7-硝基-9-氧代-4-芴羧酸 | 42523-38-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 芴
• 中文名称: 7-硝基-9-氧代-4-芴羧酸
• 中文别名: 7-硝基-9-氧代-4-芴甲酸；7-硝基-9-羰基-4-芴羧酸
• 英文名称: 7-Nitro-fluorenon-4-carbonsaeure
• 英文别名: 7-Nitro-9-oxo-4-fluorenecarboxylic acid；7-nitro-9-oxofluorene-4-carboxylic acid
• CAS: 42523-38-6
• 化学式: C₁₄H₇NO₅
• 分子量: 269.213
• InChiKey: QSYJYVBDMIMYCS-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  269-270 °C(lit.)
• 沸点：
  561.6±43.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.591±0.06 g/cm3(Predicted)
• 稳定性/保质期：
  遵照规定使用和储存，则不会发生分解。

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.3
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  100
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  5

安全信息

• 危险品标志：
  Xi
• 安全说明：
  S26,S36
• 危险类别码：
  R36/37/38
• 海关编码：
  2918300090
• 储存条件：
  保持贮藏器密封，并将其放入一个紧密封装的容器中。应储存在阴凉、干燥的地方。

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  7-硝基-9-氧代-4-芴羧酸 在 五氯化磷 、 甲苯 作用下， 生成 7-nitro-9-oxo-fluorene-4-carbonyl chloride
  参考文献：
  名称：

  Moore; Huntress, Journal of the American Chemical Society, 1927, vol. 49, p. 1328

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  4-nitro-diphenic acid 在 硫酸 作用下， 生成 7-硝基-9-氧代-4-芴羧酸
  参考文献：
  名称：

  Moore; Huntress, Journal of the American Chemical Society, 1927, vol. 49, p. 1328

  摘要：

  DOI：
• 作为试剂：
  描述：

  草酰氯 、 邻苯二胺 、 三乙胺 在 N,N-二甲基甲酰胺 水 、 7-硝基-9-氧代-4-芴羧酸 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 反应 24.0h， 以After formation of a paste with diisopropyl ether, in this way we obtain 1.6 g of (2-aminophenyl)amide of 7-nitro-9-oxo-9H-fluoren -4-carboxylic acid的产率得到异丙醚
  参考文献：
  名称：

  Fluorene derivatives, composition containing said derivatives and the use thereof

  摘要：

  本发明涉及4-(苯并咪唑-2-基)芴和4-(氮杂苯并咪唑-2-基)芴的衍生物，包括这些衍生物的制药组合物，以及治疗与Hsp90蛋白活性相关的疾病的方法，包括给予这些衍生物。

  公开号：

  US07674795B2

文献信息

• Novel Fluorene Derivatives, Composition Containing Said Derivatives and the Use Thereof
  申请人：MAILLIET Patrick

  公开号：US20080153837A1

  公开（公告）日：2008-06-26

  This invention relates to derivatives of 4-(benzimidazol-2-yl)fluorene and 4-(azabenzimidazol-2-yl)fluorene, to pharmaceutical compositions comprising such derivatives, and to methods of treatment of disorders related to Hsp90 protein activity, comprising administering such derivatives.

  这项发明涉及4-(苯并咪唑-2-基)芴和4-(氮杂苯并咪唑-2-基)芴的衍生物，涉及包含这些衍生物的药物组合物，以及涉及治疗与Hsp90蛋白活性相关的疾病的方法，包括给予这些衍生物。
• FLUORENONE/FLUORENOL DERIVATIVES FOR AQUEOUS REDOX FLOW BATTERIES
  申请人：Battelle Memorial Institute

  公开号：US20210147347A1

  公开（公告）日：2021-05-20

  Aqueous electrolytes comprising fluorenone/fluorenol derivatives are disclosed. The electrolyte may be an anolyte for an aqueous redox flow battery. In some embodiments, the compound, or salt thereof, has a structure according to any one of formulas I-III where Q 1 -Q 4 independently are CH, C(R 1 ) or N, wherein 0, 1, or 2 of Q 1 -Q 4 are N; Q 5 -Q 8 independently are CH, C(R 2 ), or N, wherein 0, 1, or 2 of Q 5 -Q 8 are N; Y is C═O or C(H)OH; R 1 and R 2 independently are an electron withdrawing group; n is an integer >1; and x and y independently are 0, 1, 2, 3, or 4, where at least one of x and y is not 0.

  披露了包括芴酮/芴醇衍生物的水性电解质。 该电解质可以用作水性氧化还原流动电池的阳极液。 在某些实施例中，化合物或其盐具有根据任一I-III式中的结构，其中Q1-Q4独立地为CH、C(R1)或N，其中Q1-Q4中的0、1或2个为N；Q5-Q8独立地为CH、C(R2)或N，其中Q5-Q8中的0、1或2个为N；Y为C═O或C(H)OH；R1和R2独立地为电子受体基团；n为大于1的整数；x和y独立地为0、1、2、3或4，其中x和y中至少一个不为0。
• Boosting the photovoltaic thermal stability of fullerene bulk heterojunction solar cells through charge transfer interactions
  作者：Carr Hoi Yi Ho、Huanyang Cao、Yong Lu、Tsz-Ki Lau、Sin Hang Cheung、Ho-Wa Li、Hang Yin、Ka Lok Chiu、Lik-Kuen Ma、Yuanhang Cheng、Sai-Wing Tsang、Xinhui Lu、Shu Kong So、Beng S. Ong

  DOI：10.1039/c7ta06530b

  日期：——

  Fullerene-based bulk heterojunction organic solar cells (BHJ-OSCs) represent one of the current state-of-the-art organic solar cells. Nonetheless, most of these devices still suffer from adverse performance degradation due to thermally induced morphology changes of active layers. We herein demonstrate that the photovoltaic performance stability of BHJ-OSCs can be profoundly enhanced with an appositely

  基于富勒烯的本体异质结有机太阳能电池（BHJ-OSC）代表了当前最先进的有机太阳能电池之一。尽管如此，由于有源层的热诱导形态变化，这些设备中的大多数仍然遭受不利的性能下降。我们在本文中证明，通过适当地官能化的9-芴基丙二腈可以大大增强BHJ-OSC的光伏性能稳定性。后者通过与供体聚合物的电荷转移（CT）相互作用，能够形成“冻结的” 3维网状供体聚合物基体，有效地抑制了嵌入的富勒烯分子的自由移动并抑制了其原本不受控制的聚集。具有多个CT相互作用位点的9-芴基丙二腈衍生物特别有效，因为在严重的热应力下，功率转换效率可保持90％以上。几种常见的供体聚合物已经证实了这种新颖策略的普遍性，这表明这是迄今为止稳定化基于富勒烯的BHJ-OSC的最有效方法。
• Visible light absorbing peroxy esters
  申请人：LOCTITE CORPORATION

  公开号：EP0147226A2

  公开（公告）日：1985-07-03

  Compounds represented by the formula: wherein R1 is alkyl, aralkyl, alkoxyalkyl, alkenyl, alkynyl, carboxyalkyl or carboxyaryl; R2 is any group which does not cause spontaneous decomposition of the peroxy group; and x and y are integers between 0 and 4 with x + y great than or equal to 1, are disclosed. The inventive compounds are useful as visible and UV photoinitiators and as thermal or chemical initiators for curing compositions of ethylenically unsaturated monomers and prepolymers.

  由式表示的化合物： 其中 R1 是烷基、芳基、烷氧基烷基、烯基、炔基、羧基烷基或羧基芳基；R2 是不会引起过氧基团自发分解的任何基团；x 和 y 是 0 至 4 之间的整数，x + y 大于或等于 1。 本发明化合物可用作可见光和紫外线光引发剂，以及用于固化乙烯基不饱和单体和预聚物组合物的热引发剂或化学引发剂。
• COMPOSITION FOR FORMING UPPER FILM AND METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1950610A1

  公开（公告）日：2008-07-30

  An upper layer-forming composition formed on a photoresist while causing almost no intermixing with the photoresist film and a photoresist patterning method are provided. The upper layer-forming composition is stably maintained without being eluted in a medium such as water during liquid immersion lithography and is easily dissolved in an alkaline developer. The upper layer-forming composition covers a photoresist film for forming a pattern by exposure to radiation. The composition comprises a resin dissolvable in a developer for the photoresist film and a solvent in which the resin is dissolved. The solvent has a viscosity of less than 5.2 x 10-3 Pa·s at 20°C. In addition, the solvent does not cause intermixing of the photoresist film and the upper layer-forming composition. The solvent contains an ether or a hydrocarbon.

  本发明提供了一种在光刻胶上形成的上层形成组合物，同时几乎不会造成与光刻胶膜的混合，并提供了一种光刻胶图案化方法。在液浸光刻过程中，上层形成组合物可稳定地保持在水等介质中而不会被洗脱，并且很容易溶解在碱性显影剂中。上层形成组合物覆盖在光刻胶膜上，通过辐射形成图案。该组合物包括一种可溶解于光刻胶膜显影剂中的树脂和一种可溶解树脂的溶剂。溶剂在 20°C 时的粘度小于 5.2 x 10-3 Pa-s。此外，该溶剂不会造成光刻胶膜和上层形成组合物的混合。溶剂含有醚或烃。