4,4'-Dimethylbiphenylen-2,2'-iodonium | 46395-61-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机卤素化合物 - 芳基卤化物
• 英文名称: 4,4'-Dimethylbiphenylen-2,2'-iodonium
• 英文别名: 5,11-Dimethyl-8-iodoniatricyclo[7.4.0.02,7]trideca-1(9),2(7),3,5,10,12-hexaene
• CAS: 46395-61-3
• 化学式: C₁₄H₁₂I
• 分子量: 307.154
• InChiKey: UYFFZBCPACVNMD-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.8
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  4,4'-Dimethylbiphenylen-2,2'-iodonium 生成 2-碘-1-(2-碘-4-甲基苯基)-4-甲基苯
  参考文献：
  名称：

  Biphenylene

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01850a007

文献信息

• 52. Orientation effects in the diphenyl series. Part XIII. The nitration of the four 2-halogeno-4 : 4′-dimethyldiphenyls
  作者：Elizabeth E. J. Marler、E. E. Turner

  DOI：10.1039/jr9370000266

  日期：——
• METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, ACID ETCHING RESISTANCE MATERIAL AND COPOLYMER
  申请人：Asakawa Koji

  公开号：US20070142592A1

  公开（公告）日：2007-06-21

  Disclosed is an acid etching resistance material comprising a compound having a repeating unit represented by the following general formula (1): (in the general formula (1), R 1 is a hydrogen atom or methyl group; R 3 is a cyclic group selected from an alicyclic group and an aromatic group; R 4 is a polar group; R 2 is a group represented by the following general formula (2); and j is 0 or 1): (in the general formula (2), R 5 is a hydrogen atom or methyl group).
• US7208334B2
  申请人：——

  公开号：US7208334B2

  公开（公告）日：2007-04-24
• US7445881B2
  申请人：——

  公开号：US7445881B2

  公开（公告）日：2008-11-04
• US7714316B2
  申请人：——

  公开号：US7714316B2

  公开（公告）日：2010-05-11