N-2-phenylthiophenyl-2-fluorobenzenesulfonylamide

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机硫化合物 - 硫醚类
• 英文名称: N-2-phenylthiophenyl-2-fluorobenzenesulfonylamide
• 英文别名: 2-fluoro-N-(2-phenylsulfanylphenyl)benzenesulfonamide
• 化学式: C₁₈H₁₄FNO₂S₂
• 分子量: 359.445
• InChiKey: FYTKGSVEMPKGJH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.6
• 重原子数：
  24
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  79.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  5

文献信息

• SULFONIUM COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND RESIST PATTERN FORMING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20200071268A1

  公开（公告）日：2020-03-05

  A novel sulfonium compound has formula (A). A positive resist composition comprising a polymer and a quencher containing the sulfonium compound is improved in resolution and LER during pattern formation and has storage stability. In formula (A), R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are independently a C 1 -C 20 monovalent hydrocarbon group, p is an integer of 0-5, q is an integer of 0-5, and r is an integer of 0-4.

  一种新的磺鎵化合物具有公式（A）。包含聚合物和含有磺鎵化合物的熄灭剂的正性光刻胶组合物在图案形成期间具有更好的分辨率和LER，并具有储存稳定性。在公式（A）中，R1、R2、R3和R4分别是C1-C20单价烃基，p是0-5的整数，q是0-5的整数，r是0-4的整数。
• Sulfonium compound, positive resist composition, and resist pattern forming process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US11124477B2

  公开（公告）日：2021-09-21

  A novel sulfonium compound has formula (A). A positive resist composition comprising a polymer and a quencher containing the sulfonium compound is improved in resolution and LER during pattern formation and has storage stability. In formula (A), R1, R2, R3, and R4 are independently a C1-C20 monovalent hydrocarbon group, p is an integer of 0-5, q is an integer of 0-5, and r is an integer of 0-4.

  一种新型锍化合物具有式 (A)。由含有该锍化合物的聚合物和淬火剂组成的正抗蚀剂组合物在图案形成过程中可提高分辨率和 LER，并具有储存稳定性。在式 (A) 中，R1、R2、R3 和 R4 独立地为 C1-C20 单价烃基，p 为 0-5 的整数，q 为 0-5 的整数，r 为 0-4 的整数。