(A a52 -X a52 ) nb —; A a52 represents an alkanediyl group; X a51 and X a52 each represent —O—, —CO—O— or —O—CO—; nb represents 0 or 1; and mb represents an integer of 0 to 4.
  • US8431722B2
    申请人:——
    公开号:US8431722B2
    公开(公告)日:2013-04-30
  • US8362169B2
    申请人:——
    公开号:US8362169B2
    公开(公告)日:2013-01-29
  • [EN] ACRYLATE ESTER DERIVATIVES AND POLYMER COMPOUNDS<br/>[FR] DÉRIVÉS ESTERS ACRYLATES ET COMPOSÉS POLYMÈRES
    申请人:KURARAY CO
    公开号:WO2009104722A1
    公开(公告)日:2009-08-27
     1)酸に対する反応性および熱安定性に優れ、かつ、現像時の膨潤が小さい高分子化合物、2)該高分子化合物の原料となる下記化合物、および3)該高分子化合物を含有する、LWRが改善され、耐熱性に優れたフォトレジスト組成物を提供する。(式中、nは0~2の整数を表し、R1は水素原子、メチル基等を表し、R2~R10はそれぞれ独立して水素原子、直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基等を表し、AおよびBはそれぞれ独立して酸素原子又は硫黄原子を表す。)
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