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4-nitrobenzo[b]thiophene-2-sulfonyl chloride | 1259425-99-4

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
4-nitrobenzo[b]thiophene-2-sulfonyl chloride
英文别名
4-Nitro-1-benzothiophene-2-sulfonyl chloride;4-nitro-1-benzothiophene-2-sulfonyl chloride
4-nitrobenzo[b]thiophene-2-sulfonyl chloride化学式
CAS
1259425-99-4
化学式
C8H4ClNO4S2
mdl
——
分子量
277.709
InChiKey
XABZXEWMIRDZMB-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.1
  • 重原子数:
    16
  • 可旋转键数:
    1
  • 环数:
    2.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    117
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    5

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为产物:
    参考文献:
    名称:
    FLUORINE-FREE FUSED RING HETEROAROMATIC PHOTOACID GENERATORS AND RESIST COMPOSITIONS CONTAINING THE SAME
    摘要:
    本发明涉及一种无氟光酸发生剂(PAG)和含有该PAG的光刻胶组合物。该PAG的特点是具有一个onium阳离子组分和一个不含氟的融合环杂芳基磺酸盐阴离子组分,其中包含一个或多个电子吸引取代基。该PAG的onium阳离子组分优选为烷基磺酸盐或碘酸盐阳离子。该光刻胶组合物还包含一种酸敏感成像聚合物。该光刻胶组合物在使用193 nm(ArF)光刻术在半导体基板上形成材料图案方面特别有用。
    公开号:
    US20130011786A1
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文献信息

  • US8343706B2
    申请人:——
    公开号:US8343706B2
    公开(公告)日:2013-01-01
  • US8518630B2
    申请人:——
    公开号:US8518630B2
    公开(公告)日:2013-08-27
  • US8617791B2
    申请人:——
    公开号:US8617791B2
    公开(公告)日:2013-12-31
  • US8628909B2
    申请人:——
    公开号:US8628909B2
    公开(公告)日:2014-01-14
  • US8628910B2
    申请人:——
    公开号:US8628910B2
    公开(公告)日:2014-01-14
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