2-[[4-[2-[4-(4-Ethenyl-2,3,5,6-tetrafluorophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenoxy]methyl]oxirane | 1259016-96-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2-[[4-[2-[4-(4-Ethenyl-2,3,5,6-tetrafluorophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenoxy]methyl]oxirane
• 英文别名: 2-[[4-[2-[4-(4-ethenyl-2,3,5,6-tetrafluorophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenoxy]methyl]oxirane
• CAS: 1259016-96-0
• 化学式: C₂₆H₁₆F₁₀O₃
• 分子量: 566.395
• InChiKey: PBUPQOCSZJRBHH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  8.2
• 重原子数：
  39
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.23
• 拓扑面积：
  31
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  13

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  4-[2-[4-(4-Ethenyl-2,3,5,6-tetrafluorophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenol 、 环氧氯丙烷 在 sodium hydroxide 作用下， 反应 6.0h， 以90%的产率得到2-[[4-[2-[4-(4-Ethenyl-2,3,5,6-tetrafluorophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenoxy]methyl]oxirane
  参考文献：
  名称：

  用于光波导的高氟化低分子量光刻胶

  摘要：

  通过2,3,4,5,6-五氟苯乙烯（PFS）和氟化苯乙烯衍生物单体（FSDM）的共聚反应，合成了一系列高度氟化的聚合物。通过1 H NMR，13 C NMR和19 F NMR光谱确认了它们的化学结构。可以通过监测共聚单体的进料比来调节和控制聚合物的折射率和交联密度。通过将氟化聚苯乙烯衍生物（FPSDs），作为光酸产生剂（PAG）的二苯基碘鎓盐和溶剂组成，制备了一系列负型低分子量氟化光刻胶（NFP）。由NFP通过光固化制备的聚合物薄膜表现出优异的耐化学性和热稳定性（T d范围从230.5到258.1°C）。通过直接暴露于紫外线和化学显影获得了清晰的负图。对于没有上包层的波导，在1550 nm处测得的通道波导的传播损耗为0.25 dB / cm。©2010 Wiley Periodicals，Inc. J Polym Sci A部分：Polym Chem，2011年

  DOI：

  10.1002/pola.24489

文献信息

• Highly fluorinated low-molecular-weight photoresists for optical waveguides
  作者：Ying Wan、Xu Fei、Zuosen Shi、Juan Hu、Xiaolong Zhang、Lisha Zhao、Changming Chen、Zhanchen Cui、Daming Zhang

  DOI：10.1002/pola.24489

  日期：2011.2.1

  negative‐type low‐molecular‐weight fluorinated photoresists (NFPs) were prepared by composing of fluorinated polystyrene derivates (FPSDs), diphenyl iodonium salt as a photoacid generator (PAG) and solvent. The polymer films prepared from NFP by photocuring exhibited excellent chemical resistance and thermal stabilities (Td ranged from 230.5 to 258.1 °C). A clear negative pattern was obtained through direct

  通过2,3,4,5,6-五氟苯乙烯（PFS）和氟化苯乙烯衍生物单体（FSDM）的共聚反应，合成了一系列高度氟化的聚合物。通过1 H NMR，13 C NMR和19 F NMR光谱确认了它们的化学结构。可以通过监测共聚单体的进料比来调节和控制聚合物的折射率和交联密度。通过将氟化聚苯乙烯衍生物（FPSDs），作为光酸产生剂（PAG）的二苯基碘鎓盐和溶剂组成，制备了一系列负型低分子量氟化光刻胶（NFP）。由NFP通过光固化制备的聚合物薄膜表现出优异的耐化学性和热稳定性（T d范围从230.5到258.1°C）。通过直接暴露于紫外线和化学显影获得了清晰的负图。对于没有上包层的波导，在1550 nm处测得的通道波导的传播损耗为0.25 dB / cm。©2010 Wiley Periodicals，Inc. J Polym Sci A部分：Polym Chem，2011年