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3-(4-t-butoxycarbonyl)phenyl-1-propanol | 1559067-01-4

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
3-(4-t-butoxycarbonyl)phenyl-1-propanol
英文别名
Tert-butyl [4-(3-hydroxypropyl)phenyl] carbonate;tert-butyl [4-(3-hydroxypropyl)phenyl] carbonate
3-(4-t-butoxycarbonyl)phenyl-1-propanol化学式
CAS
1559067-01-4
化学式
C14H20O4
mdl
——
分子量
252.31
InChiKey
VPAWPCJXKJLXPS-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3
  • 重原子数:
    18
  • 可旋转键数:
    7
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.5
  • 拓扑面积:
    55.8
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    4

上下游信息

  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    3-(4-t-butoxycarbonyl)phenyl-1-propanol丙二酰氯吡啶 作用下, 以 二氯甲烷 为溶剂, 以61%的产率得到Bis[3-[4-[(2-methylpropan-2-yl)oxycarbonyloxy]phenyl]propyl] propanedioate
    参考文献:
    名称:
    [EN] METHANOFULLERENES
    [FR] MÉTHANOFULLERRÈNES
    摘要:
    本公开涉及新型甲烷富勒烯衍生物,由此制备的负型光刻胶组合物以及使用它们的方法。这些衍生物,它们的光刻胶组合物和方法非常适合使用紫外线辐射、超过极紫外线辐射、极紫外线辐射、X射线和带电粒子射线等技术进行精细图案处理。
    公开号:
    WO2014078097A1
  • 作为产物:
    描述:
    二碳酸二叔丁酯3-(4-羟基苯基)-1-丙醇18-冠醚-6potassium carbonate 作用下, 以 二氯甲烷 为溶剂, 以95%的产率得到3-(4-t-butoxycarbonyl)phenyl-1-propanol
    参考文献:
    名称:
    [EN] METHANOFULLERENES
    [FR] MÉTHANOFULLERÈNES
    摘要:
    本公开涉及新型甲烷富勒烯衍生物,制备其负型光阻组合物和使用它们的方法。这些衍生物、它们的光阻组合物和方法非常适合使用紫外线辐射、超过极紫外线辐射、极紫外线辐射、X射线和带电粒子射线进行精细图案处理。还公开了负光敏组合物。
    公开号:
    WO2014137663A1
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文献信息

  • Methanofullerenes
    申请人:Robinson Alex Philip Graham
    公开号:US20140134843A1
    公开(公告)日:2014-05-15
    The present disclosure relates to novel methanofullerene derivatives, negative-type photoresist compositions prepared therefrom and methods of using them. The derivatives, their photoresist compositions and the methods are ideal for fine pattern processing using, for example, ultraviolet radiation, beyond extreme ultraviolet radiation, extreme ultraviolet radiation, X-rays and charged particle rays.
    本公开涉及新型甲烷富勒烯衍生物,由此制备的负型光刻胶组合物以及使用它们的方法。这些衍生物、它们的光刻胶组合物和方法非常适合使用紫外线辐射、超极紫外线辐射、极紫外线辐射、X射线和带电粒子束进行精细图案加工。
  • FULLERENES
    申请人:ROBINSON Alex Philip Graham
    公开号:US20160139506A1
    公开(公告)日:2016-05-19
    The present disclosure relates to novel fullerene derivatives, positive and negative photoresist compositions prepared therefrom and methods of using them. The derivatives, their photoresist compositions and the methods are ideal for high speed, fine pattern processing using, for example, ultraviolet radiation, extreme ultraviolet radiation, beyond extreme ultraviolet radiation, X-rays, electron beam and other charged particle rays.
    本公开涉及新颖的富勒烯衍生物、由其制备的正、负光刻胶组合物及其使用方法。这些衍生物、光刻胶组合物和方法非常适合使用紫外辐射、极紫外辐射、超出极紫外辐射、X射线、电子束和其他带电粒子射线进行高速、精细图案处理。
  • [EN] METHANOFULLERENES<br/>[FR] MÉTHANOFULLERRÈNES
    申请人:ROBINSON ALEX PHILIP GRAHAM
    公开号:WO2014078097A1
    公开(公告)日:2014-05-22
    The present disclosure relates to novel methanofullerene derivatives, negative- type photoresist compositions prepared therefrom and methods of using them. The derivatives, their photoresist compositions and the methods are ideal for fine pattern processing using, for example, ultraviolet radiation, beyond extreme ultraviolet radiation, extreme ultraviolet radiation, X-rays and charged particle rays.
    本公开涉及新型甲烷富勒烯衍生物,由此制备的负型光刻胶组合物以及使用它们的方法。这些衍生物,它们的光刻胶组合物和方法非常适合使用紫外线辐射、超过极紫外线辐射、极紫外线辐射、X射线和带电粒子射线等技术进行精细图案处理。
  • [EN] METHANOFULLERENES<br/>[FR] MÉTHANOFULLERÈNES
    申请人:ROBINSON ALEX PHILIP GRAHAM
    公开号:WO2014137663A1
    公开(公告)日:2014-09-12
    The present disclosure relates to novel methanofullerene derivatives, negative- type photoresist compositions prepared therefrom and methods of using them. The derivatives, their photoresist compositions and the methods are ideal for fine pattern processing using, for example, ultraviolet radiation, beyond extreme ultraviolet radiation, extreme ultraviolet radiation, X-rays and charged particle rays. Negative photosensitive compositions are also disclosed.
    本公开涉及新型甲烷富勒烯衍生物,制备其负型光阻组合物和使用它们的方法。这些衍生物、它们的光阻组合物和方法非常适合使用紫外线辐射、超过极紫外线辐射、极紫外线辐射、X射线和带电粒子射线进行精细图案处理。还公开了负光敏组合物。
  • Composition of Matter and Molecular Resist Made Therefrom
    申请人:Robinson Alex Philip Graham
    公开号:US20150140491A1
    公开(公告)日:2015-05-21
    Disclosed herein is a composition of matter having a general structure chosen from (I), (II), (III) or (IV); at least one photo acid generator; at least one crosslinker; and at least one solvent; wherein X and Y are the same or different, wherein at least one of X and Y comprises an acid labile group, wherein R 1 is a saturated or unsaturated group having from 1-4 carbon atoms, R 2 is chosen from hydrogen or a saturated or unsaturated group having from 1-4 carbon atoms, R 3 is a saturated or unsaturated group having from 1-4 carbon atoms, and R 4 is a saturated or unsaturated group having from 1-4 carbon atoms.
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