2-(3-butenyl)-4-phenoxy ether | 27319-00-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2-(3-butenyl)-4-phenoxy ether
• 英文别名: Phenyl-but-1-enylether；[(But-1-en-1-yl)oxy]benzene；but-1-enoxybenzene
• CAS: 27319-00-2
• 化学式: C₁₀H₁₂O
• 分子量: 148.205
• InChiKey: NHZYQUOOLAYGLZ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  202.9±9.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.946±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.2
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  二苯醚 、 1-氯-1-丁烯 在 四丁基氯化膦 作用下， 反应 7.0h， 以71%的产率得到2-(3-butenyl)-4-phenoxy ether
  参考文献：
  名称：

  METHOD FOR PRODUCING ARENE COMPOUNDS AND ARENE COMPOUNDS PRODUCED BY THE SAME

  摘要：

  提供了一种通过使用有机膦化合物作为催化剂，通过烷基卤化物化合物和芳烃化合物进行弗里德尔-克拉夫茨烷基化反应生产代表为Formulae 3-1、3-2和3-3的(烷基)芳烃化合物的方法。

  公开号：

  US20210188739A1

文献信息

• Method for producing allyl compound, and ether or ester compound produced thereby
  申请人：MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION

  公开号：US20040147757A1

  公开（公告）日：2004-07-29

  A method for producing an allyl compound having a compositional formula different from that of an allyl starting material compound, which comprises reacting the allyl starting material compound with an oxygen nucleophilic agent in the presence of a catalyst containing at least one transition metal compound containing a transition metal selected from the group consisting of transition metals belonging to Group 8 to Group 10 of the Periodic Table and a multidentate phosphite compound.

  一种生产具有与烯丙基起始物质化合物不同的组成式的烯丙基化合物的方法，包括在存在至少一种含有从周期表第8组到第10组的过渡金属属于的过渡金属的过渡金属化合物和多齿膦酸酯化合物的催化剂的情况下，将烯丙基起始物质化合物与氧亲核试剂反应。
• Method for producing allyl compound, and allyl compound produced thereby
  申请人：Takai Masaki

  公开号：US20050075518A1

  公开（公告）日：2005-04-07

  A method for producing an allyl compound having a compositional formula different from that of an allyl starting material compound, which comprises reacting the allyl starting material compound with a nucleophilic agent in the presence of a catalyst containing at least one transitional metal compound containing a transition metal selected from the group consisting of transition metals belonging to Group 8 to Group 10 of the Periodic Table and at least one bidentate coordinated phosphite compound selected from the group consisting of compounds having structures of the following formulae (I) to (III): wherein A 1 to A 3 are respectively independently a diarylene group having a branched alkyl group at the ortho-position, R 1 to R 6 are respectively independently an alkyl group which may have a substituent or an aryl group which may have a substituent (including a heterocyclic compound forming an aromatic 6π electron cloud on the upper and lower sides of the ring, hereinafter the same), and Z 1 to Z 3 are respectively independently an alkylene group which may have a substituent, an arylene group which may have a substituent, an alkylene-arylene group which may have a substituent or a diarylene group which may have a substituent.

  一种制备具有不同于烯丙基起始材料化合物的组成式的烯丙基化合物的方法，包括在催化剂的存在下，将烯丙基起始材料化合物与亲核试剂反应，所述催化剂包含至少一种过渡金属化合物，所述过渡金属选自周期表8到10组的过渡金属，并且至少一种双齿配位膦酸酯化合物，所述化合物具有以下式(I)到(III)中的结构，其中A1到A3分别独立地是具有支链烷基的二芳基基团，R1到R6分别独立地是可以具有取代基的烷基基团或可以具有取代基的芳基基团（包括在环上形成芳香6π电子云的杂环化合物，在此以后相同），Z1到Z3分别独立地是可以具有取代基的烷基，可以具有取代基的芳基，可以具有取代基的烷基-芳基基团或可以具有取代基的二芳基基团。
• Procédé de C-alcoylation selective des phenols
  申请人：RHONE-POULENC SANTE

  公开号：EP0161132A1

  公开（公告）日：1985-11-13

  Procédé de préparation de phénols substitués de formule générale (I) dans laquelle R, représente dans lequel R2 représente un radical acyclique éventuellement substitué par alcoyle, hydroxy, alcoyloxycarbonyle, cyano ou formyle, ou un radical phényle ou naphtyle et R représente hydrogène ou 1 à 4 substituants choisis parmi halogène, OH éventuellement sous forme d'éther ou d'ester, alcoyle, NO2, CHO éventuellement sous forme d'acétal, CH,CO-, C6H5CO-, NH2, alcoylamino, dialcoylamino ou alcoyloxycarbonyle, étant entendu que 2 symboles R peuvent former avec le noyau phényle un cycle aromatique condensé et étant entendu que R, est en position ortho ou para de la fonction phénol, par action d'un butadiène de formule générale (II) sur un phénol, de formule générale (III) en opérant dans l'eau en présence d'un catalyseur à base rhodium, d'une phosphine soluble dans l'eau et éventuellement d'une base minérale ou organique. Les produits de formule générale (I) sont des intermédiaires pour la synthèse de la vitamine E, d'anti- oxydants, de parfums ou d'insecticides.

  通式(I)的取代酚的制备工艺 其中 R 代表 其中 R2 代表任选被烷基、羟基、烷氧羰基、氰基或甲酰基或苯基或萘基取代的无环基，R 代表氢或 1 至 4 个取代基，这些取代基选自卤素、任选以醚或酯形式存在的 OH、烷基、NO2、任选以缩醛形式存在的 CHO、CH,CO-、C6H5CO-、NH2、烷基氨基、二烷基氨基或烷氧羰基、通式(II)的丁二烯与通式(III)的苯酚在铑基催化剂、水溶性膦和任选的无机或有机碱存在下，通过在水中操作，作用于通式(III)的苯酚，不言而喻，2 个符号 R 可与苯环形成缩合芳环，不言而喻，R 位于苯酚官能团的正位或对位。 通式（I）的产品是合成维生素 E、抗氧化剂、香水或杀虫剂的中间体。
• Strahlungsempfindliche Polymere
  申请人：OCG Microelectronic Materials Inc.

  公开号：EP0546997A1

  公开（公告）日：1993-06-16

  Die Erfindung betrifft Polymere mit einem Molekulargewicht (Mw) von 10³ bis 10⁶, gemessen mittels Gelpermeationschromatographie, enthaltend, bezogen auf die Gesamtmenge der im Polymer vorhandenen Strukturelemente, 100 bis 10 Mol-% des wiederkehrenden Strukturelementes der Formel I wobei A für einen Rest der Formel Ia steht, und 90 bis 0 Mol-% des wiederkehrenden Strukturelementes der Formel II worin    R₁ Wasserstoff, Methyl oder Halogen,    R₂ Wasserstoff oder Methyl,    R₃ Wasserstoff, C₁-C₆-Alkyl oder C₆-C₁₂-Aryl und    R₄ C₁-C₆-Alkyl, unsubstituiertes oder mit C₁-C₄-Alkyl, C₁-C₄-alkoxy, C₆-C₁₂-Aryl, Halogen oder Nitrogruppen substituiertes C₆-C₁₂-Aryl oder einen Rest -OR₅ darstellt, wobei    R₅ C₁-C₆-Alkyl oder C₆-C₁₂-Aryl bedeutet, oder worin    R₃ und R₅ zusammen einen unsubstituierten oder einen C₁-C₄-alkyl-, C₁-C₄-alkoxy-, C₆-C₁₂-aryl- oder C₆-C₁₂-aryloxysubstituierten Propylen-, Butylen- oder Pentylenrest darstellen,    R₆ und R₇ unabhängig voneinander jeweils Wasserstoff, unsubstituiertes oder mit Halogen, Cyano- oder Nitrogruppen substituiertes C₁-C₄-Alkyl oder ein unsubstituiertes oder mit Halogen, C₁-C₄-Alkoxy-, Hydroxy-, Cyano- oder Nitrogruppen substituiertes Phenyl oder Naphthyl bedeuten,    R₈ und R₉ unabhängig voneinander jeweils Wasserstoff oder Halogen, unsubstituiertes oder durch Halogen, Cyano- oder Nitrogruppen substituiertes C₁-C₁₂-Alkyl, unsubstituiertes oder durch Halogen, Hydroxy-, Cyano-, Nitrogruppen, C₁-C₄-Alkyl oder C₁-C₄-Alkoxy substituiertes Phenyl, Naphthyl oder Benzyl oder einen der folgenden Reste -OR₁₀, -COOR₁₁ oder -COR₁₂ bedeuten, wobei R₁₀ und R₁₁ unabhängig voneinander jeweils Wasserstoff, unsubstituiertes oder durch Halogen, Cyano- oder Nitrogruppen substituiertes C₁-C₁₂-Alkyl, unsubstituiertes oder durch Halogen, Cyano-, Nitrogruppen, C₁-C₄-Alkyl oder C₁-C₄-Alkoxy substituiertes Phenyl oder Naphthyl bedeuten und R₁₂ die gleiche Bedeutung wie R₁₀ hat und ausserdem für den Rest steht, worin R₁₃ und R₁₄ unabhängig voneinander die gleiche Bedeutung wie R₁₀ haben, sowie Zusammensetzungen enthaltend diese strahlungsempfindlichen Polymere. Diese Zusammensetzungen eignen sich insbesondere zur Herstellung von integrierten Schaltkreisen.

  本发明涉及分子量（Mw）为 10³ 至 10⁶（通过凝胶渗透色谱法测量）的聚合物，根据聚合物中存在的结构元素总量，该聚合物含有 100 至 10 mol%的式 I 循环结构元素。 其中 A 是式 Ia 的基团 和 90 至 0 摩尔%的式 II 循环结构元素 其中 R₁ 是氢、甲基或卤素、 R₂ 是氢或甲基、 R₃ 氢、C₁-C₆-烷基或 C₆-C₁₂-芳基，以及 R₄ 是 C₁-C₆- 烷基、未取代或 C₁-C₄- 烷基、C₁-C₄-烷氧基、C₆-C₁₂-芳基、卤素或硝基基团取代的 C₆-C₁₂- 芳基或基团 -OR₅，其中 R₅ 代表 C₁-C₆- 烷基或 C₆-C₁₂- 芳基，或其中 R₃ 和 R₅ 共同代表未取代的或 C₁-C₄- 烷基、C₁-C₄-烷氧基-、C₆-C₁₂-芳基-或 C₆-C₁₂-芳氧基-取代的丙烯基、丁烯基或戊烯基、 R₆ 和 R₇ 相互独立地各自为氢、未被或被卤素、氰基或硝基取代的 C₁-C₄ 烷基或未被或被卤素、C₁-C₄-烷氧基、羟基、氰基或硝基取代的苯基或萘基、 R₈ 和 R₉ 相互独立地各自为氢或卤素、未取代或被卤素、氰基或硝基取代的 C₁-C₁₂ 烷基、未取代或被卤素取代的 C₁-C₁₂ 烷基、未取代或被卤素取代的 C₁-C₄ 烷氧基、羟基、氰基或硝基、羟基、氰基、硝基、C₁-C₄ 烷基或 C₁-C₄ 烷氧基取代的苯基、萘基或苄基，或以下基团之一 -OR₁₀、-COR₁₁ 或 -COR₁₂、氰基、硝基、C₁-C₄-烷基或 C₁-C₄-烷氧基，R₁₂ 的含义与 R₁₀ 相同，而且对于基团来说 其中 R₁₃和 R₁₄ 相互独立地具有与 R₁₀ 相同的含义、 以及含有这些辐射敏感聚合物的组合物。这些组合物尤其适用于制造集成电路。
• SLURRY COMPOSITION AND METHOD OF SUBSTRATE POLISHING
  申请人：NIHON CABOT MICROELECTRONICS K.K.

  公开号：US20160068713A1

  公开（公告）日：2016-03-10

  Slurry composition and a method of substrate polishing used in chemical mechanical polishing (CMP). The present invention concerns a slurry composition containing a polishing agent and a water soluble polymer. The slurry composition contains a water soluble polymer that has a solubility parameter in the range of 9.0 to 14.0 and that may contain hetero atoms at a level sufficient to lower the polishing rate near the edges of the polished substrate defined as the region within 1 mm of the outer edge of the polished substrate to a level below the mean polishing rate of the polished substrate. The water soluble polymer may have a mean molecular weight in the range of 200 to about 3,000,000, and the mean molecular weight may be in the range of 200 to 110,000 if hetero atoms are present in the main-chain structure and the SP value is under 9.5.