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5-硝基-1-萘甲腈 | 23245-64-9

中文名称
5-硝基-1-萘甲腈
中文别名
5-硝基-1-萘氰
英文名称
5-Nitro-1-naphthalenecarbonitrile
英文别名
5-nitro-1-naphthonitrile;5-nitro-[1]naphthonitrile;5-Nitro-1-cyan-naphthalin;5-Nitro-[1]naphthonitril;5-nitronaphthalene-1-carbonitrile
5-硝基-1-萘甲腈化学式
CAS
23245-64-9
化学式
C11H6N2O2
mdl
MFCD01712220
分子量
198.181
InChiKey
KBRVGIIHDCBSDO-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
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  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 熔点:
    197 °C
  • 沸点:
    390.7±17.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    1.35±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.5
  • 重原子数:
    15
  • 可旋转键数:
    0
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    69.6
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    3

安全信息

  • 海关编码:
    2926909090

SDS

SDS:8d110307dd4ddba1d8a3461ee90f4c66
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上下游信息

  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    5-硝基-1-萘甲腈 在 acetic acid ester 、 乙醇 作用下, 生成 5-氨基-1-萘甲腈
    参考文献:
    名称:
    Rupe; Metzger, Helvetica Chimica Acta, 1925, vol. 8, p. 845
    摘要:
    DOI:
  • 作为产物:
    描述:
    氰基萘 在 zeolite HBEA-150 、 氧气二氧化氮 作用下, 以 乙腈 为溶剂, 反应 12.0h, 生成 8-硝基-1-萘甲腈5-硝基-1-萘甲腈
    参考文献:
    名称:
    在中性条件下用二氧化氮和分子氧硝化中度失活的芳烃。沸石诱导的区域选择性增强和异构体比率逆转。
    摘要:
    在沸石的存在下,通过二氧化氮和分子氧的共同作用,可以在室温下将中等程度失活的芳烃(例如1-硝基萘,萘腈和甲基化的苄腈)平稳地硝化。与基于硝酸和硫酸的常规硝化方法相比,区域选择性显着提高。在某些情况下,次要异构体在很大程度上受到青睐,导致硝化产物的普通异构体比率逆转。
    DOI:
    10.1039/b301847d
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文献信息

  • α-Amino Diphenyl Phosphonates as Novel Inhibitors of <i>Escherichia coli</i> ClpP Protease
    作者:Carlos Moreno-Cinos、Elisa Sassetti、Irene G. Salado、Gesa Witt、Siham Benramdane、Laura Reinhardt、Cristina D. Cruz、Jurgen Joossens、Pieter Van der Veken、Heike Brötz-Oesterhelt、Päivi Tammela、Mathias Winterhalter、Philip Gribbon、Björn Windshügel、Koen Augustyns
    DOI:10.1021/acs.jmedchem.8b01466
    日期:2019.1.24
    Increased Gram-negative bacteria resistance to antibiotics is becoming a global problem, and new classes of antibiotics with novel mechanisms of action are required. The caseinolytic protease subunit P (ClpP) is a serine protease conserved among bacteria that is considered as an interesting drug target. ClpP function is involved in protein turnover and homeostasis, stress response, and virulence among
    革兰氏阴性细菌对抗生素的耐药性日益成为全球性问题,因此需要具有新颖作用机制的新型抗生素。酪蛋白水解蛋白酶亚基P(ClpP)是一种在细菌中保守的丝氨酸蛋白酶,被认为是一种有趣的药物靶标。ClpP功能与蛋白质代谢和体内稳态,应激反应以及其他过程中的毒力有关。这项研究的重点是确定大肠杆菌ClpP的新抑制剂并了解其作用方式。测试了基于二芳基膦酸酯战斗部的丝氨酸蛋白酶抑制剂的重点文库对ClpP的抑制作用,并对命中化合物进行了化学探索。总共有14种新的强效大肠杆菌抑制剂确定了ClpP。化合物85和92分别由于其效力以及适度但一致的抗菌特性以及有利的细胞毒性特性而成为本研究中最令人感兴趣的化合物。
  • 13C NMR Investigation of Electronic Interactions in 5-Substituted 1-Naphthonitriles
    作者:Ingeborg I. Schuster
    DOI:10.1002/(sici)1097-458x(199604)34:4<301::aid-omr879>3.0.co;2-6
    日期:1996.4
    CN multiple bond, due primarily to differences in the through‐space field effects of the various Z. The effect diminishes for 1 in neat TFA because of the greater contribution ofdipolar ArC+ξN− to the resonance hybrid. Deviations of the aromatic carbon shifts from substituent chemicalshift additivities are small, yet show distinct patterns for many of the carbon resonances. The deviations of the C‐1—CNipso
    5-Z-取代的 1-萘腈(1;Z = H、F、Cl、Br、NH2、NMe2、CN、NO2、OMe、CHO、CO2Me)在氘氯仿和纯三氟乙酸中的碳 13 NMR 化学位移( TFA) 报道。发现 CN 碳位移与双取代基参数 (DSP) 密切相关。DSP 相关性中传输系数的负值表明存在反向取代基电子效应,这与 CN 多重键的 π 极化变化有关,主要是由于各种 Z 的空间场效应的差异。由于偶极 ArC+ξN− 对共振杂化的更大贡献,在纯 TFA 中效果减弱 1。芳族碳位移与取代基化学位移加成性的偏差很小,然而,许多碳共振显示出不同的模式。中性溶剂和 TFA 中 C-1-CNipso 碳位移 1 的偏差与 DSP 大致相关。它们归因于 C-1 处电荷密度的变化,这是由取代基引起的 CN 键极性变化的结果。在 C-6 和 C-8 共振中观察到的屏蔽大于预期与 +R 取代基减少的电子撤出和给电子基团 Z
  • [EN] INDOLE DERIVATIVES HAVING COMBINED 5HT1A, 5HT1B AND 5HT1D RECEPTOR ANTAGONIST ACTIVITY<br/>[FR] DERIVES INDOLIQUES A ACTIVITE DE RECEPTEUR ANTAGONISTE 5HT1A, 5HT1B, 5HT1D
    申请人:SMITHKLINE BEECHAM PLC
    公开号:WO1998050358A1
    公开(公告)日:1998-11-12
    (EN) Compounds of formula (I), processes for their preparation and their use as CNS agents are disclosed, in which Ra is a group of formula (i), in which P1 is phenyl, bicyclic aryl, a 5- to 7-membered heterocyclic ring containing 1 to 3 heteroatoms selected from oxygen, nitrogen and sulphur, or a bicyclic heterocyclic ring containing 1 to 3 heteroatoms selected from oxygen, nitrogen and sulphur; R1 is hydrogen, halogen, C1-6alkyl, C3-6cycloalkyl, COC1-6alkyl, C1-6alkoxy, hydroxy, hydroxyC1-6alkyl, hydroxyC1-6alkoxy, C1-6alkoxyC1-6alkoxy, C1-6alkanoyl, nitro, trifluoromethyl, cyano, SR9, SOR9, SO2R9, SO2NR1OR11, CO2R10, CONR10R11, CO2NR10R11, CONR10(CH2)cCO2R11, (CH2)cNR10R11, (CH2)cCONR10R11, (CH2)cNR10COR11, (CH2)cCO2C1-6alkyl, CO2(CH2)cOR10, NR10R11, NR10CO2R11, NR10CONR10R11, CR10=NOR11, NR10COOR11, CNR10=NOR11, where R10 and R11 are independently hydrogen or C1-6alkyl and c is 1 to 4; R2 is hydrogen, halogen, C1-6alkyl, C3-6cycloalkyl, C3-6cycloalkenyl, C1-6alkoxy, acyl, aryl, acyloxy, hydroxy, nitro, trifluoromethyl, cyano, CO2R10, CONR10R11, NR10R11 where R10 and R11 are as defined for R1; a is 1, 2 or 3; or Ra is a group of formula (ii), wherein P2 and P3 are independently phenyl, bicyclic aryl, a 5- to 7-membered heterocyclic ring containing 1 to 3 heteroatoms selected from oxygen, nitrogen and sulphur, or a bicyclic heterocyclic group containing 1 to 3 heteroatoms selected from oxygen, nitrogen or sulphur; A is a bond or oxygen, S(O)m where m is 0 to 2, carbonyl, CH2 or NR4 where R4 is hydrogen or C1-6alkyl; R1 is as defined above for formula (I) or R1 is an optionally substituted 5 to 7-membered heterocyclic ring containing 1 to 3 heteroatoms selected from oxygen, nitrogen or sulphur; R2 and R3 are independently hydrogen, halogen, C1-6alkyl, C3-6cycloalkyl, C3-6cycloalkenyl, C1-6alkoxy, acyl, aryl, acyloxy, hydroxy, nitro, trifluoromethyl, cyano, CO2R10, CONR10R11, NR10R11 where R10 and R11 are as defined for R1; and a and b are independently 1, 2 or 3; Y is -NH-, NR5 where R5 is C1-6alkyl, or Y is -CH2- or -O-; V is oxygen or sulphur; D is nitrogen, carbon or a CH group; W is (CR16R17)t where t is 2, 3 or 4 and R16 and R17 are independently hydrogen or C1-6alkyl or W is (CR16R17)u-J where u is 0, 1, 2 or 3 and J is oxygen, sulphur, CR16=CR17, CR16=N, =CR16O, =CR16S or =CR16-NR17; X is nitrogen or carbon; Rb is hydrogen, halogen, hydroxy, C1-6alkyl, trifluoromethyl, C1-6alkoxy, C2-6alkenyl, C3-7cycloalkyl optionally substituted by C1-4alkyl, or aryl; Rc is hydrogen or C1-6alkyl; and ..... is a single bond when X is nitrogen or a single or double bond when X is carbon.(FR) La présente invention concerne des composés représentés par la formule (I), leurs procédés de préparation, leur utilisation comme agents CNS, dans laquelle Ra est un groupe représenté par la formule (i) ou P1 est un phényle, un aryle bicyclique, un noyau hétérocyclique de 5 à 7 chaînons contenant 1 à 3 hétéroatomes sélectionnés dans le groupe constitué d'oxygène, d'azote et de soufre, or un noyau hétérocyclique bicyclique contenant 1 à 3 hétéroatomes sélectionnés dans le groupe constitué d'oxygène, d'azote et de soufre; R1 et hydrogène, halogène, C1-6alkyle, C3-6cycloalkyle, COC1-6alkyle, C1-6alkoxy, hydroxy, hydroxyC1-6alkyle, hydroxyC1-6alcoxy, C1-6alcoxyC1-6alcoxy, C1-6alkanoyl, nitro, trifluorométhyl, cyano, SR9, SOR9, SO2R9, SO2NR1OR11, CO2R10, CONR10R11, CO2NR10R11, CONR10(CH2)cCO2R11, (CH2)cNR10R11, (CH2)cCONR10R11, (CH2)cNR10COR11, (CH2)cCO2C1-6alkyl, CO2(CH2)cOR10, NR10R11, NR10CO2R11, NR10CONR10R11, CR10=NOR11, NR10COOR11, CNR10=NOR11, où R10 et R11 sont indépendamment hydrogen ou C1-6alkyle et c est compris entre 1 et 4; R2 est hydrogène, halogène, C1-6alkyle, C3-6cycloalkyle, C3-6cycloalcényl, C1-6alcoxy, acyle, aryle, acyloxy, hydroxy, nitro, trifluorométhyl, cyano, CO2R10, CONR10R11, NR10R11 où R10 et R11 sont tels que définis pour R1; a est 1, 2 ou 3; ou Ra est un groupe représenté par la formule (ii), dans laquelle P2 et P3 sont indépendamment un phényl, un aryle bicyclique, un noyau hétérocyclique de 5 à 7 chaînons contenant 1 à 3 hétéroatomes sélectionnés dans le groupe constitué d'oxygène, d'azote et de soufre ou un groupe hétérocyclique bicyclique contenant 1 à 3 hétéroatomes sélectionnés dans le groupe constitué d'oxygène, d'azote ou de soufre; A est une liaison ou oxygène, S(O)m où m est compris entre 0 et 2, carbonyl, CH2 ou NR4 où R4 est hydrogène ou C1-6alkyle; R1 est tel que défini ci-dessus pour la formule (I) ou R1 est un noyau hétérocyclique de 5 à 7 chaînons éventuellement substitué contenant 1 à 3 hétéroatomes sélectionnés dans le groupe constitué d'oxygène, d'azote ou de soufre; R2 et R3 sont indépendamment hydrogène, halogène, C1-6alkyle, C3-6cycloalkyle, C3-6cycloalcényle, C1-6alcoxy, acyle, aryle, acyloxy, hydroxy, nitro, trifluorométhyl, cyano, CO2R10, CONR10R11, NR10R11 où R10 et R11 sont tels que définis pour R1; et a et b sont indépendamment 1, 2 ou 3; Y est -NH-, NR5 où R5 est C1-6alkyle, ou Y est -CH2- ou -O-; V est oxygène ou soufre; D est azote, carbone ou un groupe CH; W est (CR16R17)t où t est 2, 3 ou 4 et R16 et R17 sont indépendamment hydrogène où C1-6alkyle ou W est (CR16R17)u-J où u est 0, 1, 2 ou 3 et J est oxygène, soufre, CR16=CR17, CR16=N, =CR16O, =CR16S ou =CR16-NR17; X est azote ou carbone; Rb est hydrogène, halogène, hydroxy, C1-6alkyle, trifluorométhyl, C1-6alcoxy, C2-6alcényl, C3-7cycloalkyle éventuellement substitué par C1-4alkyle, ou aryle; Rc est hydrogène ou C1-6alkyle; et ..... est une liaison simple lorsque X est azote ou une liaison simple ou double lorsque X est carbone.
    本文介绍了公式(I)的化合物,其制备方法以及作为中枢神经系统(CNS)药物的用途。其中,Ra是公式(i)的一组,其中P1是苯基、双环芳基、含有1-3个氧、氮和硫的5-7元杂环环或含有1-3个氧、氮和硫的双环杂环环;R1是氢、卤素、C1-6烷基、C3-6环烷基、COC1-6烷基、C1-6烷氧基、羟基、羟基C1-6烷基、羟基C1-6烷氧基、C1-6烷氧基C1-6烷氧基、C1-6酰基、硝基、三氟甲基、氰基、SR9、SOR9、SO2R9、SO2NR1OR11、CO2R10、CONR10R11、CO2NR10R11、CONR10(CH2)cCO2R11、(CH2)cNR10R11、(CH2)cCONR10R11、(CH2)cNR10COR11、(CH2)cCO2C1-6烷基、CO2(CH2)cOR10、NR10R11、NR10CO2R11、NR10CONR10R11、CR10=NOR11、NR10COOR11、CNR10=NOR11,其中R10和R11独立地表示氢或C1-6烷基,c为1-4;R2是氢、卤素、C1-6烷基、C3-6环烷基、C3-6环烯基、C1-6烷氧基、酰基、芳基、酰氧基、羟基、硝基、三氟甲基、氰基、CO2R10、CONR10R11、NR10R11,其中R10和R11如R1所定义;a为1、2或3;或者Ra是公式(ii)的一组,其中P2和P3独立地表示苯基、双环芳基、含有1-3个氧、氮和硫的5-7元杂环环或含有1-3个氧、氮或硫的双环杂环环;A是键或氧、S(O)m,其中m为0-2,羰基,CH2或NR4,其中R4为氢或C1-6烷基;R1如公式(I)所定义,或R1是选择性取代的含有1-3个氧、氮或硫的5-7元杂环环;R2和R3独立地表示氢、卤素、C1-6烷基、C3-6环烷基、C3-6环烯基、C1-6烷氧基、酰基、芳基、酰氧基、羟基、硝基、三氟甲基、氰基、CO2R10、CONR10R11、NR10R11,其中R10和R11如R1所定义;a和b独立地为1、2或3;Y是-NH-、NR5,其中R5为C1-6烷基,或Y是-CH2-或-O-;V为氧或硫;D为氮、碳或CH基;W为(CR16R17)t,其中t为2、3或4,R16和R17独立地表示氢或C1-6烷基,或W为(CR16R17)u-J,其中u为0、1、2或3,J为氧、硫、CR16=CR17、CR16=N、=CR16O、=CR16S或=CR16-NR17;X为氮或碳;Rb为氢、卤素、羟基、C1-6烷基、三氟甲基、C1-6烷氧基、C2-6烯基、C3-7环烷基,其可选择性地被C1-4烷基取代,或芳基;Rc为氢或C1-6烷基;以及......为单键,当X为氮时,或为单键或双键,当X为碳时。
  • CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND WAFER CLEANING COMPOSITION COMPRISING AMIDOXIME COMPOUNDS AND ASSOCIATED METHOD FOR USE
    申请人:Lee Wai Mun
    公开号:US20090130849A1
    公开(公告)日:2009-05-21
    A composition and associated method for chemical mechanical planarization (or other polishing) is described. The composition contains an amidoxime compound and water. The composition may also contain an abrasive and a compound with oxidation and reduction potential. The composition is useful for attaining improved removal rates for metal, including copper, barrier material, and dielectric layer materials in metal CMP. The composition is particularly useful in conjunction with the associated method for metal CMP applications.
    本文描述了一种化学机械平整化(或其他抛光)的组合物及其相关方法。该组合物含有一种酰胺肟化合物和水。该组合物还可以含有磨料和具有氧化还原潜力的化合物。该组合物可用于在金属CMP中获得改进的金属去除速率,包括铜、屏障材料和金属CMP中的介电层材料。该组合物在金属CMP应用的相关方法中特别有用。
  • METHODS OF CLEANING SEMICONDUCTOR DEVICES AT THE BACK END OF LINE USING AMIDOXIME COMOSITIONS
    申请人:Lee Wai Mun
    公开号:US20100043823A1
    公开(公告)日:2010-02-25
    The present invention relates to aqueous compositions comprising amidoxime compounds and methods for cleaning plasma etch residue from semiconductor substrates including such dilute aqueous solutions. The compositions of the invention may optionally contain one or more other acid compounds, one or more basic compounds, and a fluoride-containing compound and additional components such as organic solvents, chelating agents, amines, and surfactants. The invention also relates to a method of removing residue from a substrate during integrated circuit fabrication.
    本发明涉及含有酰胺肟化合物的水性组合物及其清洗半导体衬底上等离子体刻蚀残留物的方法,包括这种稀释的水性溶液。本发明的组合物可以选择性地含有一种或多种其他酸性化合物、一种或多种碱性化合物、含氟化合物和其他成分,如有机溶剂、螯合剂、胺和表面活性剂。本发明还涉及一种在集成电路制造过程中从衬底上去除残留物的方法。
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