1-Phenylmethoxypyridin-1-ium

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 吡啶及其衍生物
• 英文名称: 1-Phenylmethoxypyridin-1-ium
• 化学式: C12H12NO+
• 分子量: 186.23
• InChiKey: XHZGFSLFMSTONH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.9
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.08
• 拓扑面积：
  13.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

文献信息

• ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
  申请人：TAKAHASHI Hidenori

  公开号：US20110318693A1

  公开（公告）日：2011-12-29

  An embodiment of the composition contains a resin (P) containing a repeating unit (A) that is configured to decompose when exposed to actinic rays or radiation to thereby generate an acid. The repeating unit (A) contains a cation structure with a monocyclic or polycyclic heterocycle containing a nitrogen atom.

  该组合物的实施例包含一种树脂（P），其中包含一个重复单元（A），当暴露于光致射线或辐射时，该单元（A）被配置为分解以产生酸。 重复单元（A）包含具有含氮杂环的单环或多环阳离子结构。
• PHOTOSENSITIVE COMPOSITION
  申请人：San-Apro Limited

  公开号：EP3398975A1

  公开（公告）日：2018-11-07

  The purpose of the present invention is to provide a photosensitive composition having excellent curability even when a colorant or other substance for attenuating or blocking radiated light is present at a high concentration, the film thickness thereof is large, and the light source is visible-to-infrared light, particularly infrared light having low energy. The present invention is a photosensitive composition characterized by containing as essential components (A) an onium salt represented by general formula (1), (B) a sensitizer, and (C) a radical polymerizable compound. (In formula (1), Rf each independently represents a C1-8 alkyl group, a C2-8 alkenyl group, or a C6-10 aryl group, 80% or more of hydrogen atoms bonded to the carbon atoms of each group being substituted with fluorine atoms, n represents an integer of 1 to 5, and A+ represents a monovalent onium cation.)

  本发明的目的是提供一种光敏组合物，即使在高浓度存在着色剂或其他用于衰减或阻挡辐射光的物质，其膜厚较大，光源为可见光至红外光，特别是能量较低的红外光的情况下，该组合物仍具有优异的固化性。本发明是一种光敏组合物，其特征是含有以下基本成分：(A) 通式 (1) 所代表的鎓盐，(B) 增感剂，(C) 可自由基聚合的化合物。(在式(1)中，Rf各自独立地代表C1-8烷基、C2-8烯基或C6-10芳基，与每个基团的碳原子结合的80%或更多的氢原子被氟原子取代，n代表1至5的整数，A+代表一价鎓阳离子)。
• RESIST COMPOSITION FOR SEMICONDUCTOR, AND RESIST FILM AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
  申请人：TSUCHIMURA Tomotaka

  公开号：US20110318691A1

  公开（公告）日：2011-12-29

  An embodiment of the composition contains any of compounds of general formula (I) below:
• US3966720A
  申请人：——

  公开号：US3966720A

  公开（公告）日：1976-06-29
• [EN] PHOTOSENSITIZER<br/>[FR] PHOTOSENSIBILISATEUR<br/>[JA] 光増感剤
  申请人：[en]SAN-APRO LTD.;[ja]サンアプロ株式会社

  公开号：WO2022163377A1

  公开（公告）日：2022-08-04

  特定の構造を有する光増感剤であって、上記のように光照射によって親水性から疎水性へ急激な変化をもたらす場合において、従来よりも高感度な光増感剤を提供する。本発明は、ピロール環が直接又はπ共役により繋がった環構造を形成した環状配位子を有し、かつオニウム塩構造を有してなる軸配位子を有する、一般式（１）又は一般式（２）で表される金属錯体を含有する光増感剤；該光増感剤が結合してなる抗体結合体；５００～１５００ｎｍの光照射により軸配位子の脱離を促進させることを特徴とする該光増感剤の使用方法；該光増感剤を治療目的で使用する、使用方法である。