1,1,1,2,3,4,4,5,5,6,6,6-dodecafluorohexane | 142347-11-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 有机氟化物
• 英文名称: 1,1,1,2,3,4,4,5,5,6,6,6-dodecafluorohexane
• 英文别名: 1,1,1,2,2,3,3,4,5,6,6,6-Dodecafluorohexane
• CAS: 142347-11-3
• 化学式: C₆H₂F₁₂
• 分子量: 302.063
• InChiKey: CFFHSACFFDWUFU-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.6
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  12

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,1,1,2,3,4,4,5,5,6,6,6-dodecafluorohexane 在 氢氧化钾 作用下， 反应 7.5h， 以20.1%的产率得到perfluoro-2-hexyne
  参考文献：
  名称：

  Gas for plasma reaction, process for producing the same, and use thereof

  摘要：

  一种用于等离子反应的气体，包括具有5或6个碳原子的链状全氟烷炔，最好是全氟-2-戊炔。这种等离子反应气体适用于干法刻蚀形成细微图案，用于等离子CVD形成薄膜，以及用于等离子灰化。通过将二氢氟烷化合物或单氢氟烯化合物与碱性化合物接触来合成等离子反应气体。

  公开号：

  US20080139855A1

文献信息

• Gas for plasma reaction, process for producing the same, and use
  申请人：Sugawara Mitsuru

  公开号：US20050092240A1

  公开（公告）日：2005-05-05

  A gas for plasma reaction comprising a chainlike perfluoroalkyne having 5 or 6 carbon atoms, preferably perfluoro-2-pentyne. This plasma reaction gas is suitable for dry etching for formation of a fine pattern, for plasma CVD for formation of a thin film, and for plasma ashing. The plasma reaction gas is synthesized by contacting a dihydrofluoroalkane compound or a monohydrofluoroalkene compound with a basic compound.

  一种用于等离子反应的气体，包括一种具有5或6个碳原子的链状全氟烷基炔烃，最好是全氟-2-戊炔。该等离子反应气体适用于干法刻蚀以形成精细图案，用于等离子CVD以形成薄膜，以及用于等离子灰化。该等离子反应气体通过将二氢氟烷化合物或单氢氟烯化合物与碱性化合物接触而合成。
• GAS FOR PLASMA REACTION, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, AND USE
  申请人：Zeon Corporation

  公开号：EP1453082A1

  公开（公告）日：2004-09-01

  A gas for plasma reaction comprising a chainlike perfluoroalkyne having 5 or 6 carbon atoms, preferably perfluoro-2-pentyne. This plasma reaction gas is suitable for dry etching for formation of a fine pattern, for plasma CVD for formation of a thin film, and for plasma ashing. The plasma reaction gas is synthesized by contacting a dihydrofluoroalkane compound or a monohydrofluoroalkene compound with a basic compound.

  一种等离子反应气体，由具有 5 或 6 个碳原子的链状全氟炔（最好是全氟-2-戊炔）组成。这种等离子反应气体适用于形成精细图案的干法蚀刻、形成薄膜的等离子 CVD 以及等离子灰化。等离子反应气体是通过将二氢氟烷烃化合物或一氢氟烯烃化合物与碱性化合物接触而合成的。
• Gas for plasma reaction, process for producing the same and use
  申请人：Zeon Corporation

  公开号：EP2317543A2

  公开（公告）日：2011-05-04

  A gas for plasma reaction comprising a chainlike perfluoroalkyne having 5 or 6 carbon atoms, preferably perfluoro-2-pentyne. This plasma reaction gas is suitable for dry etching for formation of a fine pattern, for plasma CVD for formation of a thin film, and for plasma ashing. The plasma reaction gas is synthesized by contacting a dihydrofluoroalkane compound or a monohydrofluoroalkene compound with a basic compound.

  一种等离子反应气体，由具有 5 或 6 个碳原子的链状全氟炔（最好是全氟-2-戊炔）组成。这种等离子反应气体适用于形成精细图案的干法蚀刻、形成薄膜的等离子 CVD 以及等离子灰化。等离子反应气体是通过将二氢氟烷烃化合物或一氢氟烯烃化合物与碱性化合物接触而合成的。
• Cleaning agent, cleaning method and cleaning apparatus
  申请人：——

  公开号：US20030168079A1

  公开（公告）日：2003-09-11

  A cleaning agent or a rinsing agent having no flash point which comprises a chlorine-free fluorine-containing compound having a vapor pressure at 20° C. of 1.33×10 3 Pa or more and one or more components having a vapor pressure at 20° C. less than 1.33×10 3 Pa and optionally an additive such as an antioxidant; a method for cleaning which comprises cleaning with the cleaning agent and rinsing and/or vapor cleaning utilizing a vapor being generated by boiling the cleaning agent or a condensate thereof; a method for separating a soil which comprises contacting a cleaning agent in a cleaning tank with a condensate of the vapor of the cleaning agent in a soil separating tank, to thereby continuously separate and remove a soil contained in the cleaning agent; and a cleaning apparatus.

  一种无闪点的清洁剂或漂洗剂，由不含氯的含氟化合物组成，其在 20°C 时的蒸气压为 1.33×10 3 帕或更大，以及一种或多种成分在 20 摄氏度时的蒸气压小于 1.33×10 3 3 一种清洗方法，包括用清洗剂清洗和冲洗和/或利用沸腾清洗剂产生的蒸汽或其冷凝物进行蒸汽清洗；一种分离土壤的方法，包括将清洗槽中的清洗剂与土壤分离槽中清洗剂蒸汽的冷凝物接触，从而连续分离和去除清洗剂中所含的土壤；以及一种清洗装置。
• CLEANING AGENT, CLEANING METHOD AND CLEANING APPARATUS
  申请人：Asahi Kasei Kabushiki Kaisha

  公开号：EP1288284B1

  公开（公告）日：2008-10-29