(4-nitrophenyl)methyl N-cyclohexylcarbamate | 114041-04-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: (4-nitrophenyl)methyl N-cyclohexylcarbamate
• CAS: 114041-04-2
• 化学式: C₁₄H₁₈N₂O₄
• 分子量: 278.308
• InChiKey: LUUIVEHYDHCFAR-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  463.5±24.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.23±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.1
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  84.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (4-nitrophenyl)methyl N-cyclohexylcarbamate 以78%的产率得到
  参考文献：
  名称：

  MAIA, HERNANI L. S.;MEDEIROS, MARIA-JOSE;MONTENEGRO, MARIA-IRENE;PLETCHER+, J. CHEM. SOC. PERKIN TRANS.,(1988) N 3, 409-412

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  环己胺 、 氯甲酸对硝基苄酯 以 乙酸乙酯 为溶剂， 生成 (4-nitrophenyl)methyl N-cyclohexylcarbamate
  参考文献：
  名称：

  非质子条件下胺衍生物对4-硝基苄氧基羰基的阴极裂解

  摘要：

  据报道，在二甲基甲酰胺中从四个胺（两个伯和两个仲）的氨基甲酸酯衍生物中4-硝基苄氧基羰基的阴极裂解。通过循环伏安法表明，衍生物在几个步骤中被还原。第一次出现在大约–1.1 V vs。在循环伏安法的时间尺度上，这是一个可逆的1 e过程。然而，在几分钟的时间尺度上，阴离子自由基不稳定并且发生4-硝基苄基羰基的裂解。库仑法然后表明该还原为2e过程，并且游离胺的分离产率超过80％。因此，在质子惰性条件下于–1.2 V还原似乎是去除4-硝基苄氧基羰基的简单方法的基础，这扩大了在大分子合成中使用该保护基的范围。还讨论了质子给体对氨基甲酸酯衍生物还原的影响。

  DOI：

  10.1039/p29880000409

文献信息

• PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND ADHESION ENHANCER
  申请人：TORAY INDUSTRIES, INC.

  公开号：EP1909142A1

  公开（公告）日：2008-04-09

  The present invention provides a photosensitive resin composition comprising (a) an alkali-soluble resin, (b) a silicon compound having a secondary aromatic amino group and an alkoxy group, and (c) at least one selected from a photopolymerization initiator, a photo acid generator and a photo base generator. According to the present invention, it is possible to obtain a photosensitive resin composition which remarkably enhances the adhesion property with a substrate after curing without deteriorating storage stability of a solution, and does not cause peeling of a fine pattern even upon development.

  本发明提供了一种光敏树脂组合物，它包含(a)碱溶性树脂，(b)具有仲芳香族氨基和烷氧基的硅化合物，以及(c)至少一种选自光聚合引发剂、光酸发生剂和光碱发生剂的物质。根据本发明，可以获得一种光敏树脂组合物，它在固化后可显著提高与基底的粘合性，而不会降低溶液的储存稳定性，即使在显影后也不会导致精细图案剥离。
• Nemirovskii,V.D. et al., Journal of Organic Chemistry USSR (English Translation), 1966, vol. 2, p. 16 - 20
  作者：Nemirovskii,V.D. et al.

  DOI：——

  日期：——
• PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND ADHESION PROMOTER
  申请人：Yuba Tomoyuki

  公开号：US20090123867A1

  公开（公告）日：2009-05-14

  The present invention provides a photosensitive resin composition comprising (a) an alkali-soluble resin, (b) a silicon compound having a secondary aromatic amino group and an alkoxy group, and (c) at least one selected from a photopolymerization initiator, a photo acid generator and a photo base generator. According to the present invention, it is possible to obtain a photosensitive resin composition which remarkably enhances the adhesion property with a substrate after curing without deteriorating storage stability of a solution, and does not cause peeling of a fine pattern even upon development.
• US7977028B2
  申请人：——

  公开号：US7977028B2

  公开（公告）日：2011-07-12