pyrrolidin-2-one;2H-triazole

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 吡咯烷类
• 英文名称: pyrrolidin-2-one;2H-triazole
• 化学式: C8H13N7O
• 分子量: 223.24
• InChiKey: GTEKUIMJQXOAES-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.49
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.38
• 拓扑面积：
  112
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  5

文献信息

• PROCESS FOR MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICES
  申请人：BASF SE

  公开号：EP2847785A1

  公开（公告）日：2015-03-18
• [EN] PROCESS FOR MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICES<br/>[FR] PROCÉDÉ POUR LA FABRICATION DE DISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEUR
  申请人：BASF SE

  公开号：WO2013168047A1

  公开（公告）日：2013-11-14

  A process for the manufacture of semiconductor devices is provided. The process comprises the chemical-mechanical polishing of a substrate or layer containing at least one III-V material in the presence of a chemical-mechanical polishing composition (Q1) comprising (A) inorganic particles, organic particles, or a mixture or composite thereof, (B) a polymer comprising at least one N-heterocycle, and (M) an aqueous medium and whereas Q1 has a pH of from 1.5 to 4.5.