2-hydroxy-6-phenoxy-1H-benzo[de]isoquinoline-1,3(2H)-dione

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 异喹啉及其衍生物
• 英文名称: 2-hydroxy-6-phenoxy-1H-benzo[de]isoquinoline-1,3(2H)-dione
• 英文别名: 2-hydroxy-6-phenoxybenzo[de]isoquinoline-1,3-dione
• 化学式: C₁₈H₁₁NO₄
• 分子量: 305.29
• InChiKey: ABPVAQBXSNDTJF-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.2
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  66.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  三氟甲磺酸酐 、 2-hydroxy-6-phenoxy-1H-benzo[de]isoquinoline-1,3(2H)-dione 在 吡啶 作用下， 以 乙腈 为溶剂， 反应 2.0h， 生成 (1,3-Dioxo-6-phenoxybenzo[de]isoquinolin-2-yl) trifluoromethanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  [EN] SULFONIC DERIVATIVE COMPOUNDS AS PHOTOACID GENERATORS IN RESIST APPLICATIONS
  [FR] COMPOSÉS DÉRIVÉS SULFONIQUES UTILISÉS EN TANT QUE PHOTOGÉNÉRATEURS D'ACIDES DANS DES APPLICATIONS DE PHOTORÉSINE

  摘要：

  提供了新型光酸发生剂化合物。还提供了包括这些新型光酸发生剂化合物的光阻组合物。该发明还提供了制备和使用所述光酸发生剂化合物和光阻组合物的方法。这些化合物和组合物可用作化学增感光阻组合物中的光活性组分，适用于各种微加工应用。

  公开号：

  WO2016043941A1
• 作为产物：
  描述：

  苯酚 在 吡啶 、 盐酸羟胺 、 potassium carbonate 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 反应 4.5h， 生成 2-hydroxy-6-phenoxy-1H-benzo[de]isoquinoline-1,3(2H)-dione
  参考文献：
  名称：

  [EN] SULFONIC DERIVATIVE COMPOUNDS AS PHOTOACID GENERATORS IN RESIST APPLICATIONS
  [FR] COMPOSÉS DÉRIVÉS SULFONIQUES UTILISÉS EN TANT QUE PHOTOGÉNÉRATEURS D'ACIDES DANS DES APPLICATIONS DE PHOTORÉSINE

  摘要：

  提供了新型光酸发生剂化合物。还提供了包括这些新型光酸发生剂化合物的光阻组合物。该发明还提供了制备和使用所述光酸发生剂化合物和光阻组合物的方法。这些化合物和组合物可用作化学增感光阻组合物中的光活性组分，适用于各种微加工应用。

  公开号：

  WO2016043941A1

文献信息

• [EN] SULFONIC DERIVATIVE COMPOUNDS AS PHOTOACID GENERATORS IN RESIST APPLICATIONS<br/>[FR] COMPOSÉS DÉRIVÉS SULFONIQUES UTILISÉS EN TANT QUE PHOTOGÉNÉRATEURS D'ACIDES DANS DES APPLICATIONS DE PHOTORÉSINE
  申请人：HERAEUS PRECIOUS METALS NORTH AMERICA DAYCHEM LLC

  公开号：WO2016043941A1

  公开（公告）日：2016-03-24

  Novel photoacid generator compounds are provided. Photoresist compositions that include the novel photoacid generator compounds are also provided. The invention further provides methods of making and using the photoacid generator compounds and photoresist compositions disclosed herein. The compounds and compositions are useful as photoactive components in chemically amplified resist compositions for various microfabrication applications.

  提供了新型光酸发生剂化合物。还提供了包括这些新型光酸发生剂化合物的光阻组合物。该发明还提供了制备和使用所述光酸发生剂化合物和光阻组合物的方法。这些化合物和组合物可用作化学增感光阻组合物中的光活性组分，适用于各种微加工应用。