methyl-tris(2-methylphenyl)-λ5-phosphane

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: methyl-tris(2-methylphenyl)-λ5-phosphane
• 化学式: C₂₂H₂₅P
• 分子量: 320.4
• InChiKey: BOIDJZYCUUMIPM-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.7
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.18
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

文献信息

• [EN] A NEW METHOD OF 18F LABELLING AND INTERMEDIATE SALTS<br/>[FR] NOUVEAU PROCÉDÉ D'ÉTIQUETAGE DE 18F ET DE SELS INTERMÉDIAIRES
  申请人：NAT UNIV SINGAPORE

  公开号：WO2021126080A1

  公开（公告）日：2021-06-24

  Disclosed herein is a salt of formula I: where R1, X, n, R, R1, Y, m, p, q, Z and o are as defined herein. Also disclosed herein are methods of using said salts in chemical synthesis, such as to prepare compounds isotopically enriched in 18F for use in PET imaging, as well as methods to make the compounds of formula I.

  披露的是公式I的盐：其中R1、X、n、R、R1、Y、m、p、q、Z和o如本文所述定义。还披露了使用所述盐进行化学合成的方法，例如用于制备在正电子发射断层扫描（PET）成像中使用的18F同位素富集化合物，以及制造公式I化合物的方法。
• RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION CONTAINING SILICON HAVING NITROGEN-CONTAINING RING
  申请人：Nakajima Makoto

  公开号：US20120315765A1

  公开（公告）日：2012-12-13

  There is provided a resist underlayer film forming composition for lithography for forming a resist underlayer film capable of being used as a hardmask. A resist underlayer film forming composition for lithography, includes as a silane compound, a hydrolyzable organosilane, a hydrolysis product thereof, or a hydrolysis-condensation product thereof, wherein the hydrolyzable organosilane is a hydrolyzable organosilane of Formula (1): R 1 a R 2 b Si(R 3 ) 4−(a+b) Formula (1) wherein R 1 is Formula (2): in which R 4 is an organic group, and R 5 is a C 1-10 alkylene group, a hydroxyalkylene group, a sulfide bond, an ether bond, an ester bond, or a combination thereof, X 1 is Formula (3), Formula (4), or Formula (5): R 2 is an organic group, and R 3 is a hydrolysable group.

  提供了一种用于制备可用作硬面膜的光刻胶底层膜的抗性底层膜形成组合物。一种用于光刻胶底层膜形成的抗性底层膜形成组合物，包括硅烷化合物作为成分，所述硅烷化合物是可水解的有机硅烷、其水解产物或其水解缩合物，其中所述可水解的有机硅烷是式(1)的可水解的有机硅烷： R1aR2bSi(R3)4−(a+b) 式(1) 其中R1是式(2)： 其中R4是有机基团，R5是C1-10烷基、羟基烷基、硫化键、醚键、酯键或其组合，X1是式(3)、式(4)或式(5)： R2是有机基团，R3是可水解基团。
• SILICON-CONTAINING COMPOSITION FOR FORMATION OF RESIST UNDERLAYER FILM, WHICH CONTAINS ORGANIC GROUP CONTAINING PROTECTED ALIPHATIC ALCOHOL
  申请人：Takeda Satoshi

  公开号：US20130183830A1

  公开（公告）日：2013-07-18

  Described herein are compositions for forming an underlayer film for a solvent-developable resist. These compositions can include a hydrolyzable organosilane having a silicon atom bonded to an organic group containing a protected aliphatic alcohol group, a hydrolysate of the hydrolyzable organosilane, a hydrolysis-condensation product of the hydrolyzable organosilane, or a combination thereof and a solvent. The composition can form a resist underlayer film including, a hydrolyzable organosilane, a hydrolysate of the hydrolyzable organosilane, a hydrolysis-condensation product of the hydrolyzable organosilane, or a combination thereof, the silicon atom in the silane compound having a silicon atom bonded to an organic group containing a protected aliphatic alcohol group in a ratio of 0.1 to 40% by mol based on the total amount of silicon atoms. Also described is a method for applying the composition onto a semiconductor substrate and baking the composition to form a resist underlayer film.

  本文描述了用于形成溶剂可开发光刻胶底层膜的组合物。这些组合物可以包括一个水解性有机硅烷，其硅原子与含有受保护脂肪醇基团的有机基团结合，水解的水解性有机硅烷的水解缩合产物，或两者的组合物和溶剂。该组合物可以形成一个光刻胶底层膜，其中包括水解性有机硅烷，水解的水解性有机硅烷的水解缩合产物，或两者的组合物，硅烷化合物中的硅原子与含有受保护脂肪醇基团的有机基团的比例为总硅原子量的0.1至40%摩尔。还描述了一种将该组合物应用于半导体衬底并烘烤该组合物以形成光刻胶底层膜的方法。
• COMPOSITION FOR FORMING SILICON-CONTAINING RESIST UNDERLAYER FILM HAVING CYCLIC DIESTER GROUP
  申请人：NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.

  公开号：US20150322212A1

  公开（公告）日：2015-11-12

  A resist underlayer film that can be used as a hardmask. A resist underlayer film forming composition for lithography, includes: as a silane, a hydrolyzable silane, a hydrolysis product thereof, or a hydrolysis-condensation product thereof, wherein the hydrolyzable silane includes a hydrolyzable silane of Formula (1) or a hydrolyzable silane containing a combination of a hydrolyzable silane of Formula (1) with a hydrolyzable silane of Formula (2) in a content of less than 50% by mole in all silanes; Formula (1): R 1 a R 2 b Si(R 3 ) 4-(a+b) wherein R 1 is an organic group containing Formula (1-1), Formula (1-2), or Formula (1-3): a is 1 and b is an integer of 0 to 2, where a+b is an integer of 1 to 3; Formula (2): R 4 a R 5 b Si(R 6 ) 4-(a+b) wherein, R 4 is an organic group containing Formula (2-1), Formula (2-2), or Formula (2-3): a is 1 and b is an integer of 0 to 2, where a+b is an integer of 1 to 3.

  一种可用作硬掩膜的抗蚀底层膜。一种用于光刻的抗蚀底层膜形成组合物，包括：作为硅烷的，一种可水解的硅烷，其水解产物或其水解-缩合产物，其中可水解的硅烷包括公式（1）的可水解硅烷或含有公式（1）的可水解硅烷与公式（2）的可水解硅烷的组合物，其在所有硅烷中的摩尔分数小于50％；公式（1）：R1aR2bSi（R3）4-（a+b），其中R1是含有公式（1-1），公式（1-2）或公式（1-3）的有机基团：a为1，b为0到2的整数，其中a+b为1到3的整数；公式（2）：R4aR5bSi（R6）4-（a+b），其中R4是含有公式（2-1），公式（2-2）或公式（2-3）的有机基团：a为1，b为0到2的整数，其中a+b为1到3的整数。
• Procédé de préparation de carboxylates d'éthyle à partir de leurs homologues inférieurs
  申请人：RHONE-POULENC CHIMIE DE BASE

  公开号：EP0031784A2

  公开（公告）日：1981-07-08

  La présente invention se rapporte à un procédé de préparation de carboxylate d'alkyle de formule: Le procédé consiste à faire réagir sur un composé de formule: un mélange de monoxyde de charbone et d'hydrogène en présence simultanée dans le milieu réactionnel de cobalt, de ruthénium, d'un iodure d'alkyle et d'un iodure ionique, le rapport atomique Co/Ru étant inférieur ou égal à 1, la quantité totale de promoteurs iodés présente dans le milieu étant telle que I/Ru soit supérieur ou égal à 5. Le procédé convient notamment pour préparer l'acétate d'éthyle à partir de l'acétate de méthyle.

  本发明涉及一种制备式中烷基羧酸酯的工艺： 该工艺包括与式化合物反应： 一氧化碳和氢的混合物，在反应介质中同时存在钴、钌、烷基碘和离子碘，钴/钌原子比小于或等于 1，介质中碘促进剂的总量使 I/Ru 大于或等于 5。 该工艺尤其适用于从醋酸甲酯制备醋酸乙酯。