Bis(3-chlorophenylsulphonyl)methane | 2394-03-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: Bis(3-chlorophenylsulphonyl)methane
• 英文别名: 1-chloro-3-[(3-chlorophenyl)sulfonylmethylsulfonyl]benzene
• CAS: 2394-03-8
• 化学式: C₁₃H₁₀Cl₂O₄S₂
• 分子量: 365.3
• InChiKey: OWITURUKFUPLIO-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  175-176 °C
• 沸点：
  612.4±55.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.513±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.4
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.08
• 拓扑面积：
  85
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

文献信息

• 1-Fluoro-1,1-Bis-(Phenylsulfonyl)Methane and Production Method Thereof
  申请人：Toru Takeshi

  公开号：US20090131723A1

  公开（公告）日：2009-05-21

  A novel 1-fluoro-1,1-bis(arylsulfonyl)methane is provided which is useful in monofluoromethylation. Also provided is a production method thereof. A method for producing a fluorobis(arylsulfonyl)methane, the method including the steps of: treating a bis(arylsulfonyl)methane represented by the following formula (1), (ArSO 2 ) 2 CH 2 (1) (wherein Ar represents a substituted or unsubstituted phenyl group or naphthyl group) with a base; and then adding a fluorination reagent thereto, to produce fluorobis(arylsulfonyl)methane represented by the following formula (2) (ArSO 2 ) 2 CHF  (2) (wherein Ar is defined as above), and a fluorobis(arylsulfonyl)methane (2) represented by the above formula (2), which is a novel compound that is very useful in producing a monofluoromethyl.

  提供了一种新型的1-氟-1,1-双(芳基磺酰基)甲烷，可用于单氟甲基化。还提供了一种其生产方法。一种制备氟双(芳基磺酰基)甲烷的方法，包括以下步骤：用碱处理以下式子(1)所表示的双(芳基磺酰基)甲烷(ArSO2)2CH2(1)(其中Ar代表取代或未取代的苯基或萘基)，然后加入氟化试剂，制备以下式子(2)所表示的氟双(芳基磺酰基)甲烷(ArSO2)2CHF  (2)(其中Ar的定义如上)，以及上述式子(2)所表示的新型化合物氟双(芳基磺酰基)甲烷(2)，在单氟甲基化生产中非常有用。
• [DE] POSITIV-ARBEITENDES STRAHLUNGSEMPFINDLICHES GEMISCH UND DAMIT HERGESTELLTES AUFZEICHNUNGSMATERIAL<br/>[EN] POSITIVE-ACTING RADIATION-SENSITIVE MIXTURE AND RECORDING MATERIAL PRODUCED THEREWITH<br/>[FR] MELANGE SENSIBLE AU RAYONNEMENT, A FONCTION POSITIVE, ET MATERIAU D'ENREGISTREMENT FABRIQUE AVEC CE MELANGE
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：WO1994003837A1

  公开（公告）日：1994-02-17

  (DE) Die Erfindung betrifft ein positiv-arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch mit a) einer Verbindung, die unter Einwirkung von aktinischer Strahlung Säure bildet, b) einer Verbindung mit mindestens einer durch diese Säure spaltbaren C-O-C- oder C-O-Si-Bindung und c) einem in Wasser unlöslichen, in wäßrig-alkalischen Lösungen löslichen oder zumindest quellbaren polymeren Bindemittel, das dadurch gekennzeichnet ist, daß die Verbindung (a) der allgemeinen Formel R1(-SO2-R2)n entspricht, worin: R1 ein n-wertiger (C1-C3)Alkanrest ist, R2 gleich oder verschieden sind und Aryl-, Aralkyl-, Heteroaryl- oder Heteroaralkylreste und n eine ganze Zahl von 2 bis 4 bedeuten. Das erfindungsgemäße, strahlungsempfindliche Gemisch zeichnet sich durch eine hohe Auflösung und eine hohe Empfindlichkeit über einem weiten Spektralbereich aus. Es zeigt ebenso eine hohe thermische Stabilität und bildet bei Belichtung keine korrodierenden Photolyseprodukte. Die Erfindung betrifft weiterhin ein daraus hergestelltes, strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial, das zur Herstellung von Photoresists, elektronischen Bauteilen, Druckplatten oder zum Formteilätzen geeignet ist.(EN) The invention relates to a positive-acting radiation-sensitive mixture with: a) a compound which forms an acid under the effect of actinic radiation, b) a compound with at least one C-O-C- or C-O-Si bond which can be split by this acid and c) a polymeric binder which is insoluble in water but soluble or at least swellable by aqueous alkaline solutions, in which the compound (a) corresponds to the general formula: R1(-SO2-R2)n, in which R1 is an n-valent (C1C3)alkane radical, R2 are the same or different and are aryl, aralkyl, heteroaryl or heteroaralkyl radicals and n is a whole number from 2 to 4. The radiation-sensitive mixture of the invention has high resolution and great sensitivity over a wide spectral range. It also exhibits great thermal stability and does not form any corrosive photolysis products on exposure. The invention also relates to a radiation-sensitive recording material made therefrom which is suitable for making photoresists, electronic components and printing plates or for moulding etching.(FR) L'invention concerne un mélange sensible au rayonnement, à fonction positive, comprenant: a) un composé formant un acide sous l'action du rayonnement actinique, b) un composé présentant au moins une liaison C-O-C- ou C-O-Si dissociable par cet acide, et c) un liant polymère insoluble dans l'eau, soluble dans des solutions alcalines aqueuses, ou au moins gonflable, caractérisé en ce que le composé (a) correspond à la formule générale: R1(-SO2-R2)n, dans laquelle R1 est un reste alcane en C1-C3, de valence n; R2, identiques ou différents, sont des restes aryle, aralkyle, hétéroaryle ou hétéroaralkyle, et n est un nombre entier compris entre 2 et 4. Le mélange sensible au rayonnement conforme à l'invention est remarquable en ce qu'il présente une aptitude élevée à la dissolution et une haute sensibilité dans un vaste domaine spectral. Il présente également une haute stabilité thermique et ne forme pas, par exposition à la lumière, de produits de photolyse corrosifs. L'invention concerne également un matériau d'enregistrement sensible au rayonnement, fabriqué avec ce mélange, ledit matériau convenant pour la fabrication de photorésists, de composants électroniques, de plaques d'impression ou pour l'attaque de pièces moulées.

  该发明涉及一种正作用的辐射敏感混合物，包含以下三种成分： a) 能在辐射作用下形成酸的化合物， b) 至少具有一份C-O-C-或C-O-Si键的化合物，这些键在酸的作用下能分离，以及 c) 一种在水溶剂中不水解但在水和碱性溶液中能水解或至少能膨胀的聚合物交联剂，该交联剂通过以下的一般式子~R1(-SO2-R2)n~加以表征，其中 R1 为一个n值为(1(C1-C3)代烷基，R2 是相同的或其他的基团，且为aryl、aryl、heteroaryl 或heteroaryl基团，n 则为2到4之间的整数。 该辐射敏感混合物具有高度的分辨率和广泛波谱范围的巨大灵敏度。它还表现出高度的热稳定性和在光照下不会产生腐蚀性光分解产物。 该发明还涉及到上述混合物制备的一种辐射敏感记录材料，这种材料可用于制备光阻、电子组件、印刷版或制备 etching模具。
• POSITIV-ARBEITENDES STRAHLUNGSEMPFINDLICHES GEMISCH UND DAMIT HERGESTELLTES AUFZEICHNUNGSMATERIAL
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0654149A1

  公开（公告）日：1995-05-24
• EP1992612A1
  申请人：——

  公开号：EP1992612A1

  公开（公告）日：2008-11-19
• US7638654B2
  申请人：——

  公开号：US7638654B2

  公开（公告）日：2009-12-29

表征谱图