[EN] NOVEL MATRIX RESIN FOR HIGH-TEMPERATURE STABLE PHOTOIMAGEABLE COMPOSITIONS<br/>[FR] NOUVELLE RESINE MATRICIELLE S'APPLIQUANT A DES COMPOSITIONS SENSIBLES A LA FORMATION D'IMAGES ET STABLES AUX TEMPERATURES ELEVEES
申请人:HOECHST CELANESE CORPORATION
公开号:WO1994019724A1
公开(公告)日:1994-09-01
(EN) The present invention relates to a novel matrix resin for high-temperature stable photoimageable compositions, in the form of a graft copolymer of monomeric or lower oligomeric hydroxyphenyl units grafted onto a polymer backbone containing reactive sites, to a process for its production and to its use as a matrix resin in photoimageable compositions either in a pure form or in admixture with other polymeric materials.(FR) La présente invention concerne une nouvelle résine matricielle s'appliquant à des compositions sensibles à la formation d'images et stables à des températures élevées, se présentant sous la forme d'un copolymère greffé d'unités monomères ou oligomères hydroxyphényles inférieures, greffées sur un squelette polymère contenant des sites réactifs. L'invention concerne également un procédé de production et l'utilisation de cette résine matricielle dans des compositions sensibles à la formation d'images se présentant soit sous une forme pure, soit mélangées à d'autres matériaux polymères.