1-<1-Acetoxy-vinyl>-naphthalin | 92254-16-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 英文名称: 1-<1-Acetoxy-vinyl>-naphthalin
• 英文别名: 1-Naphthalen-1-ylethenyl acetate
• CAS: 92254-16-5
• 化学式: C₁₄H₁₂O₂
• 分子量: 212.248
• InChiKey: OOZXXPXGGJBHMW-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.5
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.07
• 拓扑面积：
  26.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-<1-Acetoxy-vinyl>-naphthalin 生成 1-(naphthalen-1-yl)butane-1,3-dione
  参考文献：
  名称：

  Budesinsky,Z.; Musil,V., Collection of Czechoslovak Chemical Communications, 1961, vol. 26, p. 2865 - 2870

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  1-萘乙酮 、 乙酸异丙烯酯 在 对甲苯磺酸 作用下， 反应 24.0h， 生成 1-<1-Acetoxy-vinyl>-naphthalin
  参考文献：
  名称：

  Ag 2 CO 3介导的烷基腈的直接官能化：通过烯醇乙酸酯的腈烷基化轻松合成γ-酮腈

  摘要：

  烷基腈的直接C（sp3）-H官能化是向含腈化合物的低毒易制毒途径。在这项研究中，开发了通过乙腈的直接C（sp 3）-H氧化功能化，由Ag 2 CO 3介导的烯醇乙酸盐腈腈甲基化反应，以制备γ-酮腈。提出了一种自由基途径，乙腈既是溶剂又是含CN的自由基源。

  DOI：

  10.1016/j.tetlet.2019.04.042

文献信息

• BASIC COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Hatakeyama Jun

  公开号：US20120141938A1

  公开（公告）日：2012-06-07

  A chemically amplified resist composition comprising a base polymer, an acid generator, and an amine quencher in the form of a β-alanine, γ-aminobutyric acid or 5-aminovaleric acid derivative having an acid labile group-substituted carboxyl group has a high contrast of alkaline dissolution rate before and after exposure and forms a pattern of good profile at a high resolution, minimal roughness and wide focus margin.

  一种化学放大型光刻胶组合物，包括基础聚合物、酸发生剂和胺淬灭剂，后者为β-丙氨酸、γ-氨基丁酸或5-氨基戊酸的衍生物，具有一个被酸不稳定基团所取代的羧基，这种组合物在曝光前后具有高对比度的碱性溶解速率，并且能够形成高分辨率、最小粗糙度和宽焦深度的良好图案轮廓。
• MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20170131635A1

  公开（公告）日：2017-05-11

  A monomer of formula (1a) or (1b) is provided wherein A is a polymerizable group, R 1 -R 6 are monovalent hydrocarbon groups, X 1 is a divalent hydrocarbon group, Z 1 is an aliphatic group, Z 2 forms an alicyclic group, k=0 or 1, m=1 or 2, n=1 to 4. A useful polymer is obtained by polymerizing the monomer. A resist composition comprising the polymer has improved development properties and is processed to form a negative pattern having high contrast, high resolution and etch resistance which is insoluble in alkaline developer.

  提供了一个化学式为（1a）或（1b）的单体，其中A是一个可聚合的基团，R1-R6是一价碳氢基团，X1是一个二价碳氢基团，Z1是一个脂肪基团，Z2形成一个脂环基团，k=0或1，m=1或2，n=1到4。通过聚合单体得到了一种有用的聚合物。包含该聚合物的抗蚀组合物具有改善的显影性能，并且经过处理形成具有高对比度、高分辨率和耐蚀性的负图案，该负图案在碱性显影剂中不溶。
• HEMIACETAL COMPOUND, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20160238930A1

  公开（公告）日：2016-08-18

  A polymer for resist use is obtainable from a hemiacetal compound having formula (1 a ) wherein R 1 is H, CH 3 or CF 3 , R 2 to R 4 each are H or a monovalent hydrocarbon group, X 1 is a divalent hydrocarbon group, ZZ designates a non-aromatic mono- or polycyclic ring of 4 to 20 carbon atoms having a hemiacetal structure, k 1 =0 or 1, and k 2 =0 to 3. A resist composition comprising the polymer displays controlled acid diffusion and low roughness during both positive and negative tone developments.

  从具有以下式（1a）的半缩醛化合物获得用于抗蚀的聚合物，其中R1为H、CH3或CF3，R2至R4分别为H或单价碳氢基团，X1为二价碳氢基团，ZZ表示具有半缩醛结构的非芳香性4至20个碳原子的单环或多环环，k1=0或1，k2=0至3。包含该聚合物的抗蚀组合物显示出在正片和负片显影过程中控制酸扩散和低粗糙度。
• RESIST COMPOSITION, PATTERNING PROCESS, AND BARIUM, CESIUM AND CERIUM SALTS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20170115566A1

  公开（公告）日：2017-04-27

  A resist composition comprising a base resin comprising acid labile group-containing recurring units and preferably acid generator-containing recurring units, and a sodium, magnesium, potassium, calcium, rubidium, strontium, yttrium, cesium, barium or cerium salt of α-fluorinated sulfonic acid bonded to an alkyl, alkenyl, alkynyl or aryl group exhibits a high resolution and sensitivity and forms a pattern of satisfactory profile with minimal LWR after exposure and development.

  一种抗蚀组合物包括基树脂，其中包含含酸敏感基团的重复单元，最好包含含酸发生剂的重复单元，以及与烷基、烯基、炔基或芳基结合的α-氟磺酸的钠、镁、钾、钙、铷、锶、钇、铯、钡或铈盐，表现出高分辨率和灵敏度，并在曝光和显影后形成具有最小LWR的满意轮廓图案。
• ONIUM SALT, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20200369605A1

  公开（公告）日：2020-11-26

  An onium salt of formula (1) and a chemically amplified resist composition comprising the same as a PAG are provided. When processed by lithography, the resist composition exhibits a high sensitivity, minimal LWR and improved CDU independent of whether it is of positive or negative tone.

  提供一种化学式为（1）的铵盐和包括该铵盐作为PAG的化学增感抗蚀组合物。通过光刻加工时，该抗蚀组合物表现出高灵敏度，最小LWR和改善的CDU，无论其为正像还是负像。