1-Ethenyl-4-(1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-methylpropan-2-yl)benzene

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 1-Ethenyl-4-(1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-methylpropan-2-yl)benzene
• 英文别名: 1-ethenyl-4-(1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-methylpropan-2-yl)benzene
• 化学式: C₁₂H₁₀F₆
• 分子量: 268.2
• InChiKey: UHETUYNHQCBDAT-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.5
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

文献信息

• PHOTORESIST COMPOSITION AND ASSOCIATED METHOD OF FORMING AN ELECTRONIC DEVICE
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US20160103392A1

  公开（公告）日：2016-04-14

  A photoresist composition includes a first polymer in which at least half of the repeat units are photoacid-generating repeat units, and a second polymer that exhibits a change in solubility in an alkali developer under the action of acid. In the first polymer, each of the photoacid-generating repeat units comprises photoacid-generating functionality and base-solubility-enhancing functionality.

  一种光阻组合物包括第一聚合物，其中至少一半的重复单元是光酸发生重复单元，并且第二聚合物在酸的作用下在碱性显影剂中表现出溶解度的变化。在第一聚合物中，每个光酸发生重复单元都包括光酸发生性能和碱溶性增强性能。
• US9557642B2
  申请人：——

  公开号：US9557642B2

  公开（公告）日：2017-01-31