CO-CROSSLINKER SYSTEMS FOR ENCAPSULATION FILMS COMPRISING UREA COMPOUNDS
申请人:ULBRICHT Daniel
公开号:US20160177013A1
公开(公告)日:2016-06-23
A first composition (A) contains (i) at least one compound (I) selected from the group consisting of triallyl isocyanurate, and triallyl cyanurate, wherein the compound (I) is preferably triallyl isocyanurate; and (ii) at least one urea compound. A second composition (B) contains the first composition (A) and at least one polyolefin copolymer. Composition (B) is used for producing a film for encapsulating an electronic device, in particular a solar cell.
Covernetzersysteme für Verkapselungsfolien umfassend Harnstoffverbindungen
申请人:Evonik Degussa GmbH
公开号:EP3034528A1
公开(公告)日:2016-06-22
Die vorliegende Erfindung betrifft eine erste Zusammensetzung (A) umfassend (i) mindestens eine Verbindung (I) ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Triallylisocyanurat, Triallylcyanurat, wobei die Verbindung (I) bevorzugt Triallylisocyanurat ist; und (ii) mindestens eine Harnstoffverbindung. Daneben betrifft die vorliegende Erfindung auch eine zweite Zusammensetzung (B) umfassend die erste Zusammensetzung (A) und mindestens ein Polyolefincopolymer. Schließlich betrifft die vorliegende Erfindung die Verwendung der Zusammensetzung (B) zur Herstellung einer Folie zur Verkapselung einer elektronischen Vorrichtung, insbesondere einer Solarzelle.
Resist underlayer composition, and method of forming patterns using the composition
申请人:Samsung SDI Co., Ltd.
公开号:US11249396B2
公开(公告)日:2022-02-15
A resist underlayer composition includes a polymer including a structural unit represented by Chemical Formula 1; and a solvent and a method of forming patterns using the resist underlayer composition:
In Chemical Formula 1, at least one of A1 and A2 is a group represented by Chemical Formula A:
RESIST UNDERLAYER COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING PATTERNS USING THE COMPOSITION
申请人:Samsung SDI Co., Ltd.
公开号:US20200285153A1
公开(公告)日:2020-09-10
A resist underlayer composition includes a polymer including a structural unit represented by Chemical Formula 1; and a solvent and a method of forming patterns using the resist underlayer composition:
In Chemical Formula 1, at least one of A
1
and A
2
is a group represented by Chemical Formula A: