4-(2-chloro-4-benzoylphenylthio)phenylbis(4-fluorophenyl)sulfonium hexafluoro-antimonate | 225656-86-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 4-(2-chloro-4-benzoylphenylthio)phenylbis(4-fluorophenyl)sulfonium hexafluoro-antimonate
• 英文别名: [4-(4-Benzoyl-2-chlorophenyl)sulfanylphenyl]-bis(4-fluorophenyl)sulfanium;hexafluoroantimony(1-)
• CAS: 225656-86-0
• 化学式: C₃₁H₂₀ClF₂OS₂*F₆Sb
• 分子量: 781.821
• InChiKey: VEYUHNAORMCWGV-UHFFFAOYSA-H

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  11.24
• 重原子数：
  44
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  5.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  43.4
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  11

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  3-chloro4-phenylthio-benzophenone 、 4,4'-difluorodiphenyl sulfide 在 硫酸 作用下， 以 甲醇 、 水 、 乙酸乙酯 、 甲苯 为溶剂， 以89%的产率得到4-(2-chloro-4-benzoylphenylthio)phenylbis(4-fluorophenyl)sulfonium hexafluoro-antimonate
  参考文献：
  名称：

  Aromatic sulfonium compounds, photoacid generators comprising the same, photopolymerizable compositions containing the same, stereolithographic resin compositions, and stereolithographic process

  摘要：

  一种一般化学式(I)的新型芳香硫铵化合物，包括这种化合物的光酸发生剂，以及含有这种化合物的光聚合组合物，能够提供不受氧气阻碍困扰的立体光刻树脂组合物，通过其在固化过程中的高精度，能够轻松制作出所需尺寸的成型物品，并且由于其对辐射能的高敏感性，能够实现令人满意的固化深度；以及一种立体光刻工艺。

  公开号：

  US06368769B1

文献信息

• Aromatic sulfonium compounds, photoacid generators comprising the same, photopolymerizable compositions containing the same, stereolithographic resin compositions, and stereolithographic process
  申请人：Asahi Denki Kogyo Kabushiki Kaisha

  公开号：US06368769B1

  公开（公告）日：2002-04-09

  Novel aromatic sulfonium compounds of general formula (I), photoacid generators comprising the same, and photopolymerizable compositions containing the same, capable of providing stereolithographic resin compositions which do not suffer from the hindrance to curing by oxygen, can easily give shaped articles having desired sizes by virtue of the high accuracy thereof in curing, and can attain a satisfactory curing depth owing to the high sensitivity thereof for radiant energy; and a stereolithographic process.

  一种一般化学式(I)的新型芳香硫铵化合物，包括这种化合物的光酸发生剂，以及含有这种化合物的光聚合组合物，能够提供不受氧气阻碍困扰的立体光刻树脂组合物，通过其在固化过程中的高精度，能够轻松制作出所需尺寸的成型物品，并且由于其对辐射能的高敏感性，能够实现令人满意的固化深度；以及一种立体光刻工艺。