triphenylsulfonium 2-(adamantane-1-carbonyloxy)-3,3,3-trifluoro-2-trifluoromethylpropane-1-sulfonate | 1240248-58-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: triphenylsulfonium 2-(adamantane-1-carbonyloxy)-3,3,3-trifluoro-2-trifluoromethylpropane-1-sulfonate
• 英文别名: Triphenylsulfonium 2-(adamantane-1-carbonyloxy)-3,3,3-trifluoro-2-trifluoromethylpropane-1-sulfonate；2-(adamantane-1-carbonyloxy)-3,3,3-trifluoro-2-(trifluoromethyl)propane-1-sulfonate;triphenylsulfanium
• CAS: 1240248-58-1
• 化学式: C₁₅H₁₇F₆O₅S*C₁₈H₁₅S
• 分子量: 686.736
• InChiKey: PSBGRAQOTNFWAQ-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  7.94
• 重原子数：
  46
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  7.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.42
• 拓扑面积：
  92.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  11

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  氯化三苯基硫 在 4-二甲氨基吡啶 、 sodium hydrogensulfite 、 三乙胺 、 sodium hydroxide 作用下， 以 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 反应 16.0h， 生成 triphenylsulfonium 2-(adamantane-1-carbonyloxy)-3,3,3-trifluoro-2-trifluoromethylpropane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  신규 술폰산염 및 그의 유도체, 광산발생제 및 이것을 이용한 레지스트 재료 및 패턴 형성 방법

  摘要：

  本发明提供了对化学放大抗蚀剂材料有效的新型磺酸盐和光发生剂，它们在抗蚀剂溶剂和树脂中具有足够高的溶解度（相容性）、良好的保存稳定性、PED稳定性、更宽的焦深、良好的灵敏度，特别是良好的分辨率和图案轮廓形状，以及使用它们形成抗蚀剂材料、光掩膜坯料和图案的方法。本发明提供了由下式 2 表示的磺酸盐。<方案2>（式中，R1代表碳数为1至50的直链、支链或环状单价烃基，其中可包括一个杂原子，M+代表阳离子）。

  公开号：

  KR101532103B1

文献信息

• PREPARATION OF 2,2-BIS (FLUOROALKYL) OXIRANE AND PREPARATION OF PHOTOACID GENERATOR THEREFROM
  申请人：SAGEHASHI Masayoshi

  公开号：US20130005997A1

  公开（公告）日：2013-01-03

  A 2,2-bis(fluoroalkyl)oxirane (A) is prepared by reacting a fluorinated alcohol (1) with a chlorinating, brominating or sulfonylating agent under basic conditions to form an oxirane precursor (2) and subjecting the oxirane precursor to ring closure under basic conditions. R 1 and R 2 are fluoroalkyl groups, R 3 and R 4 are hydrogen or monovalent hydrocarbon groups, X is chlorine, bromine or —OSO 2 R 5 group, and R 5 is alkyl or aryl.

  一种2,2-双(氟烷基)环氧烷（A）是通过将氟化醇（1）与氯化、溴化或磺化试剂在碱性条件下反应以形成环氧烷前体（2），然后将环氧烷前体在碱性条件下进行环闭合制备的。R1和R2是氟烷基，R3和R4是氢或一价碳氢基团，X是氯、溴或—OSO2R5基团，R5是烷基或芳基。
• NOVEL ONIUM SALT COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20160131972A1

  公开（公告）日：2016-05-12

  Sulfonium and iodonium salts of a carboxylate having an aromatic ring to which a nitrogen-containing alkyl or cyclic structure is attached are novel. The onium salt functions as an acid diffusion controlling agent in a resist composition, enabling to form a pattern of good profile with high resolution, improved MEF, LWR and DOF.

  一种具有芳香环的羧酸酯的砜和碘化物盐，其中连接有含氮烷基或环状结构，是一种新颖的化合物。该砜盐在抗蚀组合物中作为酸扩散控制剂，有助于形成具有高分辨率、改善MEF、LWR和DOF的良好轮廓图案。
• ONIUM SALT, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20160320698A1

  公开（公告）日：2016-11-03

  An onium salt having an anion moiety of a specific structure is an effective photoacid generator. A resist composition comprising the onium salt has the advantages of compatibility and reduced acid diffusion and forms a pattern with a good balance of sensitivity and MEF, rectangularity, and minimal defects.

  具有特定结构的阴离子基团的醇盐是一种有效的光酸发生剂。包含该醇盐的抗蚀组合物具有兼容性和减少酸扩散的优点，并形成具有良好灵敏度和MEF、矩形度以及最小缺陷的图案。
• MONOMER, POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20170299963A1

  公开（公告）日：2017-10-19

  A monomer having an onium salt structure represented by formula (1) gives a polymer which is fully compatible with resist components. A resist composition comprising the polymer has advantages including reduced acid diffusion, high sensitivity, high resolution, a good balance of lithography properties, and less defects, and is quite effective for precise micropatterning.

  具有公式（1）所表示的onium盐结构的单体会产生与抗蚀剂组分完全兼容的聚合物。包括该聚合物的抗蚀剂组合物具有降低酸扩散、高灵敏度、高分辨率、良好的光刻特性平衡以及较少的缺陷等优点，对于精确微图案制备非常有效。
• NOVEL SULFONATE AND ITS DERIVATIVE, PHOTOSENSITIVE ACID GENERATOR, AND RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS USING THE SAME
  申请人：OHASHI Masaki

  公开号：US20100209827A1

  公开（公告）日：2010-08-19

  There is disclosed a sulfonate shown by the following general formula (2). R 1 —COOC(CF 3 ) 2 —CH 2 SO 3 − M + (2) (In the formula, R 1 represents a linear, a branched, or a cyclic monovalent hydrocarbon group having 1 to 50 carbon atoms optionally containing a hetero atom. M + represents a cation.) There can be provided: a novel sulfonate which is effective for a chemically amplified resist composition having a sufficiently high solubility (compatibility) in a resist solvent and a resin, a good storage stability, a PED stability, a further wider depth of focus, a good sensitivity, in particular a high resolution and a good pattern profile form; a photosensitive acid generator; a resist composition using this; a photomask blank, and a patterning process.

  本发明揭示了一种磺酸盐，其通式如下（2）所示。 R1-COOC（CF3）2-CH2SO3-M+（2）（其中，R1表示具有1至50个碳原子的线性、分支或环状单价碳氢基团，可选含有杂原子。M+表示一个阳离子）。本发明可以提供：一种新型磺酸盐，其在抗蚀剂溶剂和树脂中具有足够高的溶解度（相容性），良好的储存稳定性，PED稳定性，进一步扩大焦点深度，良好的灵敏度，特别是高分辨率和良好的图案轮廓形态；一种光敏酸发生剂；使用该组合物的抗蚀剂组合物；一种光掩膜空白，以及一种制图工艺。