2-(N,N-dimethylamino)phenylphosphine | 126590-42-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氮化合物
• 英文名称: 2-(N,N-dimethylamino)phenylphosphine
• 英文别名: Dimethyl-(2-phosphanyl-phenyl)-amine；N,N-dimethyl-2-phosphanylaniline
• CAS: 126590-42-9
• 化学式: C₈H₁₂NP
• 分子量: 153.164
• InChiKey: MWPAAGZZENKROJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.6
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.25
• 拓扑面积：
  3.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-(N,N-dimethylamino)phenylphosphine 、 6(A),6(B)-di-O-methylsulfonyl-2(A),2(B),2(C),2(D),2(E),2(F),3(A),3(B),3(C),3(D),3(E),3(F),6(C),6(D),6(E),6(F)-hexadeca-O-methyl-α-CD 在 正丁基锂 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 13.0h， 以63%的产率得到6^A,6^B-dideoxy-6^A,6^B[(R)-2-(N,N-dimethylamino)phenylphosphinidene]-2^A,2^B,2^C, 2^D,2^E,2^F,3^A,3^B,3^C,3^D,3^E,3^F, 6^C,6^D,6^E,6^F-hexadeca-O-methyl-α-cyclodextrin
  参考文献：
  名称：

  用于高选择性镍催化乙烯二聚的腔形顺式螯合 P,N 配体

  摘要：

  螯合 P,N 配体中全甲基化 α-环糊精 (α-CD) 空腔的存在促进了 1:1 配体/金属复合物的排他性形成。在 MX 2配合物中，两个卤代配体之一被迫驻留在 CD 空心内，而第二个则指向外部。与其无空腔类似物不同，CD 配体的 Ni( II ) 配合物是乙烯二聚化的高选择性预催化剂（C 4部分中高达 95% 的 1-丁烯选择性高达96% ）。

  DOI：

  10.1039/d2dt01553f
• 作为产物：
  描述：

  diethyl [2-(N,N-dimethylamino)phenyl]phosphonate 在 lithium aluminium tetrahydride 、 三甲基氯硅烷 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 1.5h， 生成 2-(N,N-dimethylamino)phenylphosphine
  参考文献：
  名称：

  用于高选择性镍催化乙烯二聚的腔形顺式螯合 P,N 配体

  摘要：

  螯合 P,N 配体中全甲基化 α-环糊精 (α-CD) 空腔的存在促进了 1:1 配体/金属复合物的排他性形成。在 MX 2配合物中，两个卤代配体之一被迫驻留在 CD 空心内，而第二个则指向外部。与其无空腔类似物不同，CD 配体的 Ni( II ) 配合物是乙烯二聚化的高选择性预催化剂（C 4部分中高达 95% 的 1-丁烯选择性高达96% ）。

  DOI：

  10.1039/d2dt01553f

文献信息

• Alkyl Group VA metal compounds
  申请人：Shipley Company, L.L.C.

  公开号：US20030181746A1

  公开（公告）日：2003-09-25

  Disclosed are methods of preparing monoalkyl Group VA metal dihalide compounds in high yield and high purity by the reaction of a Group VA metal trihalide with an organo lithium reagent or a compound of the formula R n M 1 X 3−n , where R is an alkyl, M 1 is a Group IIIA metal, X is a halogen and n is an integer fro 1 to 3. Such monoalkyl Group VA metal dihalide compounds are substantially free of oxygenated impurities, ethereal solvents and metallic impurities. Monoalkyl Group VA metal dihydride compounds can be easily produced in high yield and high purity by reducing such monoalkyl Group VA metal dihalide compounds.

  揭示了通过将VA族金属三卤化物与有机锂试剂或具有公式RnM1X3−n的化合物（其中R是烷基，M1是III A族金属，X是卤素，n是1到3的整数）反应，以高产率和高纯度制备单烷基VA族金属二卤化合物的方法。这种单烷基VA族金属二卤化合物基本上不含氧杂质、醚溶剂和金属杂质。通过还原这种单烷基VA族金属二卤化合物，可以轻松地高产率和高纯度地生产单烷基VA族金属二氢化合物。
• Alkyl group VA metal compounds
  申请人：Shenai-Khatkhate Vinayak Deodatta

  公开号：US20050033073A1

  公开（公告）日：2005-02-10

  A method of preparing Group VA organometal compounds in high yield and high purity by the reaction of a Grignard reagent with a Group VA metal halide in certain ethereal solvents is provided. A method of preparing Group VA organometal hydrides is also provided.

  提供了一种通过格氏试剂与VA族金属卤化物在特定的醚溶剂中反应制备高收率和高纯度VA族有机金属化合物的方法。还提供了一种制备VA族有机金属氢化物的方法。
• Process for the selective hydrocarboxylation of propylene to isobutyric acid
  申请人：THE STANDARD OIL COMPANY

  公开号：EP0052419A1

  公开（公告）日：1982-05-26

  A process for the selective hydrocarboxylation of propylene to produce predominantly isobutyric acid in the liquid phase comprising reacting propylene, carbon monoxide and water at a temperature of from 75°C to 150°C and at a pressure of 250 psi (17.5 kg/cm2) to 5000 psi (350 kg/cm2) in the presence of a suitable solvent and a catalyst comprising palladium or a palladium compound, a phosphoamine promoter ligand compound and a hydrogen halide. In this way better yields of isobutyric acid are obtained.

  一种在液相中选择性地使丙烯烃化以生产主要为异丁酸的工艺，包括在温度为 75℃至 150℃，压力为 250 磅/平方英寸（17.5 千克/平方厘米）至 5000 磅/平方英寸（350 千克/平方厘米）的条件下，在适当的溶剂和由钯或钯化合物、磷胺促进剂配体化合物和卤化氢组成的催化剂存在下，使丙烯、一氧化碳和水反应。通过这种方法可以获得较高产率的异丁酸。
• Preparation of monoalkyl group 15 metal dihalides and dihydrides
  申请人：Shipley Co. L.L.C.

  公开号：EP1335416A1

  公开（公告）日：2003-08-13

  Disclosed are methods of preparing monoalkyl Group VA metal dihalide compounds in high yield and high purity by the reaction of a Group VA metal trihalide with an organo lithium reagent or a compound of the formula RnM1X3-n where R is an alkyl, M1 is a Group IIIA metal, X is a halogen and n is an integer fro 1 to 3. Such monoalkyl Group VA metal dihalide compounds are substantially free of oxygenated impurities, ethereal solvents and metallic impurities. Monoalkyl Group VA metal dihydride compounds can be easily produced in high yield and high purity by reducing such monoalkyl Group VA metal dihalide compounds.

  公开了通过 VA 族金属三卤化物与有机锂试剂或式 RnM1X3-n 的化合物反应制备高产率和高纯度的单烷基 VA 族金属二卤化物化合物的方法，其中 R 为烷基，M1 为 IIIA 族金属，X 为卤素，n 为 1 至 3 的整数。通过还原这种单烷基 VA 族金属二卤化物化合物，可以很容易地生产出高产率和高纯度的单烷基 VA 族金属二氢化物化合物。
• Budzelaar, Peter H. M.; Doorn, Johannes A. van; Meijboom, Nico, Recueil des Travaux Chimiques des Pays-Bas, 1991, vol. 110, # 10, p. 420 - 432
  作者：Budzelaar, Peter H. M.、Doorn, Johannes A. van、Meijboom, Nico

  DOI：——

  日期：——