1,2,4,5-Tetrachloro-3-(dichloromethyl)-6-methylbenzene | 28064-98-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 1,2,4,5-Tetrachloro-3-(dichloromethyl)-6-methylbenzene
• CAS: 28064-98-4
• 化学式: C₈H₄Cl₆
• 分子量: 312.8
• InChiKey: HOHVUOKYQMRVDO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.9
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.25
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  0

文献信息

• 2-(Trichlormethyl-phenyl)-4-halogen-oxazol-Derivate, ein Verfahren zu ihrer Herstellung und sie enthaltende strahlungsempfindliche Massen
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0041674A2

  公开（公告）日：1981-12-16

  2-(Halogenmethyl-phenyl)-4-halogen-oxazol-Derivate, ein Verfahren zu ihrer Herstellung und sie enthaltende strahlungsempfindliche Massen Die Erfindung betrifft 2-(Halogenmethyl-phenyl)-4- halogenoxazol-Derivate der allgemeinen Formel l, in der bedeuten Hall ein Halogenatom Ha12 ein Chlor- oder Bromatom m eine ganze Zahl von 1 bis 3 n eine ganze Zahl von 1 bis 4 R' ein Wasserstoffatom oder eine weitere Gruppe CH3-mHal2m, und R2 einen n-wertigen, gegebenenfalls substituierten, ungesättigten organischen Rest Sie betrifft außerdem ein Verfahren zur Herstellung dieser Verbindungen aus Halogenmethyl-benzaldehyden der allgemeinen Formel II und einem Carbonsäurecyanid der allgemeinen Formel III unter Einwirkung von HHal1, wobei die Reaktionsprodukte durch Hydrolyse freigesetzt werden. Diese Verbindungen können in strahlungsempfindlichen Massen eingesetzt werden, in denen sie beispielsweise Polymerisationsreaktionen, Vernetzungen, ionische Reaktionen, farbliche Veränderungen oder andersartige Folgereaktionen auslösen.

  2-(卤甲基苯基)-4-卤恶唑衍生物、其制备方法和含有它们的辐射敏感性组合物 本发明涉及通式 l 的 2-(卤甲基苯基)-4-卤恶唑衍生物，其中 Hall是卤素原子 Ha12为氯原子或溴原子 m 是 1 至 3 的整数 n 是 1 至 4 的整数 R' 是氢原子或另一个基团 CH3-mHal2m，以及 R2 是 n 价、任选取代的不饱和有机基 本发明还涉及在 HHal1 的作用下，由通式 II 的卤代甲基苯甲醛和通式 III 的羧酸氰化物制备这类化合物的工艺，反应产物通过水解释放出来。这些化合物可用于对辐射敏感的组合物中，在这些组合物中，它们会引发聚合反应、交联反应、离子反应、颜色变化或其他类型的后续反应。
• 4-Halogen-5-(trichlormethyl-phenyl)-oxazol-Derivate, ein Verfahren zu ihrer Herstellung und sie enthaltende strahlungsempfindliche Massen
  申请人：HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

  公开号：EP0041675A2

  公开（公告）日：1981-12-16

  Die Erfindung betrifft 4-Halogen-5-(halogenmethyl- phenyl)oxazol-Derivate der allgemeinen Formel I, in der bedeuten Hal1 ein Halogenatom Hal2 ein Chlor- oder Bromatom m eine ganze Zahl von 1 bis 3 n eine ganze Zahl von 1 bis 4 R' ein Wasserstoffatom oder eine weitere Gruppe CH3-m Hal2m, und R2 einen n-wertigen, gegebenenfalls substituierten, ungesättigten organischen Rest. Sie betrifft außerdem ein Verfahren zur Herstellung dieser Verbindungen aus Halogenmethyl-benzoylcyaniden der allgemeinen Formel II und einem Aldehyd der allgemeinen Formel III unter Einwirkung von HHal1, wobei die Reaktionsprodukte durch Hydrolyse freigesetzt werden. Diese Verbindungen können in strahlungsempfindlichen Massen eingesetzt werden, in denen sie beispielsweise Polymerisationsreaktionen, Vernetzungen, ionische Reaktionen, farbliche Veränderungen oder andersartige Folgereaktionen auslösen.

  本发明涉及通式 I 的 4-卤代-5-（卤代甲基苯基）噁唑衍生物，其中 Hal1 是卤素原子 Hal2 是氯原子或溴原子 m 是 1 至 3 的整数 n 是 1 至 4 的整数 R' 是氢原子或另一个基团 CH3-m Hal2m，以及 R2 是 n 价、任选取代的不饱和有机基。 本发明还涉及在 HHal1 的作用下，由通式 II 的卤代甲基苯甲酰基氰化物和通式 III 的醛制备这些化合物的工艺，反应产物通过水解释放出来。这些化合物可用于对辐射敏感的组合物中，在这些组合物中，它们会引发聚合反应、交联反应、离子反应、颜色变化或其他类型的后续反应。
• Flame retardant organic substrates containing polymeric flame retardants
  申请人：Akzo Nobel N.V.

  公开号：EP0304132A1

  公开（公告）日：1989-02-22

  A flame resistant organic substance has an organic sub­stance and a particular flame retardant compound in intimate contact therewith. The flame retardant compound is a polymeric compound containing aromatic rings connected by alkyl moieties and is defined by a structural formula.

  阻燃有机物是指一种有机物和一种特殊的阻燃化合物亲密接触。阻燃化合物是一种聚合化合物，含有由烷基连接的芳香环，其结构式如下。
• Chemically amplified radiation-sensitive composition
  申请人：OCG MICROELECTRONIC MATERIALS, INC.

  公开号：EP0697632A2

  公开（公告）日：1996-02-21

  A chemically amplified-type radiation-sensitive composition comprising: (a) an alkali-soluble binder resin made by a condensation reaction of: (i) hydroxystyrene moiety having formula [1] or [2]:    wherein x is an integer from 2 to 300; with (ii) a monomethylolated phenolic compound having a formula [8]:    wherein R₁ and R₂ are individually selected from the group consisting of lower alkyl group having 1-4 carbon atoms, lower alkoxy group having 1-4 carbon atoms, amino group, and carboxylic acid group;    wherein R₃ and R₄ are individually selected from the group consisting of hydrogen, lower alkyl group having 1-4 carbon atoms, lower alkoxy groups having 1-4 carbon atoms, an amino group, and a carboxylic group; and wherein a mole ratio of the hydroxy- styrene moiety to the monomethylolated phenolic compound is from about 1:10 to about 10:1; (b) at least one alkaline dissolution inhibitor containing acid-cleavable groups; and (c) at least one compound that results in generation of an acidic moiety under irradiation.

  一种化学放大型辐射敏感组合物，包括 (a) 一种碱溶性粘合剂树脂，由下列物质通过缩合反应制成 (i) 具有式[1]或[2]的羟基苯乙烯分子： 其中 x 为 2 至 300 的整数；与 (ii) 式[8]的单甲醇化酚类化合物： 其中 R₁ 和 R₂ 各自选自由 1-4 个碳原子的低级烷基、1-4 个碳原子的低级烷氧基、氨基和羧酸基组成的组； 其中 R₃ 和 R₄ 单独选自由氢、1-4 个碳原子的低级烷基、1-4 个碳原子的低级烷氧基、氨基和羧基组成的组；以及羟基苯乙烯分子与单甲醇化酚类化合物的摩尔比为约 1:10 至约 10:1； (b) 至少一种含有可酸解基团的碱性溶解抑制剂；以及 (c) 至少一种能在辐照下产生酸性分子的化合物。
• Photoresist compositions containing supercritical fluid fractionated polymeric binder resins
  申请人：OCG MICROELECTRONIC MATERIALS, INC.

  公开号：EP0727711A2

  公开（公告）日：1996-08-21

  A photoresist composition comprising either an admixture or a reaction product of: (a) at least one photosensitive compound selected from the group consisting of a photoactive compound, photo acid generators, and mixtures thereof; and (b) at least one polymeric binder resin fractionated with a supercritical fluid.

  一种光致抗蚀剂组合物，由以下物质的混合物或反应产物组成： (a) 至少一种光敏化合物，选自由光活性化合物、光酸生成物及其混合物组成的 组；以及 (b) 至少一种用超临界流体分馏的聚合物粘合剂树脂。