3-(butylthio)benzo[b]thiophene | 54965-44-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 苯并噻吩类
• 英文名称: 3-(butylthio)benzo[b]thiophene
• 英文别名: 3-n-Butylthiobenzothiophen；3-butylsulfanyl-benzo[b]thiophene；3-butylsulfanyl-1-benzothiophene
• CAS: 54965-44-5
• 化学式: C₁₂H₁₄S₂
• 分子量: 222.375
• InChiKey: XSDRAYWGUBUSGV-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.9
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  53.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  3-溴苯并噻吩 在 正丁基锂 、 Cl₃LiMg 作用下， 以 四氢呋喃 、 正己烷 为溶剂， 反应 0.17h， 生成 3-(butylthio)benzo[b]thiophene
  参考文献：
  名称：

  卤代锂交换功能化杂芳基卤化物并随后用MgCl2·LiCl原位连续捕集制备二有机镁试剂

  摘要：

  ‡这些作者贡献相同。 纪念Rolf Huisgen教授 抽象 卤素-锂交换在氯化镁存在2 ·氯化锂在广泛杂环支架的使用商业流的建立与Ñ丁基锂作为交换试剂进行报告。随后用各种亲电试剂（例如酮，醛，烯丙基溴化物或二硫化物）捕获所得的二杂芳基镁物质，得到官能化的杂环。仅通过增加运行时间即可进行放大，而无需进一步优化。

  DOI：

  10.1055/s-0040-1707167

文献信息

• US9405197B2
  申请人：——

  公开号：US9405197B2

  公开（公告）日：2016-08-02
• [EN] PATTERN FORMING METHOD, COMPOUND USED THEREIN, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE<br/>[FR] PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS, COMPOSÉ UTILISÉ DANS CE PROCÉDÉ, COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT, FILM DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE, ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2014119698A1

  公开（公告）日：2014-08-07

  There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising: (A) a resin having a group capable of decomposing by an action of an acid to produce a polar group, (C1) a compound containing a group capable of generating a first acidic functional group upon irradiation with an actinic ray or radiation and a group capable of generating a second acidic functional group different from the first acidic functional group upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C2) at least one compound containing two or more groups selected from the group consisting of the groups capable of generating the structures represented by the specific formulae upon irradiation with an actinic ray or radiation.