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Bis-(3,4-dimethylbenzyl)sulfon | 34277-83-3

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
Bis-(3,4-dimethylbenzyl)sulfon
英文别名
Bis[3,4-dimethylbenzyl]sulfone;4-[(3,4-dimethylphenyl)methylsulfonylmethyl]-1,2-dimethylbenzene
Bis-(3,4-dimethylbenzyl)sulfon化学式
CAS
34277-83-3
化学式
C18H22O2S
mdl
——
分子量
302.437
InChiKey
MFEDSGWROYASKV-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    4
  • 重原子数:
    21
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.33
  • 拓扑面积:
    42.5
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

文献信息

  • Photosensitive resin composition, photosensitive resin laminate, and pattern forming process
    申请人:Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
    公开号:US11294283B2
    公开(公告)日:2022-04-05
    A photosensitive resin composition is provided comprising 100 pbw of a polyimide silicone containing a primary alcoholic hydroxyl group, a crosslinker, a photoacid generator, a polyfunctional epoxy compound, 1-70 pbw of a filler having an average particle size of 0.01-20.0 μm, and 0.01-30 pbw of a colorant. The resin composition is colored and photosensitive and cures into a product having an improved modulus.
    本发明提供了一种光敏树脂组合物,其中包括 100 pbw 含伯醇羟基的聚酰亚胺硅氧烷、交联剂、光酸发生器、多官能环氧化合物、1-70 pbw 平均粒径为 0.01-20.0 μm 的填料和 0.01-30 pbw 着色剂。该树脂组合物具有着色和光敏性,固化后的产品具有更好的模量。
  • Photosensitive resin composition and photosensitive dry film
    申请人:Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
    公开号:US11518876B2
    公开(公告)日:2022-12-06
    A photosensitive resin composition is provided comprising (A) 100 pbw of a phenolic hydroxyl group-containing resin, and (B) 0.1-18 pbw of an epoxy additive in the form of a compound containing 1-8 epoxy groups per molecule, containing nitrogen, sulfur or phosphorus, and having a molecular weight of 50-6,000. The composition has an improved bonding force to metal wirings.
    本发明提供了一种光敏树脂组合物,该组合物包括:(A) 100 pbw 的含羟基酚醛树脂;(B) 0.1-18 pbw 的环氧添加剂,环氧添加剂的形式为每分子含 1-8 个环氧基团的化合物,含氮、硫或磷,分子量为 50-6,000。该组合物对金属线的粘合力有所改善。
  • PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PHOTOSENSITIVE DRY FILM
    申请人:Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
    公开号:US20200140678A1
    公开(公告)日:2020-05-07
    A photosensitive resin composition is provided comprising (A) 100 pbw of a phenolic hydroxyl group-containing resin, and (B) 0.1-18 pbw of an epoxy additive in the form of a compound containing 1-8 epoxy groups per molecule, containing nitrogen, sulfur or phosphorus, and having a molecular weight of 50-6,000. The composition has an improved bonding force to metal wirings.
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