3,5-dinitro-2,6-dimethylol-p-cresol | 156424-34-9

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 酚类
• 英文名称: 3,5-dinitro-2,6-dimethylol-p-cresol
• 英文别名: 2,6-Bis(hydroxymethyl)-4-methyl-3,5-dinitrophenol
• CAS: 156424-34-9
• 化学式: C₉H₁₀N₂O₇
• 分子量: 258.188
• InChiKey: FZSKYEAYQUJQAH-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.4
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  152
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2-羟基-5-甲基间苯二甲醇 在 硝酸 作用下， 以 水 为溶剂， 以71.2%的产率得到3,5-dinitro-2,6-dimethylol-p-cresol
  参考文献：
  名称：

  neep UV sensitive photoresist resistant to latent image decay

  摘要：

  公开号：

  EP0614121B1

文献信息

• Deep uv sensitive photoresist resistant to latent image decay
  申请人：MORTON INTERNATIONAL, INC.

  公开号：EP0614121A1

  公开（公告）日：1994-09-07

  A positive working deep UV sensitive photoresist which provides improved critical dimension stability during prolonged periods of post exposure delay before baking comprises an acid stable polymer which is insoluble in water but normally soluble in an aqueous alkaline medium, a photo acid generator exemplified by the tri-(2,1,4-diazonaphthoquinonesulfonate) ester of 3,5-dinitro-2,6-dimethylol para cresol, and a mixed carbonate ester of tertiary butyl alcohol and a polyhydric phenol which is an acid labile compound which inhibits the dissolution of the normally soluble polymer in said alkaline medium.

  一种正向工作深度紫外线敏感光致抗蚀剂可在烘烤前的长时间曝光后延迟期间提供更好的临界尺寸稳定性，它包括一种不溶于水但通常可溶于水性碱性介质的酸稳定聚合物、一种光酸发生器，例如 3-（2.A.）-1,4-二氮杂萘醌磺酸酯和 3,5-二硝基-2,6-二甲醇对甲酚的混合碳酸酯、3,5-二硝基-2,6-二甲醇对甲酚的三(2,1,4-二氮杂萘醌磺酸盐)酯，以及叔丁醇和多水酚的混合碳酸酯，后者是一种酸性化合物，可抑制通常可溶解的聚合物在所述碱性介质中的溶解。
• A source of photochemically generated acid for microelectronic photoresists
  申请人：MORTON INTERNATIONAL, INC.

  公开号：EP0614120B1

  公开（公告）日：1997-04-16
• US5308744A
  申请人：——

  公开号：US5308744A

  公开（公告）日：1994-05-03
• neep UV sensitive photoresist resistant to latent image decay
  申请人：HOECHST CELANESE CORPORATION

  公开号：EP0614121B1

  公开（公告）日：1996-07-31