A resist underlayer composition includes a polymer including a structural unit represented by Chemical Formula 1; and a solvent and a method of forming patterns using the resist underlayer composition:
In Chemical Formula 1, at least one of A1 and A2 is a group represented by Chemical Formula A:
抗蚀剂底层组合物包括一种聚合物,其中包括由
化学式 1 表示的结构单元;以及一种溶剂和一种使用抗蚀剂底层组合物形成图案的方法:
在
化学式 1 中,A1 和 A2 中至少有一个是由
化学式 A 表示的基团: