3,3-dimethylthiophthalide | 55548-97-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物
• 英文名称: 3,3-dimethylthiophthalide
• 英文别名: 3,3-Dimethylthiophthalid；Benzo[c]thiophen-1(3H)-one, 3,3-dimethyl-；3,3-dimethyl-2-benzothiophen-1-one
• CAS: 55548-97-5
• 化学式: C₁₀H₁₀OS
• 分子量: 178.255
• InChiKey: ZGHJQIWLANPYNI-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.5
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.3
• 拓扑面积：
  42.4
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3,3-dimethylthiophthalide 生成 3,3-Dimethyldithiophthalid
  参考文献：
  名称：

  OPARIN, D. A.;KUZNETSOVA, A. S., VESTSI AN BSSR. CEP. XIM. N.,(1990) N, S. 109-110

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  3,3-二甲基-2-苯并呋喃-1(3H)-酮 在 劳森试剂 、 triethyloxonium fluoroborate 、 三乙胺 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 反应 6.5h， 生成 3,3-dimethylthiophthalide
  参考文献：
  名称：

  Synthesis of 3,3-disubstituted 2-thiophthalides

  摘要：

  DOI：

  10.1007/bf00476744

文献信息

• Studies on the Flash Vacuum Thermolysis of Thiones of Selected N-, O-, and S-Heterocycles
  作者：Tomasz Drewnowski、Stanisław Leśniak、Grzegorz Mlostoń、Renata Siedlecka、Jacek Skarżewski

  DOI：10.1002/hlca.200690104

  日期：2006.5

  flash vacuum thermolysis conditions was investigated. In the case of six-membered 4H-3,1-benzoxathiin-4-thione 6, the course of the reaction depended on the substitution pattern at C(2) (Scheme 3). Thus, the 2-unsubstituted derivative 6a led to the unstable product 2, which upon treatment with MeOH was converted quantitatively into methyl 2-mercaptobenzoate (7). The analogous thermolysis of the 2,2-dimethyl

  研究了在闪蒸真空热解条件下选定的N-，O-和S-杂环的硫酮的热分解。在六元4 H -3,1-苯并沙丁胺-4-硫酮6的情况下，反应过程取决于C（2）处的取代模式（方案3）。因此，该2-未取代的衍生物6a导致不稳定的产物2，该产物在用MeOH处理后被定量地转化为2-巯基苯甲酸甲酯（7）。对2，2-二甲基衍生物6b进行类似的热解，得到2-甲基-4 H -1-苯并噻喃-4-硫酮（8），为唯一产物。就硫邻苯二甲酸酯衍生物而言参照图15，观察到气相中的热重排以高收率产生相应的苯并[ c ]噻吩-1（3H）-酮16（方案6）。出乎意料的是，1,3-氧硫杂环戊烷-5-酮的硫化17与劳森标准条件下的试剂导致1,2-二硫杂环丁烷衍生物19，其中，气相热解后，进行了扩环，得到3- ħ - 1,2-二硫醇20（方案7）。六元4 H -1,3-苯并噻嗪-4-硫酮21显示出三种产物：菲咯[9,10- c] -1,2-二硫醚（22），3
• OPARIN, D. A.;KUZNETSOVA, A. S., VESTSI AN BSSR. CEP. XIM. N.,(1990) N, S. 109-110
  作者：OPARIN, D. A.、KUZNETSOVA, A. S.

  DOI：——

  日期：——
• OPARIN, D. A.;SHALYGINA, V. A., ZH. ORGAN. XIMII, 1986, 22, N 4, 886
  作者：OPARIN, D. A.、SHALYGINA, V. A.

  DOI：——

  日期：——
• SOLOVEJCHIK I. P.; MELENTEVA T. G.; PAVLOVA L. A., ZH. ORGAN. XIMII <ZORK-AE>, 1975, 11, HO 11, 2421-2424
  作者：SOLOVEJCHIK I. P.、 MELENTEVA T. G.、 PAVLOVA L. A.

  DOI：——

  日期：——
• POLYMER HAVING A STRUCTURE OF POLYAMIDE, POLYAMIDE-IMIDE, OR POLYIMIDE, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERNING PROCESS, PHOTOSENSITIVE DRY FILM, AND PROTECTIVE FILM FOR ELECTRIC AND ELECTRONIC PARTS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20200041903A1

  公开（公告）日：2020-02-06

  The present invention is a polymer having a polyamide structural unit, a polyamide-imide structural unit, or a polyimide structural unit, selected from a polyamide, a polyamide-imide, a polyimide, a polyimide precursor, a polybenzoxazole, and a polybenzoxazole precursor, including a reaction product of a diamine containing at least one of a diamine shown by the following general formula (1) and a diamine shown by the following general formula (2), together with at least one of a tetracarboxylic dianhydride shown by the following general formula (3) as well as a dicarboxylic acid and a dicarboxylic halide shown by the following general formula (4). This provides a polymer which is soluble in a safe organic solvent used widely, and is usable as a base resin of a positive photosensitive resin composition that is soluble in an aqueous alkaline solution and capable of forming a fine pattern to give higher resolution.